郝晓培
- 作品数：6 被引量：2H指数：1
- 供职机构：重庆大学材料科学与工程学院更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划中央高校基本科研业务费专项资金更多>>
- 相关领域：一般工业技术建筑科学更多>>
- 磁控溅射TaNx/Ag/TaNx低辐射复合膜的性能
- 本文以银靶和钽靶为靶材,N2为反应气体,室温下采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积TaNx/Ag/TaNx复合膜系。运用紫外可见分光光度计(UV-VIS)、表面轮廓仪、傅里叶红外光谱仪(FTIR)、X射线衍射(XRD)等仪...
- 吴萌黄佳木郝晓培
- 关键词：低辐射透光率化学稳定性磁控溅射
- 磁控溅射TaNx/Ag/TaNx低辐射复合膜的性能
- 氮化钽薄膜具有很好的光学性能和优异的物理化学性能，如耐磨性好、硬度大、化学稳定性好。但鲜有将氮化钽薄膜应用于低辐射涂层的报道。本文设计了新型的TaNX/Ag/TaNX低辐射涂层，试验研究了膜层厚度、N2流量、Ta靶溅射功...
- 吴萌黄佳木郝晓培
- 关键词：射频磁控溅射法光学性能化学性能
- 文献传递
- 磁控溅射TaN_x/Ag/TaN_x低辐射复合膜的性能
- 吴萌黄佳木郝晓培
- 关键词：低辐射化学稳定性磁控溅射
- 制备工艺参数对TiN_x/Ag/TiN_x低辐射膜性能的影响被引量：2
- 2010年
- 采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积了TiNx/Ag/TiNx低辐射膜,研究了制备工艺参数对低辐射膜光学性能的影响以及低辐射膜的耐腐蚀性能。结果表明,TiNx薄膜可对膜系起到很好的保护作用,当膜系的TiNx保护层厚度为32nm、内层TiNx膜厚为16nm(氮气流量为55sccm)、Ag层厚度为16nm时,制备的低辐射膜系具有优良的透过率、低辐射性能和耐腐蚀性能。
- 蒋攀黄佳木郝晓培董思勤
- 关键词：低辐射透过率
- TiN_x/SiO_2/Ag/SiO_2低辐射膜耐H_2S气体的腐蚀性能
- 2011年
- 为了提高玻璃片上SiO2/Ag/SiO2复合膜的耐腐蚀性能,用磁控溅射法在其上制备了TiNx薄膜。采用X射线衍射(XRD)、扫描隧道显微镜(STM)研究了TiNx薄膜的结构及表面形貌;参照GB/T5137.3-2002电子产品硫化氢腐蚀的检验方法研究了TiNx/SiO2/Ag/SiO2低辐射膜耐H2S气体的腐蚀性能。结果表明:TiNx/SiO2/Ag/SiO2低辐射膜中,TiNx薄膜为较致密的非晶态结构,其厚度达到10 nm以上才能对Ag膜起到很好的保护作用;低辐射膜腐蚀前后的平均透过率变化不到5%;低辐射膜被H2S气体腐蚀后的产物主要为Ag2S和H2O,水分子的生成对其腐蚀有推动作用。
- 黄佳木郝晓培鞠明祥
- 关键词：磁控溅射耐腐蚀H2S气体
- TaNx/Ag/TaNx低辐射薄膜的制备及性能研究
- 低辐射玻璃具有很高的可见光透过率和远红外反射率，既能保证室内的采光要求又有很好的节能效果。随着低辐射玻璃在建筑物中的广泛应用以及对低辐射薄膜的深入研究，低辐射薄膜的稳定性逐渐成为目前的研究热点。从成本和性能方面考虑，目前...
- 郝晓培
- 关键词：射频磁控溅射法光学性能
- 文献传递
