阎明
- 作品数：2 被引量：0H指数：0
- 供职机构：华南理工大学更多>>
- 发文基金：广东省自然科学基金广州市科技攻关项目更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- 电弧离子镀AlN薄膜及其性能的研究
- AlN薄膜具有一系列优良的物理和化学性质,在电学、光学、声学和力学等方面有广阔的应用前景。目前,大多数成膜方法均已用于AlN薄膜的制备,电弧离子镀离化率高,沉积速度快,成膜温度低,成为工程技术领域应用最广泛的薄膜制备方法...
- 阎明
- 关键词：基底温度光电子直径尺寸有效面积
- 电弧离子镀制备透明(002)AlN薄膜
- 2009年
- 在电弧离子镀弧靶上加挡板,分别在挡板屏蔽区内、外用Si(100)和玻璃片作基片沉积出AlN薄膜。用扫描电镜(SEM),X射线衍射仪(XRD),X射线光电子能谱分析仪(XPS)和紫外可见光分光计对AlN薄膜的性能进行了研究。结果表明,在挡板屏蔽区内沉积出的AlN薄膜呈(002)择优取向,无大颗粒污染,在300～1000nm波长范围内透明;在挡板屏蔽区外的AlN薄膜呈(100)择优取向,含有Al污染颗粒,不透明。用电弧离子镀法沉积AlN,样品不需要额外加热就能获得晶态AlN薄膜,样品的温度升高来源于粒子对基底的轰击。
- 邱万奇阎明
- 关键词：电弧离子镀ALN薄膜挡板
