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唐华杰

作品数：5 被引量：14H指数：2
供职机构：贵州大学大数据与信息工程学院新型光电子材料与技术研究所更多>>
发文基金：贵州省优秀科技教育人才省长资金项目国家自然科学基金贵州省科技攻关计划更多>>
相关领域：理学自动化与计算机技术电子电信一般工业技术更多>>

合作作者

题名
作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇异质结
  • 1篇圆偏振
  • 1篇圆偏振光
  • 1篇特性分析
  • 1篇偏振
  • 1篇偏振光
  • 1篇偏振光谱
  • 1篇椭圆偏振
  • 1篇椭圆偏振光
  • 1篇椭圆偏振光谱
  • 1篇洛伦兹
  • 1篇金属
  • 1篇金属锰
  • 1篇溅射功率
  • 1篇光谱
  • 1篇光学
  • 1篇光学性

机构

  • 2篇贵州大学

作者

  • 2篇唐华杰
  • 2篇金浩
  • 2篇张晋敏
  • 1篇邵飞
  • 1篇谢泉
  • 1篇郑旭
  • 1篇张立敏
  • 1篇熊锡成

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇纳米科技

年份

  • 2篇2013
共 5 条 记 录，以下是 1-2
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β-FeSi2/Si异质结的伏安特性分析
2013年
用磁控溅射方法制备β-FeSi2/Si异质结，在分析其伏安特性的基础上探索其是否适合制备红外探测器，XRD、SEM分析表明，该方法能得到纯净、表面平整的β-FeSi2/Si薄膜；在室温下异质结的I—V特性具有很好的整流特性，整流效率约为Idirect／Ireverse～10^2，分流电阻约为38．4kΩ，零偏压下的电流响应率约为26μA／W。推算结果表明，该异质结的红外探测率约为1．479×10^9cm·√Hz/W，适合用于制备红外探测器。
张立敏张晋敏郑旭熊锡成唐华杰金浩
关键词：磁控溅射Β-FESI2SI异质结伏安特性
溅射功率对金属锰膜光学性质的影响被引量：2
2013年
采用磁控溅射方法在Si(111)基片上制备金属锰膜,用椭圆偏振光谱在入射光子能量为2.0—4.0 eV范围内研究了溅射功率对薄膜光学性质的影响.利用德鲁得-洛伦兹色散模型对椭偏数据进行拟合,结果表明在测量范围内随溅射功率增加薄膜的折射率减小;消光系数随入射光子能量增加先增加后减小,在3.0 eV附近处出现极大值,并且极大值所处的位置随溅射功率增加而向低能方向移动,这主要与溅射沉积的锰薄膜的质量有关,且随溅射功率的增加薄膜的消光系数逐渐趋近于金属锰的数值.研究结果还表明溅射功率的增加减少了薄膜中的空隙,有利于薄膜的生长.
唐华杰张晋敏金浩邵飞胡维前谢泉
关键词：磁控溅射椭圆偏振光谱
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