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梅龙华

作品数：3 被引量：1H指数：1
供职机构：广东工业大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 3篇激光
  • 2篇准分子
  • 2篇准分子激光
  • 2篇激光光刻
  • 2篇光刻
  • 2篇光束
  • 2篇光束均匀
  • 2篇光束均匀性
  • 2篇光学
  • 2篇分子
  • 1篇视场
  • 1篇投影光刻
  • 1篇投影式
  • 1篇紫外激光
  • 1篇焦深
  • 1篇光束质量
  • 1篇光学系统
  • 1篇成像系统
  • 1篇大视场

机构

  • 3篇广东工业大学

作者

  • 3篇梅龙华
  • 2篇雷亮
  • 2篇林清华
  • 2篇周金运
  • 1篇裴文彦
  • 1篇王新星
  • 1篇李文静
  • 1篇施颖

传媒

  • 1篇激光与光电子...

年份

  • 3篇2012
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
大视场直接投影式激光光刻光学系统
本实用新型是一种大视场直接投影式激光光刻光学系统。包括激光照明系统及激光投影成像系统，激光照明系统包括依次装设的第一柱面镜、第二柱面镜、会聚球面透镜、匀光棒、第一照明透镜、第二照明透镜、第三照明透镜、第四照明透镜、第五照...
周金运李文静雷亮林清华裴文彦梅龙华
文献传递
激光光刻大面积扫描投影成像光学系统测试及评价被引量：1
2012年
基于351nm XeF激光大面积投影成像光刻系统,通过对其光学系统包括光学照明系统和折叠投影系统进行光学性能测试。由激光经过柱面透镜、微透镜阵列均束器以及投影折叠物镜之后产生的能量及光束质量变化,将准分子激光光束均匀性评价指标部分运用到光学系统的评价之中,得到光学系统在不同关键位置的能量分布曲线以及平顶因子关系图,表明微透镜阵列均束器虽保证了整个光学系统各处光斑的均匀性,但衍射却造成了能量利用率的降低。同时,通过对印制电路板(PCB)和玻璃(ITO)进行曝光和显影实验,表明该双远心共焦投影光学系统,只要控制使均匀输出的能量符合曝光剂量,就能够满足分辨率的要求。
梅龙华周金运雷亮林清华王新星施颖
关键词：成像系统准分子激光光刻光束均匀性
准分子激光投影光刻光学系统测试及评价
随着光刻技术在微加工领域的广泛应用，如何有效地测试和评价准分子激光光学系统已经成为光刻技术研究中的关键问题。如曝光系统的光束不均匀，将导致同一掩模图形上相同相位台阶的曝光深浅不一致，从而导致掩模图形中间部分的曝光量大于周...
梅龙华
关键词：准分子激光光束质量光束均匀性
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