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刘方元

作品数:1 被引量:0H指数:0
供职机构:清华大学信息科学技术学院电子工程系更多>>
发文基金:清华大学自主科研计划国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇多晶
  • 1篇多晶硅
  • 1篇曲面
  • 1篇溅射
  • 1篇反射率
  • 1篇高反膜
  • 1篇PDP
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇清华大学

作者

  • 1篇刘方元
  • 1篇胡强
  • 1篇赵勇
  • 1篇王健

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2013
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
基于多晶硅的曲面高反膜研究
2013年
本文提出并初步实现一种提高等离子显示面板(PDP)出光率的多层干涉型反射膜,其中高折射率材料采用金属诱导多晶硅,低折射率材料采用二氧化硅,并通过实验得到了可见光波段平均反射率为80%的平面高反膜。实验中采用半圆管替代实际PDP中的障壁结构,并且通过蒙特卡罗方法分析了粒子在磁控溅射中沉积到半圆管壁上的过程,得到了薄膜在样片不同圆心角处的厚度分布。模拟实验表明改善膜厚均匀性的主要途径是提高溅射气压。通过简易可靠的反射率测试系统,在红光波段对曲面上的薄膜进行了反射率测量,初步证明所提结构和制备方法的可行性。在0.7 Pa的气压下,溅射沉积得到的样品的反射率为50%~65%。
刘方元王健赵勇胡强
关键词:PDP反射率磁控溅射高反膜曲面
共1页<1>
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