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杨钰

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：北京科技大学材料科学与工程学院材料物理与化学系更多>>
发文基金：教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家教育部博士点基金教育部科学技术研究重点项目更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇一般工业技术

主题

  • 2篇电子能
  • 2篇电子能谱
  • 2篇光电子能谱
  • 2篇X射线
  • 2篇X射线光电子...
  • 2篇磁性
  • 2篇磁性薄膜

机构

  • 2篇北京科技大学

作者

  • 2篇冯春
  • 2篇杨钰
  • 2篇韩刚
  • 2篇于广华
  • 2篇腾蛟

传媒

  • 1篇中国有色金属...
  • 1篇第十届全国青...

年份

  • 2篇2005
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
不同能量沉积方式对薄膜界面反应的影响
2005年
通过分子束外延(MBE)和脉冲激光沉积(PLD)将1～10个Fe原子层(ML)以楔型(wedge-shape)方式分别沉积到NiO(001)基片上,并对其进行磁光克尔效应(MOKE)原位测试.结果表明:通过MBE这种低能量沉积方式沉积的Fe原子层在Fe/NiO界面处产生了约2 ML的磁死层;而通过PLD这种较高能量沉积方式沉积的Fe原子层在Fe/NiO界面处产生了约3 ML的磁死层.X射线光电子能谱(XPS)研究Fe/NiO界面的结果表明:两种沉积方式都能使Fe原子与单晶NiO在界面处发生化学反应,这是导致磁死层的一个重要原因;对于MBE和PLD沉积方式来说,从靶材上被蒸发或溅射下来到达基片的原子所具有的能量很低,分别约为0.1 eV和1.0 eV,反应层较浅;磁控溅射沉积Fe原子的能量约为几～十几电子伏特,导致的反应深度约1.5 nm.
于广华杨钰冯春韩刚腾蛟
关键词：磁性薄膜X射线光电子能谱
不同能量沉积方式对薄膜界面反应的影响
本文通过分子束外延(MBE)和脉冲激光沉积(PLD)将1～10个Fe原子层(ML)以楔型(wedge-shape)方式分别沉积到NiO(001)基片上,并对其进行磁光克尔效应(MOKE)原位测试.结果表明:通过MBE这种...
于广华杨钰冯春韩刚腾蛟
关键词：磁性薄膜X射线光电子能谱
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