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肖江

作品数：41 被引量：47H指数：4
供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划中国工程物理研究院发展基金中国工程物理研究院科学技术发展基金更多>>
相关领域：化学工程核科学技术理学电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 17篇期刊文章
  • 17篇专利
  • 6篇会议论文

领域

  • 17篇化学工程
  • 7篇核科学技术
  • 2篇理学
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇文化科学

主题

  • 15篇电镀
  • 10篇微球
  • 6篇镀槽
  • 6篇镀液
  • 6篇聚变
  • 6篇惯性约束
  • 6篇惯性约束聚变
  • 6篇金
  • 5篇镀层
  • 5篇球壳
  • 5篇化学镀
  • 4篇电沉积
  • 4篇亚硫酸
  • 4篇亚硫酸盐
  • 4篇金镀层
  • 4篇空腔
  • 4篇快点火
  • 3篇镀铜
  • 3篇下沉式
  • 3篇金属

机构

  • 40篇中国工程物理...
  • 4篇西南科技大学
  • 2篇电子科技大学

作者

  • 40篇肖江
  • 22篇周兰
  • 20篇张云望
  • 19篇张超
  • 17篇尹强
  • 17篇万小波
  • 14篇卢春林
  • 12篇张伟
  • 11篇李娃
  • 10篇张林
  • 9篇杜凯
  • 7篇苏琳
  • 6篇李婧
  • 5篇王宇光
  • 5篇徐嘉靖
  • 5篇乐玮
  • 4篇朱方华
  • 4篇任洪波
  • 4篇张帅
  • 2篇蒋柏斌

传媒

  • 6篇强激光与粒子...
  • 5篇材料保护
  • 3篇原子能科学技...
  • 2篇电镀与涂饰
  • 2篇第九届全国电...
  • 1篇中国无机分析...
  • 1篇第八届全国核...

年份

  • 2篇2024
  • 2篇2023
  • 3篇2022
  • 3篇2021
  • 2篇2020
  • 1篇2019
  • 3篇2018
  • 3篇2013
  • 3篇2012
  • 2篇2010
  • 2篇2008
  • 1篇2007
  • 5篇2006
  • 5篇2005
  • 3篇2004
共 41 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
亚硫酸盐制备微型金空腔工艺的研究
本文介绍了以亚硫酸铵溶液为附加盐的镀金液制备高质量的惯性约束聚变(ICF)微型金腔的工艺条件和方法.研究了主盐浓度、温度、阴极电流密度、pH值等因素对镀液的电流效率、沉积速度和镀层质量的影响.确定工艺条件为:主盐浓度25...
周兰万小波肖江张伟任洪波
关键词：电镀
文献传递
微小精密金属零件腐蚀用恒温洁净柜
本实用新型提供一种微小精密金属零件腐蚀用恒温洁净柜，包括主箱体、设置在所述主箱体底部的箱体底座和设置在所述主箱体顶部的吸气泵；箱体底座的侧端面上设有箱体进风口，所述箱体底座为中空结构，所述主箱体底部端面设有与所述箱体底座...
肖江卢春林张超张云望尹强张伟张帅李娃苏琳
文献传递
镍钨合金镀层结构的研究被引量：7
2005年
采用硫酸镍、钨酸钠和柠檬酸三钠为基本组分的镀液,通过电镀的方法在紫铜试片上沉积得到了镍钨合金镀层。讨论了电解液的组成、阴极电流密度、温度及pH值对镀层组成和结构的影响。根据X射线衍射试验结果,研究了镀层结构的形成过程。结果表明,该Ni W镀层是以Ni为溶剂原子、W为溶质原子的置换型固溶体结构,随着镀层中W含量的增加,晶粒尺寸明显下降,晶粒逐渐细化。
万小波张林周兰肖江
关键词：电沉积镍钨合金镀层非晶态X射线衍射
铜铁纳米多层膜电化学制备及GMR性能研究
本文采用单槽法控电位沉积技术在硅片上沉积了铜/铁纳米多层膜,测量了镀液的阴极极化曲线及电流-时间曲线,确定了沉积电位.并用扫描电镜(SEM)表征了多层膜的断面形貌,X射线衍射(XRD)谱图中强衍射峰的两侧出现了卫星峰,结...
万小波任洪波涂海燕周兰肖江修鹏张伟
关键词：纳米金属多层膜巨磁电阻电化学
文献传递
微尺寸壳层型零件金属模芯脱模用电解腐蚀装置
本发明公开了一种微尺寸壳层型零件金属模芯脱模用电解腐蚀装置，包括可以作X轴、Y轴方向移动的阴极系统，用于阳极工件定位夹持且可作Z轴方向移动和旋转移动的阳极系统，用于电解液循环、过滤、加热且流速可控的电解液循环过滤系统，用...
卢春林张云望尹强张超肖江苏琳李娃
文献传递
整体式空腔Cu靶的化学镀制备工艺被引量：2
2005年
对整体式空腔 Cu 靶的化学镀制备工艺和靶表面抗腐蚀处理进行了研究。选用有机玻璃(PMMA)作芯铀,对芯轴表面活化处理,在芯轴表面化学镀 Cu,再用苯骈三氮唑(C6H5N3)溶液钝化处理Cu靶表面,溶蚀芯轴,最终获得整体式空腔 Cu靶。该法工艺简单,制备费用较低,对惯性约束聚变研究所需其它金属或合金空腔靶的制备具有较高的参考价值。
刘继光万小波付渠周兰肖江
关键词：惯性约束聚变化学镀表面钝化
下沉式微球电镀装置
本实用新型提供了一种下沉式微球电镀装置，可以对在电镀溶液中会下沉的微球的表面电沉积金属的电镀装置。本实用新型的下沉式微球电镀装置中的阴极以镀槽底部中心为圆心固定于镀槽底部，阳极以镀槽中轴线为中心悬挂于机械搅拌桨上方，阳极...
张林张云望金容杜凯尹强乐玮周兰肖江张超
文献传递
微型空腔化学镀铜工艺研究
2008年
介绍了采用有机玻璃（聚甲基丙烯酸甲酯，PMMP）作基底，对施镀表面进行催化活化处理，沉积的铜再产生自身钝化作用而得到一定厚度的铜层制备微型铜空腔的工艺。讨论了化学镀液的主要成分对镀速及镀层质量的影响。结果表明，由此工艺所制备的铜层壁厚范围在10～30μm，长度在2mm左右，镀层铜含量大于95％，为制备惯性约束聚变（ICF）金属腔靶提供了一种新方法。
周兰万小波任洪波肖江张伟
关键词：化学镀有机玻璃空腔
直流电沉积制备纳米铜丝阵列研究
纳米材料与常规材料相比有着一系列优良的性能,它已经作为一类先进的材料而受到广泛的关注,将会成为许多工业应用的理想选择。电沉积法获得纳米晶体的方法可以分为直流电沉积、脉冲电沉积、复合共沉和喷射电沉积等技术。现在常使用的制备...
周兰杜凯肖江张伟
文献传递
空腔铜靶的化学镀制研究被引量：1
2005年
介绍了在预处理芯轴(聚甲基丙烯酸甲酯)表面采用化学镀的方法制备铜空腔的技术,研究了镀液中硫酸铜含量、甲醛含量,镀液pH值、温度等对化学镀铜沉积速率和溶液稳定性的影响.根据实验确定了适宜的化学镀铜工艺规范:硫酸铜质量浓度10～20 g/L,TART·K·Na质量浓度10～30 g/L,EDTA*2Na质量浓度10～28 g/L,甲醛体积浓度10～25 mL/L,添加剂质量浓度10 mg/L,pH值12～13,温度35～65 ℃.通过该工艺制备出的镀层厚度达到10～25 μm,均匀性达到95%,表面无砂眼、裂纹等缺陷,刻蚀芯轴后空腔能自持.该方法为ICF研究制备金属或合金材料靶提供了新的途径.
万小波张林周兰肖江
关键词：化学镀铜镀速镀液稳定性
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