吴强
- 作品数：21 被引量：16H指数：3
- 供职机构：华北电力大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划北京市自然科学基金更多>>
- 相关领域：电气工程电子电信一般工业技术更多>>
- 一种制备高导电率多晶硅薄膜的方法
- 本发明公开了属于多晶硅薄膜太阳电池技术领域的一种制备高导电率多晶硅薄膜的方法。该方法在异质衬底上，利用磁控溅射同时溅射多晶硅和石墨，制备出掺杂有一定碳的多晶硅薄膜。从而可以改善多晶硅薄膜的导电性。本发明的方法操作简单，便...
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- 文献传递
- 苏州示范区配电网规划研究
- 配电网是电力系统的重要组成部分，也是城市现代化建设的重要基础。目前城市配电网还存在供电可靠性低下、电网建设用地紧张等问题。在配电网规划中，如何既考虑当前需要又惠及长远的发展，合理地有效利用资源取得最大的效益，是各级决策者...
- 吴强
- 关键词：配电网规划设计负荷预测配电网自动化
- 石墨衬底上具有(220)/(400)择优取向多晶硅薄膜的制备及性质（英文）被引量：3
- 2015年
- 在石墨衬底上分别制备了具有(220)和(400)择优取向的多晶硅薄膜。首先利用磁控溅射技术直接在石墨衬底上制备非晶硅薄膜层,以及先制备Zn O过渡层,再在Zn O过渡层上制备非晶硅薄膜层;然后采用快速退火法对非晶硅薄膜晶化,使其形成多晶硅薄膜籽晶层。XRD测试表明,未引入Zn O过渡层的多晶硅薄膜籽晶层具有高度(220)择优取向,而引入Zn O过渡层的多晶硅薄膜籽晶层具有高度(400)择优取向;最后在多晶硅籽晶层上通过对流辅助化学气相沉积(Co CVD)制备多晶硅薄膜。根据SEM、XRD、拉曼测试表明,多晶硅薄膜的性质延续了多晶硅籽晶层的性质,未引入Zn O过渡层的样品,具有高度(220)择优取向。引入Zn O过渡层后的样品,具有高度(400)择优取向,(400)择优取向的转变有利于后续多晶硅薄膜太阳电池的制作。同时对Si(220)和Si(400)择优取向的形成原因做了初步分析。
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- 关键词：多晶硅薄膜氧化锌
- 一种利用可重复使用的衬底制备多晶硅薄膜的方法
- 本发明公开了属于多晶硅薄膜技术领域的一种利用可重复使用的衬底制备多晶硅薄膜的方法。在涂覆石墨薄膜的陶瓷板上，沉积多晶硅薄膜，采用退火方法分离多晶硅薄膜与衬底，制备出多晶硅薄膜。陶瓷板经涂覆石墨薄膜后可重复沉积多晶硅薄膜。...
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- 一种利用棒影图像实现太阳光跟踪的装置和方法
- 本发明属于太阳能光伏发电技术领域，特别涉及一种利用棒影图像实现太阳光跟踪的装置和方法。本发明通过CMOS摄像头采集锥形棒的阴影图像，经过图像去噪及灰度处理，计算出ABCD四个分区的阴影面积及非阴影区的平均亮度；根据非阴影...
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- 一种利用遮蔽法检测光伏发电系统故障点的方法
- 本发明公开了属于太阳能光伏发电系统故障检测领域的一种利用遮蔽法检测光伏发电系统故障点的方法。通过在日光照射条件下用遮光板对光伏发电系统组串中的光伏电池板实施外部遮蔽，测得不同遮挡下该串联支路的总电压的测量数列，进而对测量...
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- 一种利用可重复使用的衬底制备多晶硅薄膜的方法
- 本发明公开了属于多晶硅薄膜技术领域的一种利用可重复使用的衬底制备多晶硅薄膜的方法。在涂覆石墨薄膜的陶瓷板上，沉积多晶硅薄膜，采用退火方法分离多晶硅薄膜与衬底，制备出多晶硅薄膜。陶瓷板经涂覆石墨薄膜后可重复沉积多晶硅薄膜。...
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- 宽光谱均匀焦平面Fresnel透镜的设计方法
- 本发明属于太阳能高倍聚光镜领域，特别涉及一种宽光谱均匀焦平面Fresnel透镜的设计方法。本发明针对目前应用最为广泛的GaInP/GaInAs/Ge三结聚光电池，综合考虑其每个子电池的光谱响应特性及透镜材料折射率与波长的...
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- 一种利用棒影图像实现太阳光跟踪的装置和方法
- 本发明属于太阳能光伏发电技术领域，特别涉及一种利用棒影图像实现太阳光跟踪的装置和方法。本发明通过CMOS摄像头采集锥形棒的阴影图像，经过图像去噪及灰度处理，计算出ABCD四个分区的阴影面积及非阴影区的平均亮度；根据非阴影...
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- 一种利用遮蔽法检测光伏发电系统故障点的方法
- 本发明公开了属于太阳能光伏发电系统故障检测领域的一种利用遮蔽法检测光伏发电系统故障点的方法。通过在日光照射条件下用遮光板对光伏发电系统组串中的光伏电池板实施外部遮蔽，测得不同遮挡下该串联支路的总电压的测量数列，进而对测量...
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