王鸿翔
- 作品数：27 被引量：14H指数：3
- 供职机构：淮安信息职业技术学院更多>>
- 发文基金：江苏省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：化学工程一般工业技术金属学及工艺理学更多>>
- 一种模具用的导柱安装机构
- 本实用新型公开了一种模具用的导柱安装机构，包括底板，底板顶部的四角均活动连接有安装块，安装块的底部贯穿至底板内腔，底板两侧的前侧和后侧均活动连接有拉环，拉环靠近底板的一侧固定连接有限位杆，所述限位杆靠近底板的一侧贯穿至底...
- 王鸿翔
- 文献传递
- 工件旋转式磨削大直径硅片技术的研究进展被引量：4
- 2006年
- 在分析单晶硅片的典型加工工艺基础上,介绍了基于工件旋转式磨削法的大直径硅片超精密加工技术的原理及特点,综述了该项技术的试验研究进展及建立的数学模型,分析了有限元法在工件旋转式磨削硅片研究中的应用,最后提出了工件旋转式磨削大直径硅片技术目前存在的问题和今后的发展趋势。
- 孙玉利左敦稳朱永伟布光斌王鸿翔
- 关键词：超精密加工平整度
- 工艺条件对金刚石膜红外透射率影响的研究被引量：1
- 2010年
- 为了优化金刚石沉积工艺,制备高透射率的CVD金刚石薄膜,采用傅里叶红外光谱仪对不同工艺条件下制备的CVD金刚石膜的红外透射率进行了测量,分析了不同工艺条件对金刚石膜红外透射率的影响,获得了最佳沉积参数.结果表明,金刚石膜的红外透射率与工艺条件密切相关,当衬底温度为750℃,碳源体积分数为2%,压强为2.5kPa时沉积的金刚石膜红外透射率最佳.
- 王鸿翔左敦稳卢文壮徐峰
- 关键词：CVD金刚石膜
- 小型化CVD金刚石膜沉积设备控制系统研究被引量：1
- 2007年
- 以新型的小型化CVD金刚石膜沉积设备为对象,设计了基于微控制器的集成控制系统,实现了对小型化设备无人看守状态下CVD金刚石膜的制备。阐述了采用混合信号SOC单片机C8051F020的系统硬件结构,实现了制备过程中各种物理量的实时采集。建立了基于模糊PID控制器混合算法的控制策略并对其进行优化。系统运用表明:该系统对沉积CVD金刚石的工艺参数控制精确,数据记录可靠,人机界面完善,系统能够长时间稳定运行,可以制备出高质量的CVD金刚石涂层。
- 钟磊卢文壮王鸿翔徐锋左敦稳
- 关键词：CVD金刚石控制系统小型化C8051F020模糊PID
- 多工位精密平口钳
- 本实用新型公开了一种多工位精密平口钳，包括“U”型底座和位于底座两凸台之间的移动钳块，移动钳块下端设有卡口，卡口一侧固接有一A螺母，A螺母内穿装一螺杆，螺杆一端连接在移动钳块的卡口内，另一端穿过底座一端凸台，用螺杆端盖固...
- 王宏臣王鸿翔刘永利张彦明
- 文献传递
- 一种热压缩风机
- 本实用新型公开了一种热压缩风机，包括风机壳体，所述风机壳体内转动连接有叶轮，所述叶轮的一端与电机传动连接，所述风机壳体背向电机的一侧端面中心连通设有进风管，所述风机壳体的弧形侧壁上连通设有出风管，所述叶轮面向电机的一端与...
- 孙少东周兵盛定高李明金王鸿翔陈兆兵
- 文献传递
- 一种导电碳纳米管的制备方法
- 本发明公开了一种导电碳纳米管的制备方法，步骤为：S1、称取催化剂溶于有机碳源中，静置石英玻璃片20h以上，推入管式炉反应器中；S2、室温下通入N<Sub>2</Sub>排除管式炉反应器内的空气，继续通入N<Sub>2</...
- 王鸿翔
- 文献传递
- 模具表面涂层制备装置及其使用方法
- 本发明公开了模具表面涂层制备装置及其使用方法，包括上端箱体、支撑架、调节机构、清洁装置，所述支撑架上端设置有所述上端箱体，所述调节机构安装在所述上端箱体内侧，所述清洁装置安装在所述上端箱体后端，所述烘干装置安装在所述上端...
- 王鸿翔
- 文献传递
- 一种卤水蒸发罐的锥形捕沫器
- 本实用新型公开了一种卤水蒸发罐的锥形捕沫器，包括卤水蒸发罐，所述卤水蒸发罐的侧部设有进液管，卤水蒸发罐的顶部设有蒸发管，所述卤水蒸发罐内位于进液管与蒸发管之间设有捕沫器，所述捕沫器为向下凹陷的锥形结构。从上述结构可知，本...
- 孙少东周兵盛定高李明金王鸿翔陈兆兵
- 文献传递
- 一种注射模具自动顶出机构
- 本实用新型公开了一种注射模具自动顶出机构，包括定模板、定模座板、浇口套、动模板、动模垫板、垫块和顶出机构，定模板位于定模座板的下表面且与定模座板固定连接，定模座板的上表面固定连接有浇口套，定模板的下方设有接触连接的动模板...
- 王鸿翔
- 文献传递
