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赵彬

作品数：7 被引量：6H指数：2
供职机构：上海大学更多>>
发文基金：上海市科委纳米专项基金更多>>
相关领域：化学工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 2篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 5篇纳米压印
  • 5篇光刻
  • 5篇光刻胶
  • 4篇纳米
  • 3篇改性
  • 3篇改性剂
  • 3篇表面改性
  • 3篇表面改性剂
  • 2篇有机小分子
  • 2篇树脂
  • 2篇紫外纳米压印
  • 2篇小分子
  • 2篇固化树脂
  • 2篇分子
  • 2篇半导体
  • 2篇半导体制造
  • 2篇半导体制造技...
  • 1篇导电玻璃
  • 1篇电沉积
  • 1篇电沉积制备

机构

  • 7篇上海大学
  • 2篇上海市纳米科...

作者

  • 7篇赵彬
  • 5篇任鑫
  • 5篇张剑平
  • 4篇施利毅
  • 3篇王金合
  • 1篇张登松
  • 1篇刘玲玲
  • 1篇张静
  • 1篇周伟民

传媒

  • 2篇微纳电子技术

年份

  • 2篇2014
  • 4篇2012
  • 1篇2011
共 7 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
紫外纳米压印专用光刻胶的研制
张剑平张登松王金合任鑫赵彬张静周伟民刘玲玲
作为一种在发光二极管、高密度存储、太阳能电池、生物医学、光子晶体、塑料电子学、传感器等诸多领域均具有极强应用潜力的、革命性的微纳米尺度图案制作技术，纳米压印技术正受到各国科技界的广泛重视，该技术最吸引人的地方就是它像图章...
关键词：
关键词：光刻胶表面改性剂
含氟紫外纳米压印光刻胶的研制被引量：5
2012年
从主体树脂性质、光引发剂的选择、助剂的选择、溶剂的设计等多个方面论述了含氟纳米压印光刻胶的研制工艺。在纯有机材料为主体的光刻胶中引入了全氟丙烯酸酯助剂,解释了含氟助剂在光刻胶中的作用。使用接触角法评估了全氟丙烯酸酯对光刻胶表面性质的影响,并通过接触角数据预测了光刻胶的脱模能力。通过旋涂、压印、刻蚀等实验验证了光刻胶的性能,并通过实验数据筛选出了最佳配方。研制出的光刻胶样品图形保真度高、分辨率好,对底材有良好的黏附力,且具有良好的脱模能力。
赵彬周伟民张静刘彦伯王金合张燕萍施利毅张剑平
关键词：紫外纳米压印光刻胶接触角脱模
纳米压印光刻胶被引量：2
2011年
光刻胶是纳米压印的关键材料,其性能将影响压印图形复制精度、图形缺陷率和图形向底材转移时刻蚀选择性。提出了成膜性能、硬度黏度、固化速度、界面性质和抗刻蚀能力等压印光刻胶的性能指标。并根据工艺特点和材料成分对光刻胶分类,介绍了热压印光刻胶、紫外压印光刻胶、步进压印式光刻胶和滚动压印式光刻胶的特点以及碳氧类纯有机材料、有机氟材料、有机硅材料做压印光刻胶的优缺点。列举了热压印、紫外压印、步进压印工艺中具有代表性的光刻胶实例,详细分析了其配方中各组分的比例和作用。介绍了可降解光刻胶的原理。展望了压印光刻胶的发展趋势。
赵彬张静周伟民王金合刘彦伯张燕萍施利毅张剑平
关键词：氟聚合物有机硅聚合物
一步电沉积制备ZnO纳米棒阵列的方法
本发明涉及一种通过直流电沉积在透明导电玻璃上生长ZnO纳米棒阵列的方法。属于纳米光电器件制备技术领域。其步骤包括：首先，配制一定浓度的Zn(NO<Sub>3</Sub>)<Sub>2</Sub>水溶液；其次，采用直流电沉...
任鑫赵彬
文献传递
一种纳米压印光刻胶表面改性剂
本发明涉及一种纳米压印光刻胶表面改性剂，属于半导体制造技术光刻胶材料领域。该表面改性剂的组成和重量配比如下：有机小分子溶剂：65%-85% 全氟紫外固化树脂：10%-30% 表面活性剂0.5%-5%光引发剂0.1-0.5...
张剑平赵彬王金合任鑫施利毅
文献传递
一种纳米压印光刻胶表面改性剂
本发明涉及一种纳米压印光刻胶表面改性剂，属于半导体制造技术光刻胶材料领域。该表面改性剂的组成和重量配比如下：有机小分子溶剂：65%-85% 全氟紫外固化树脂：10%-30% 表面活性剂0.5%-5%光引发剂0.1-0.5...
张剑平赵彬王金合任鑫施利毅
一种磁控溅射制备TiO<Sub>2</Sub>纳米管薄膜的方法
本发明一种磁控溅射制备TiO<Sub>2</Sub>纳米管薄膜的方法，属于TiO<Sub>2</Sub>薄膜无机材料制备技术领域。具体的说，是一种通过多孔阳极氧化铝模板的限制，利用磁控溅射技术和退火处理制备TiO<Sub...
任鑫赵彬
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