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李忠吉

作品数:3 被引量:16H指数:3
供职机构:北京科技大学材料科学与工程学院材料物理与化学系更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇位错
  • 3篇位错发射
  • 2篇动力学
  • 2篇动力学模拟
  • 2篇分子
  • 2篇分子动力学
  • 2篇分子动力学模...
  • 2篇
  • 1篇体缺陷
  • 1篇位错运动
  • 1篇晶体
  • 1篇晶体缺陷
  • 1篇NI
  • 1篇TEM
  • 1篇
  • 1篇
  • 1篇
  • 1篇纯镍
  • 1篇I

机构

  • 3篇北京科技大学

作者

  • 3篇李忠吉
  • 3篇乔利杰
  • 3篇褚武扬
  • 2篇李金许
  • 2篇高克玮
  • 1篇刘辉
  • 1篇王燕斌

传媒

  • 2篇金属学报
  • 1篇自然科学进展

年份

  • 2篇2002
  • 1篇2001
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
氢促进位错发射和裂纹扩展的三维分子动力学模拟被引量:8
2002年
对纯Ni和Ni+H,用EAM多体势的三维分子动力学模拟表明,不论裂纹取向如何,加载时均是首先发射位错,只有当发射足够多的位错后裂纹才扩展,即使对于氢脆,也以局部塑性变形为先导,对于沿(111)滑移面的位错,氢使位错发射的应力强度因子K_(Ie)从0.42降为0.36MPa·m^(1/2);使裂纹开始扩展的临界应力强度因子K_(IP)从0.8降为0.76MPa·m^(1/2),总之,氢促进裂纹的发射和扩展。
李忠吉褚武扬高克玮李金许乔利杰
关键词:NI位错发射晶体缺陷
吸附促进位错发射、运动以及裂纹扩展的分子动力学模拟被引量:5
2001年
根据反演法获得的对势和EAM多体势计算了纯Al位错发射的临界应力强度因子KIe以及Griffith裂纹解理扩展的临界应力强度因子 KIG.结果表明,用对势算出的值和断裂力学计算结果更相近. 因此,用对势来研究吸附的影响是可行的.分子动力学模拟表明,Ga吸附在裂纹表面将使 KIG=0.42 MPa·m降至 KIG=0.32 MPa·m,这表明吸附使表面能γ降至γ(=0.87γ).Ga吸附使 KIe=0.31 MPa·m降至 KIe=0.24 MPam;Ga吸附使位错运动的临界分切应力从Tc=2.05MPa降至Tc=1.82 MPa.这就表明,Ga吸附后能降低Al的表面能,从而促进位错发射和运动.
李忠吉刘辉高克玮乔利杰褚武扬
关键词:分子动力学模拟位错发射位错运动
氢促进纯镍位错发射的分子动力学模拟及实验证明被引量:3
2002年
采用 EAM多体势的分子动力学模拟表明,Ni中固溶的氢能使裂尖发射位错的临界应力强度因子KIe(θ=45°)从 1.00 MPa·m1/2降为 0.90MPam·1/2;使 KIe(θ=70°)从 0.82 MPa>·m1/2降为 0.70 MPa·m1/2,即氢能促进位错的发射 另外 氢能使(111)滑移面上的 Griffith裂纹解理扩展的临界应力强度因子KIG(θ=0°)从 1.03 MP·am1/2降为0.93 MPa·m1/2、即氢使(11)面的表面能下降 γ111(H)=0.82θθγ111;从而促进位错的发射 透射电#(TEM)原位观察表明,在氢致裂纹形核之前氢就能促进位错的发射和运动。
李忠吉李金许褚武扬王燕斌乔利杰
关键词:分子动力学模拟位错发射TEM
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