赵兴荣
- 作品数：39 被引量：65H指数：4
- 供职机构：华中理工大学光电子工程系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程一般工业技术电气工程更多>>
- 折射微透镜制备中离子束刻蚀过程的计算机模拟被引量：1
- 2000年
- 建立氩离子束对光刻胶微透镜的刻蚀模型 ,模拟折射微透镜制备中的离子束刻蚀工艺过程。通过模拟可以预先获得离子束在不同倾斜入射状态下所得到的折射微透镜的截面轮廓 ,为优化离子束的刻蚀工艺奠定基础 ,同时也可以确定刻蚀过程的终点时刻。
- 陈长虹易新建赵兴荣
- 关键词：微透镜离子束刻蚀计算机模拟
- 离子束刻蚀YBCO超导薄膜
- 1993年
- 该文报道了用Ar^+离子束刻蚀Y_1Ba_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜,得到线宽40、20和10μm的微桥图案,刻蚀后的微桥Tc基本没有下降,微桥的SEM照片显示图案边缘清晰,该实验研究了刻蚀参数对薄膜刻蚀速率的影响.
- 程政赵兴荣周方桥郝建华麦哲洪
- 关键词：离子束刻蚀超导薄膜
- 用于红外焦平面的微透镜阵列单片制备技术被引量：6
- 1996年
- 提出了离子束刻蚀制备微透镜阵列的工艺原理；研究了球面型光致抗蚀剂掩膜的形成过程以及硅微透镜离子束刻蚀的实验条件．表面探针测量及扫描电子显微镜（ＳＥＭ）实验证明了该技术可在较低的衬底温度下（低于２００℃）有效地制备出球面型微透镜，并用表面探针测量确定了硅微透镜的尺寸．
- 麦志洪易新建赵兴荣郝建华
- 关键词：红外焦平面单片式红外探测器
- 微透镜阵列的离子束溅射刻蚀研究
- 1997年
- 微透镜阵列的离子束溅射刻蚀研究张新宇易新建赵兴荣麦志洪何苗（华中理工大学光电子工程系武汉４３００７４）刘鲁勤（航天部二院２５所北京１００５８４）利用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）和表面探针测试，分析了采用离子束溅射刻蚀技术所制作的石英微透镜阵列器件的表面微...
- 张新宇易新建赵兴荣麦志洪何苗刘鲁勤
- 关键词：离子束阵列器件扫描电子显微镜表面微观形貌光致抗蚀剂
- 超导红外／毫米波多功能传感器研究
- 1994年
- 该文论述了超导红外／毫米波多功能传感器的原理以及我们利用ＹＢａＣｕＯ超导薄膜制备该传感器的实验结果。器件对８─１４μｍ红外辐射的比探测度Ｄ达１．５×１０９ＣｍＨｚ，响应率为３．８×１０３Ｖ／Ｗ；对８ｍｍ波．其等效噪声功率为６．９×１０（－１０）ＷＨｚ（－１）．响应率为４０６Ｖ／Ｗ。此外，观察了器件对８ｍｍ波响应信号与偏置电流，调制频率及辐射功率的关系。
- 孙汉东周方桥郝建华麦志洪赵兴荣易新建
- 关键词：超导薄膜红外探测器毫米波传感器
- 利用离子束技术原位制备高温超导薄膜被引量：1
- 1993年
- 超导薄膜是高温超导材料弱电应用的关键技术。目前磁控溅射(包括直流和射频)和激光淀积方法已被广泛应用获得高温超导薄膜。相比这两种常用制膜方法,离子束溅射(IBS)具有独特优势。IBS工作气压很低,靶与衬底间不存在外加电场,减少了薄膜中杂质,消除了普通等离子体溅射方法中负离子反溅射有害效应。同时也不存在激光淀积薄膜均匀性差、薄膜中颗粒较大等缺点,是一种很有发展前途的制膜手段。
- 郝建华赵兴荣周方桥易新建李再光
- 关键词：离子束溅射超导体高TC
- YBa_2Cu_3O_(7-x)高温超导薄膜在转变温区光响应机理研究被引量：1
- 1992年
- 自从1986年发现高温氧化物超导体以来,超导材料在液氮温区的实用成为可能,超导应用的一个重要领域是制备超导光学探测器件。这种器件无论以测辐射热还是以约瑟夫逊结模式,都具有响应波段宽(从可见光到毫米波)、噪声小、功耗低等优异性能。由于YBa_2Cu_3O_(7-x)高温氧化物超导材料的结构特性不同于低温超导体。
- 郝建华周方桥赵兴荣孙汉东王玲杰易新建
- 关键词：高TC超导体YBACUO光响应
- 面阵硅场发射阵列的离子束刻蚀被引量：1
- 1998年
- 利用光刻热熔法及氩离子束刻蚀技术制作１２８×１２８元面阵硅场发射器件，采用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）和表面探针等测试手段分析所制成的面阵硅微尖阵列和硅微台（微环尖）阵列的表面微结构形貌特点．所制成的面阵硅微尖和硅微台（微环尖）器件的图形整齐均匀，达到了预定的各项指标的要求．实验表明，所采用的器件制作方法有较大的实用价值．
- 张新宇赵兴荣易新建张智
- 关键词：场发射离子束刻蚀
- 线列混合型石英微透镜/红外探测器阵列的研究被引量：3
- 1998年
- 阐述了利用离子束刻蚀技术制作线列长方状拱面石英微透镜阵列的工艺方法，对所制微光学元件的光学性能进行了测试和讨论，所制成的石英微透镜阵列器件在线列ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ７－δ高Ｔｃ超导薄膜红外探测器上得到了应用。实验结果表明，混合型的石英微透镜／红外探测器结构显著改善了线列ＹＢＣＯ高温超导薄膜红外探测器的光响应特性。
- 张新宇易新建赵兴荣赵兴荣何苗刘鲁勤
- 关键词：离子束刻蚀微透镜阵列YBCO红外探测器
- 线列熔融石英微透镜阵列的光刻和氩离子束刻蚀制备被引量：12
- 1998年
- 采用光刻和熔融成形法制备线列长方形供面光致抗蚀剂微透镜图形，采用固化技术对其作重整化处理，采用氩离子（Ar＋）束刻蚀有效地实现线列长方形拱面光致抗蚀剂微透镜图形阵列向熔融石英（SiO2）基片上转移。所制单元熔融石英微透镜底部的外形尺寸为300×95μm2，平均冠高14．3μm，平均曲率半径为86μm，平均焦距为258．1μm平均F／数2.7,平均大T／数2．9；平均光焦度5．8×10(－3)折光度。扫描电子显微镜（SEM）和表面探针测试表明，所制成的线列熔融石英微透镜阵列的图形整齐均匀，每个单元长方形拱面熔融石英微透镜的轮廓清晰，表面光滑平整。实验结果证实，光刻／氩离子束刻蚀技术适用于制备具有良好的均匀性和光学质量的单片熔融石英微透镜阵列器件，此技术对于制备与大面阵凝视焦平面成像探测器相匹配的大面降微透镜阵列具有重要意义。
- 张新宇易新建赵兴荣麦志洪何苗刘鲁勤
- 关键词：光刻微透镜微光学元件
