周立勋
- 作品数：3 被引量：8H指数：2
- 供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术电气工程更多>>
- BaTiO_3/CoFe_2O_4/BaTiO_3复合磁电薄膜生长及应力研究被引量：6
- 2007年
- 用激光分子束外延(LMBE)设备,在SrTiO3(001)基片上外延生长BaTiO3/CoFe2O4/BaTiO3多层复合磁电薄膜结构。通过反射式高能电子衍射(RHEED)对薄膜生长过程进行原位监测,结果显示,随着CoFe2O4厚度的增加薄膜内应力逐渐被释放,并且应力释放的过程导致了薄膜生长模式的变化。高分辨X射线衍射(XRD)发现,随着CoFe2O4厚度的增加,CoFe2O4对BaTiO3薄膜的张应力逐渐增大,BaTiO3晶胞的c轴晶格常数逐渐变小。理论计算给出了BaTiO3面外晶格常数c随CoFe2O4沉积时间的变化规律。原子力显微镜(AFM)对表面形貌进行表征,进一步证明了复合薄膜生长模式的变化。
- 周立勋朱俊黄文张鹰李言荣罗文博
- 关键词：界面应力RHEED
- NFO/PZT复合磁电薄膜生长制备及性能的研究被引量：2
- 2009年
- 采用脉冲激光沉积(PLD)法,在制备有SrRuO3底电极的SrTiO3(001)基片上生长高质量的NiFe2O4/Pb(Zr0.52Ti0.48)O3双层复合磁电薄膜。用X-射线衍射(XRD)对复合薄膜的微结构进行详细表征,结果表明,复合薄膜中NiFe2O4、Pb(Zr0.52Ti0.48)O3结晶良好,且具有单一的面外取向,Φ扫描模式显示NiFe2O4、Pb(Zr0.52Ti0.48)O3均延SrTiO3(001)方向外延生长。磁电性能表征结果表明,由于界面应力效应的作用,复合薄膜的铁电性较单层Pb(Zr0.52Ti0.48)O3明显减弱,而铁磁性基本保持NiFe2O4的软磁特性。
- 朱俊周玉棠张鹰周立勋
- 关键词：铁酸镍锆钛酸铅
- 铁电/铁磁异质复合薄膜中界面应力效应研究
- 铁电/铁磁异质复合材料因其巨大的应用潜力而受到研究者的广泛关注。此类材料不仅同时具有铁电性和铁磁性，而且还具有磁电耦合效应，利用这一效应，可以设计磁探测器、新功能存储器、磁电马达等多种新型器件。一般认为磁电耦合效应的产生...
- 周立勋
- 关键词：界面应力
