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王笑然

作品数：1 被引量：5H指数：1
供职机构：东北微电子研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇离子注入
  • 1篇离子注入工艺
  • 1篇BEAM

机构

  • 1篇东北微电子研...

作者

  • 1篇高松
  • 1篇王笑然

传媒

  • 1篇微处理机

年份

  • 1篇2004
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
离子注入工艺各个参数的调整被引量：5
2004年
本文以美国 EATON公司的中束流注入机为例 ,阐述了 IC芯片生产过程中离子注入工艺如何实现高质量注入 ;标准注入参数的调整 ,以及实现高速注入所应采取的各种手段 ,尽量发挥离子注入机的潜能 ,使中束流注入机也可以注入大束流 ,在生产上实现高速机动 ,加快了工艺流程。
王笑然高松
关键词：BEAM
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共1页<1>
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