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李嘉珩

作品数：4 被引量：16H指数：1
供职机构：西安工业学院机电工程学院更多>>
相关领域：金属学及工艺机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇会议论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 4篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程

主题

  • 3篇电化学加工
  • 3篇掩膜
  • 3篇微细
  • 3篇微细电化学加...
  • 3篇光刻
  • 3篇光刻胶
  • 2篇微细加工
  • 1篇虚功原理
  • 1篇研磨加工
  • 1篇试验分析
  • 1篇内圆
  • 1篇脉宽
  • 1篇磨加工
  • 1篇厚度
  • 1篇磁力研磨
  • 1篇磁力研磨加工

机构

  • 4篇西安工业学院

作者

  • 4篇李嘉珩
  • 3篇范植坚
  • 3篇马保吉
  • 1篇陈显文
  • 1篇朱镭
  • 1篇白万民

传媒

  • 2篇中国兵工学会...
  • 1篇电加工与模具
  • 1篇中国电子学会...

年份

  • 4篇2004
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
内圆磁力研磨加工机理的研究
本文系统地分析了内圆磁力研磨加工的工作原理，建立了内圆磁力研磨加工设备的简化模型，结合虚功原理求解磁力研磨加工过程中的研磨压力，并对磁力研磨加工的研磨参数对研磨压力的影响进行了讨论。
陈显文白万民李嘉珩朱镭
关键词：磁力研磨虚功原理
文献传递
光刻胶掩膜微细电化学加工参数的试验研究被引量：16
2004年
对光刻胶掩膜微细电化学加工参数进行了试验分析研究 ,发现光刻胶厚度、开口角度、脉冲电源频率、脉宽及电解液配方对加工质量都有影响 ,在此基础上提出改善加工质量的可行性方案。
李嘉珩马保吉范植坚
关键词：微细电化学加工厚度试验分析光刻胶掩膜脉宽
影响掩膜微细电化学加工的关键技术
本文通过对光刻胶掩膜微细电化学加工的主要参数进行分析研究，发现光刻胶厚度、开口角度，脉冲电源频率、脉宽以及电解液配方都对加工结果的质量有影响，在此基础上提出改善加工质量的可行性方案。
李嘉珩马保吉范植坚
关键词：光刻胶微细加工电化学加工掩膜
文献传递
影响掩膜微细电化学加工的关键技术
本文通过对光刻胶掩膜微细电化学加工的主要参数进行分析研究,发现光刻胶厚度、开口角度,脉冲电源频率、脉宽以及电解液配方都对加工结果的质量有影响,在此基础上提出改善加工质量的可行性方案.
李嘉珩马保吉范植坚
关键词：光刻胶微细加工电化学加工
文献传递
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