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杨会生

作品数:77 被引量:113H指数:6
供职机构:北京科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金中央级公益性科研院所基本科研业务费专项国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术理学电子电信更多>>

文献类型

  • 34篇期刊文章
  • 32篇专利
  • 10篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 20篇金属学及工艺
  • 20篇一般工业技术
  • 13篇理学
  • 5篇电子电信
  • 4篇化学工程
  • 2篇机械工程
  • 1篇石油与天然气...
  • 1篇电气工程

主题

  • 27篇溅射
  • 27篇磁控
  • 24篇磁控溅射
  • 11篇反应磁控溅射
  • 9篇陶瓷
  • 8篇陶瓷基
  • 8篇合金
  • 6篇陶瓷基板
  • 6篇金属
  • 5篇氮化铝
  • 5篇导电薄膜
  • 5篇氧化铬
  • 5篇硬质
  • 5篇软磁
  • 5篇透明导电
  • 5篇透明导电薄膜
  • 5篇涂层
  • 5篇钎焊
  • 5篇离子
  • 5篇纳米

机构

  • 77篇北京科技大学
  • 3篇燕山大学
  • 3篇中航工业北京...
  • 3篇首都钢铁公司
  • 2篇广州有色金属...
  • 1篇北京有色金属...
  • 1篇西安微电子技...
  • 1篇中国科学院宁...

作者

  • 77篇杨会生
  • 40篇高克玮
  • 39篇庞晓露
  • 36篇王燕斌
  • 13篇熊小涛
  • 10篇罗庆洪
  • 8篇陆永浩
  • 7篇张珊珊
  • 6篇马如璋
  • 5篇乔利杰
  • 4篇杨杨
  • 4篇罗飞
  • 3篇张波萍
  • 3篇徐祖雄
  • 3篇于栋利
  • 3篇娄艳芝
  • 3篇何欣
  • 2篇涂国超
  • 2篇刘超
  • 2篇孙丽丽

传媒

  • 5篇真空科学与技...
  • 3篇科学通报
  • 3篇真空
  • 2篇现代科学仪器
  • 2篇真空电子技术
  • 2篇航空材料学报
  • 2篇科技信息
  • 2篇第七届全国腐...
  • 1篇北京科技大学...
  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇金属学报
  • 1篇物理学报
  • 1篇中国科学(A...
  • 1篇红外
  • 1篇红外技术
  • 1篇功能材料
  • 1篇中国表面工程
  • 1篇西安工业学院...
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇材料工程

年份

  • 1篇2023
  • 1篇2022
  • 2篇2021
  • 6篇2020
  • 3篇2019
  • 8篇2018
  • 3篇2016
  • 1篇2014
  • 4篇2013
  • 1篇2012
  • 3篇2011
  • 8篇2010
  • 2篇2009
  • 6篇2008
  • 7篇2007
  • 5篇2006
  • 3篇2005
  • 1篇2004
  • 2篇2003
  • 1篇2002
77 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种氧化铬复合涂层的制备方法
一种氧化铬复合涂层的制备方法,涉及硬质涂层的制备。本发明主要解决传统硬质涂层摩擦系数高、粘结强度差、耐腐蚀性差等问题,以及解决多金属元素复合涂层各金属元素比例难以控制的问题。提出采用非平衡射频反应磁控溅射系统和耐腐蚀性较...
高克玮庞晓露杨会生王燕斌
文献传递
磁控双靶反应共溅射(Ti,Al)N薄膜的研究被引量:14
2005年
采用磁控双靶反应共溅射技术制备出了(Ti0.5Al0.5)N耐磨硬质薄膜,其显微硬度高于35GPa,摩擦系数小于0.18。实验结果表明当N2流量较低时,(Ti,Al)N薄膜结构和性能随N2流量变化明显;当N2流量较高时,薄膜结构和性能变化缓慢。等离子体发射光谱仪(PEM)对磁控反应溅射过程监测结果表明,钛铝原子与氮原子反应存在一个临界点,低于临界点,磁控反应溅射为金属态溅射模式,高于临界点,磁控溅射向非金属态溅射模式转变,溅射速率降低。
闫梁臣熊小涛杨会生高克玮王燕斌
关键词:(TI,AL)N磁控共溅射等离子体发射光谱
一种纳米银浆提高陶瓷覆铜板可靠性的方法
本发明公一种纳米银浆提高陶瓷覆铜板可靠性的方法,包括以下步骤:(1)将陶瓷基片进行清洗(2)依次在陶瓷上下表面采用真空磁控溅射或离子镀Ti、Zr、Hf或Cr金属层,Cu金属层,并化学镀银;(3)在沉积了金属层的陶瓷基板两...
张珊珊杨会生高克玮颜鲁春庞晓露杨理航万晓玲靳卫超
文献传递
射频反应磁控溅射法制备ZnO:Al透明导电薄膜的光电性能
下采用射频(RF)反应磁控溅射技术在玻璃衬底上沉积具有(002)择优取向的透明导电Al掺杂ZnO(AZO)薄膜。XRD结果表明,制备的AZO薄膜为多晶,具有c轴择优取向。退火处理能提高其结晶度。在Al靶射频功率为40W,...
徐绍亮庞晓露杨会生张波萍
关键词:射频反应磁控溅射透明导电薄膜AZO薄膜光电性能
一种变温过程中陶瓷基板热应变的测量系统及方法
本发明提供了一种变温过程中陶瓷基板热应变的测量系统及方法,涉及陶瓷基板技术领域,能够实时反映变温过程中陶瓷基板表面不同部位的热应变情况,操作简便,测量精度高;该系统包括陶瓷基板,设于冷热循环装置内,在冷热循环装置的变温过...
万晓玲颜鲁春张珊珊杨会生
文献传递
In和Te掺杂PbSe薄膜制备及其对薄膜光电性能的影响机制
2016年
采用中频磁控溅射技术制备了PbSeIn和PbSeTe两种掺杂PbSe薄膜,并采用理论模拟与实际实验相结合的方法研究了In和Te两种元素的掺杂机制及其对薄膜性能的影响。结果表明,In原子主要通过置换Pb原子的形式进行掺杂,而Te原子则主要置换Se原子;与未掺杂PbSe薄膜相比,PbSeIn和PbSeTe两种薄膜的光电敏感性均有一定提高,其中In掺杂PbSe薄膜的平均电阻变化率最高。这是由于In元素在PbSe薄膜禁带内形成深杂质能级,提高非平衡载流子寿命所导致的。而PbSeTe薄膜的光电敏感性则与未掺杂PbSe薄膜相近。
孙喜桂佟占勇高克玮庞晓露杨会生
关键词:掺杂磁控溅射
一种耐候钢的表面自清洁涂层制备方法
本发明提供一种耐候钢的表面自清洁涂层制备方法,属于金属表面处理技术领域。该方法将已形成稳定锈层的耐候钢在改性SiO<Sub>2</Sub>悬浊液中浸泡一段时间或者喷涂后干燥,即完成对耐候钢表面的疏水处理,使其表面达到自清...
颜鲁春孙丙阳刘桂鹏高克玮庞晓露杨会生
结构缺陷对超微晶软磁合金磁性的影响被引量:2
1995年
<正>非晶合金以Fe_(73.5)Cu Nb_3Si_(13.5)B_9为代表,在晶化温度以上退火,可以形成晶粒直径约为10nm的αFe-Si晶相及剩余非晶相组成的一种新型双相复合纳米材料(称为Finemet).这种纳米材料具有极高的初始磁导率(μ_i可达10~5以上),低的矫顽力(H_c可小于0.32A/m)和优良的高频磁性,目前已为许多磁学和材料工作者所注目.对其具有优良软磁性能的解释一般认为有两个:一是退火以后具有很低的磁致伸缩系数,二是由于晶化后αFe-Si晶粒十分细小,有效磁晶各向异性被平均化而减小。
刘涛蒲玉写杨会生赵钟涛马如璋
关键词:超微晶软磁合金磁性金属玻璃
Ce对镁合金表面ZnAlCe-LDHs薄膜耐腐蚀性能的影响机理研究被引量:10
2021年
利用一步水热法在AZ91D镁合金表面原位制备ZnAl-LDHs薄膜和ZnAlCe-LDHs薄膜,借助X射线衍射仪、扫描电镜、能谱仪和电化学阻抗谱等表征手段,研究Ce对镁合金表面ZnAlCe-LDHs薄膜形貌结构、化学组成及耐腐蚀性能的影响。结果表明,Ce离子加入不改变镁合金表面LDHs鸟巢网状形貌,但增加了薄膜的厚度以及纳米片的尺寸。EIS结果表明,ZnAlCe-LDHs薄膜与ZnAl-LDHs薄膜相比,自腐蚀电位正移0.05 V,腐蚀电流密度降低1~2个数量级,阻抗图中容抗弧半径明显增大,说明加入Ce离子可以增强镁合金的耐腐蚀性能。
王晓鸽高克玮颜鲁春杨会生庞晓露
关键词:CE镁合金耐腐蚀性能
Fe_(76.5)Cu_1Si_(13.5)B_9非晶合金晶化过程的X射线衍射研究被引量:3
1992年
Fe_(76.5)Cu_1Si_(13.5)B_9非晶合金在晶化过程中析山的α-Fe固溶体(α相)的X射线衍射峰存在不对称性并随退火温度而变化,对α相衍射峰进行分峰拟合证实,Cu原子可以促进α相形核并固溶其中,合金晶化与原始态中残存晶核无关,α相晶粒中Cu含量的不同导致衍射峰的不对称性,键合能准化学近似计算结果表明,Cu原子降低了周围原子的迁移势垒,导致合金的晶化首先在含Cu量较高的区域开始,使晶化温度降低。
杨会生熊小涛徐祖雄马如璋涂国超张家骥
关键词:铁基非晶合金软磁材料晶化
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