王浙辉
- 作品数：11 被引量：7H指数：2
- 供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所更多>>
- 发文基金：国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信电气工程自动化与计算机技术更多>>
- 氢氧化钾溶液对(100)硅上<100>晶向的凸角补偿方法
- 本发明涉及一种氢氧化钾溶液对(100)硅上<100>晶向的凸角补偿方法，属于微机械领域。其特征在于本发明提出了“工”字形和“Y”形二种凸角补偿方法，给出相应的计算公式。“工”形补偿可获得方正的反射面，“Y”形...
- 李昕欣王浙辉王跃林
- 文献传递
- 一种底部三面保护的硅尖制作方法
- 本发明涉及一种硅尖的制作方法，更确切地说，涉及一种底部三面保护的制作硅尖方法，其特征在于：(1)在(100)硅片正面和背面，挖二条相交的槽，然后用二氧化硅保护槽的表面和硅片的正面和背面，形成二个侧面和一个硅片背面的三面保...
- 王浙辉王跃林
- 文献传递
- 硅KOH腐蚀<100>晶向凸角补偿技术及应用被引量：4
- 2005年
- 在(100)硅上制作边沿<100>晶向的长方形掩模,用KOH各向异性腐蚀液腐蚀可制得竖直微镜,这种微镜存在凸角削角问题。研究了边沿<100>晶向掩模的凸角补偿技术,提出了2种凸角补偿图形,并应用于竖直微镜制作。实验表明“工”形补偿可获得方正的反射面;“Y”形补偿的微镜,反射面呈底角为75.96°的梯形。经补偿后的微镜,可提高光开关切换光束效率。讨论了(100)硅的<100>晶向掩模凸角补偿技术应用于微机械加速度计质量块制作的可能性。
- 王浙辉李昕欣王跃林
- 关键词：各向异性腐蚀微机械加工
- 大位移自对准光开关微动作器的模拟和制作被引量：3
- 2003年
- 报导了一种新型静电驱动扭转梁大位移微机械光开关微动作器的模拟、设计和制作。模拟结果表明,该微动作器的第一模态频率远低于第二模态,镜子的位移由梁的扭转引起。在32.8V的电压驱动下,上电极的前端位移是69.6μm,镜子的有效位移是57μm。测到第一模态频率是500Hz。利用本结构可成功地解决开关速度和大位移的矛盾。这样的位移足够使用Corning OptiFocus Collimating Lensed Fiber来对准,从而获得低插入损耗。
- 王浙辉李铁王跃林
- 关键词：光开关大位移静电驱动微机械光通信自对准
- 1×2，2×2机械光开关
- 王跃林李铁吴亚明杨艺榕解健芳向民唐衍哲王东平王文辉王浙辉陈思琴
- 该项目采用微机械加工技术，研制了三种1×2光开关。其原理分别为：①（100）垂直镜面自对准光开关，采用在（100）硅片上腐蚀出垂直的（100）镜面和自对准的光纤V型槽，并采用特殊的抛光技术提高表面质量，通过静电力导致微镜...
- 关键词：
- 关键词：微机械光开关光通信
- 静电驱动光开关结构和位移的在线测量
- 本文报道了利用测量显微镜和WYKO搭建的微机械测试台.利用该测试台测得了静电驱动的光开关竖直方向位移.实验表明,利用静电力作为微吸引力,可测得复杂的悬空结构尺寸.测量数据能和扫描电镜测量数据符合.本方法具有测量速度快的特...
- 王浙辉王跃林
- 关键词：光开关
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- 氢氧化钾溶液对(100)硅上〈100〉晶向的凸角补偿方法
- 本发明涉及一种氢氧化钾溶液对(100)硅上<100>晶向的凸角补偿方法，属于微机械领域。其特征在于本发明提出了“工”字形和“Y”形二种凸角补偿方法，给出相应的计算公式。“工”形补偿可获得方正的反射面，“Y”形...
- 李昕欣王浙辉王跃林
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- 一种底部三面保护的硅尖制作方法
- 本发明涉及一种硅尖的制作方法，更确切地说，涉及一种底部三面保护的制作硅尖方法，其特征在于：(1)在(100)硅片正面和背面，挖二条相交的槽，然后用二氧化硅保护槽的表面和硅片的正面和背面，形成二个侧面和一个硅片背面的三面保...
- 王浙辉王跃林
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- 一种扭转梁大位移的微机械光开关
- 本实用新型涉及一种微机械光开关，属于微机械领域。其特征在于(1)上、下两电极分别位于二个形状相似的二个外框架内，含上电极的上外框架放在另一外框架上面，彼此由绝缘氧化物层绝缘；(2)4个V型槽位于上电极所在的外框架的上表面...
- 王浙辉李铁王跃林
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- 硅基微机械光开关研究
- 为了制作低插入损耗、低驱动电压、高消光比、高开关速度并且适合集成工艺批量制作的光纤通信用光开关,该文基于硅微机械加工技术,设计并制作了一种静电驱动的、扭转梁大位移的、竖直微镜自对准的2×2光开关.该文首先围绕光开关的关键...
- 王浙辉
- 关键词：微机械光开关插入损耗
- 文献传递
