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唐华杰
唐华杰
作品数:
5
被引量:14
H指数:2
供职机构:
贵州大学大数据与信息工程学院新型光电子材料与技术研究所
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发文基金:
贵州省优秀科技教育人才省长资金项目
国家自然科学基金
贵州省科技攻关计划
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相关领域:
理学
自动化与计算机技术
电子电信
一般工业技术
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合作作者
张晋敏
贵州大学理学院新型光电子材料与...
谢泉
贵州大学大数据与信息工程学院新...
金浩
贵州大学理学院新型光电子材料与...
邵飞
贵州大学大数据与信息工程学院新...
熊锡成
贵州大学理学院新型光电子材料与...
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溅射
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磁控
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磁控溅射
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异质结
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圆偏振
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偏振
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椭圆偏振光
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椭圆偏振光谱
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金属锰
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溅射功率
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光学
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机构
2篇
贵州大学
作者
2篇
唐华杰
2篇
金浩
2篇
张晋敏
1篇
邵飞
1篇
谢泉
1篇
郑旭
1篇
张立敏
1篇
熊锡成
传媒
1篇
物理学报
1篇
纳米科技
年份
2篇
2013
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β-FeSi2/Si异质结的伏安特性分析
2013年
用磁控溅射方法制备β-FeSi2/Si异质结,在分析其伏安特性的基础上探索其是否适合制备红外探测器,XRD、SEM分析表明,该方法能得到纯净、表面平整的β-FeSi2/Si薄膜;在室温下异质结的I—V特性具有很好的整流特性,整流效率约为Idirect/Ireverse~10^2,分流电阻约为38.4kΩ,零偏压下的电流响应率约为26μA/W。推算结果表明,该异质结的红外探测率约为1.479×10^9cm·√Hz/W,适合用于制备红外探测器。
张立敏
张晋敏
郑旭
熊锡成
唐华杰
金浩
关键词:
磁控溅射
Β-FESI2
SI异质结
伏安特性
溅射功率对金属锰膜光学性质的影响
被引量:2
2013年
采用磁控溅射方法在Si(111)基片上制备金属锰膜,用椭圆偏振光谱在入射光子能量为2.0—4.0 eV范围内研究了溅射功率对薄膜光学性质的影响.利用德鲁得-洛伦兹色散模型对椭偏数据进行拟合,结果表明在测量范围内随溅射功率增加薄膜的折射率减小;消光系数随入射光子能量增加先增加后减小,在3.0 eV附近处出现极大值,并且极大值所处的位置随溅射功率增加而向低能方向移动,这主要与溅射沉积的锰薄膜的质量有关,且随溅射功率的增加薄膜的消光系数逐渐趋近于金属锰的数值.研究结果还表明溅射功率的增加减少了薄膜中的空隙,有利于薄膜的生长.
唐华杰
张晋敏
金浩
邵飞
胡维前
谢泉
关键词:
磁控溅射
椭圆偏振光谱
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