冯啸
- 作品数：7 被引量：0H指数：0
- 供职机构：电子科技大学更多>>
- 相关领域：一般工业技术电气工程理学化学工程更多>>
- 连续生长的双面CeO2种子层均匀性研究
- 采用直流反应磁控溅射方法在轧制辅助双轴织构Ni-5at％w基带上。成功连续制备出可用作第二代高温超导带材过渡层的高质量双面CeO2种子层薄膜。x射线衍射表明薄膜均为(001)方向生长，并存在很强的内面外织构;原子力显微镜...
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- 关键词：涂层导体缓冲层磁控溅射高温超导
- 文献传递
- YBCO涂层导体用YSZ缓冲层的快速制备研究
- 2012年
- 基于反应直流溅射法,采用镶嵌有钇粒的金属锆作为靶材,去离子水蒸汽为氧化反应气体,在有Y2O3种子层的双轴织构Ni-5at.%W基带上,系统地研究了温度和卷绕速度对YSZ阻挡层薄膜结构及表面形貌的影响。X射线衍射(XRD)分析表明,生长温度在700℃时制备的薄膜呈现明显的(002)取向;原子力显微镜(AFM)分析显示,该温度下制备的薄膜表面致密、无孔洞、无裂纹。在不同的卷绕速度下,虽然薄膜均为纯c轴取向,但其均方根粗糙度(RMS)和微粒大小均有较大差别。快速制备可达到抑制基片表面氧化、助于薄膜取向改善、提高薄膜制备效率的目的。
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- 关键词：生长温度卷绕速度
- 高质量2英寸双面YBCO/MgO薄膜的批量化制备
- 2008年
- 开展了2英寸(5.08cm)MgO单晶基片上YBa2Cu3O7-δ(YBCO)薄膜的制备及工艺稳定性研究。通过对基片表面状态的研究,提出了高温退火处理基片的方法,改善了基片的表平整度,大幅度提高了薄膜的取向性以及结晶质量,制备得到的YBCO薄膜具有优越的超导电性,薄膜临界电流密度J(c77K,0T)≈2.5MA/cm2,微波表面电阻R(s10GHz,77K)≈0.16mΩ,能够满足超导滤波器的设计要求。另外,还就工艺的稳定性和可重复性进行了研究,表明电子科技大学已具有小批量化提供大面积双面YBCO样品的能力。
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- 关键词：YBCO超导薄膜退火可重复性
- 连续生长的双面CeO_2种子层均匀性研究
- 2008年
- 采用直流反应磁控溅射方法在轧制辅助双轴织构Ni-5at%W基带上,成功连续制备出可用作第二代高温超导带材过渡层的高质量双面CeO2种子层薄膜。X射线衍射表明薄膜均为(00l)方向生长,并存在很强的内面外织构;原子力显微镜表征缓冲层表面连续平整,颗粒致密无裂纹,通过对长样品两面和不同位置研究,表明所制备得到的双面薄膜具有很好的两面一致性和单面均匀性。采用相同的工艺条件生长YSZ中间层以及CeO2模版层得到CeO2/YSZ/CeO23层缓冲层结构。并在其短样上采用直流溅射生长YBCO薄膜进一步验证过渡层薄膜的质量,YBCO薄膜具有较高的结晶质量;其单面临界电流密度Jc达到1.3MA/cm2,双面带材临界电流Ic为113A/cm。在总厚度增加不大的情况下,双面带材的提出,能够使电流承载水平成倍增加,其工程电流密度大幅度增加,并有利于器件小型化。
- 熊杰陶伯万韩晓贺镜谭冯啸宋晓科张飞李言荣
- 关键词：直流反应磁控溅射
- 高质量2英寸双面YBCO/MgO薄膜的批量化制备
- 开展了2英寸(5.08 cm)MgO单晶基片上YBa2Cu3O7-δ(YBCO)薄膜的制备及工艺稳定性研究。通过对基片表面状态的研究，提出了高温退火处理基片的方法，改善了基片的表平整度，大幅度提高了薄膜的取向性以及结晶质...
- 熊杰陶伯万韩晓贺镜谭冯啸宋晓科张飞李言荣
- 关键词：超导薄膜退火超导电性电流密度
- 文献传递
- YBCO涂层导体用YSZ阻挡层的快速制备研究
- 钇系第二代高温超导带材因具有临界电流密度高、价格低廉、不可逆场高等诸多优点，所以备受各国科学家关注，成为近年来尖端科学领域的研究热点。随着YBCO长带材逐渐产业化，对其过渡层长度和制备速度的要求也越来越高。本文基于直流磁...
- 冯啸
- 关键词：生长温度YBCO涂层导体
- 文献传递
- 反应溅射法制备Y_2O_3种子层研究
- 2010年
- 采用直流磁控反应溅射法在双轴织构的镍钨合金(Ni-5%W)基带上生长Y2O3种子层。研究了由于水分压导致的金属靶材的氧化问题而引起反应溅射的迟滞效应,在其他最优工艺条件下通过水分压系列的试验,通过试验得出溅射电压和水分压的关系和溅射电流和水分压平衡点Pb的关系,以及水分压平衡点为反应溅射法制备Y2O3种子层薄膜的水分压最优化条件。在优化工艺条件下,反应溅射法可以制得C轴单一取向的Y2O3种子层,其面内外半高宽可达到3.874°和4.914°。
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- 关键词：反应溅射
