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米宝永

作品数:12 被引量:26H指数:4
供职机构:中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室更多>>
相关领域:机械工程电子电信自动化与计算机技术一般工业技术更多>>

文献类型

  • 9篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 5篇机械工程
  • 5篇电子电信
  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 5篇电路
  • 5篇集成电路
  • 2篇信号
  • 2篇信号提取
  • 2篇在线监测
  • 2篇折射率
  • 2篇折射仪
  • 2篇弱信号
  • 2篇锁相
  • 2篇锁相技术
  • 2篇自动测量
  • 2篇微弱信号
  • 2篇微弱信号提取
  • 2篇滤波器
  • 2篇刻蚀
  • 2篇大规模集成电...
  • 1篇等离子
  • 1篇等离子体
  • 1篇星载
  • 1篇星载仪器

机构

  • 12篇中国科学院长...

作者

  • 12篇米宝永
  • 5篇宋克非

传媒

  • 5篇光学精密工程
  • 3篇数据采集与处...
  • 1篇仪器仪表学报
  • 1篇第八届全国微...
  • 1篇全国第九届微...
  • 1篇第四届全国光...

年份

  • 1篇2005
  • 1篇2001
  • 5篇1998
  • 1篇1997
  • 1篇1996
  • 1篇1992
  • 1篇1991
  • 1篇1989
12 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
锗的红外折射率精密测量被引量:6
1998年
利用所研制的KGZ-Ⅱ型高精度光电折射仪,在5~10.6μm的光谱范围内,测量了由北京有色金属研究总院研制的锗的折射率,并与红外色散公式计算的结果进行了比较,分析了影响测量准确度的各项主要因素,给出了具有±3×10-4准确度的测量结果。
米宝永
关键词:折射率红外光学
大规模集成电路离子刻蚀过程监测中的锁相技术
1992年
本文叙述了LSI和VLSI离子刻蚀工艺过程及终点监测的重要性以及发射光谱和激光反射干涉法的终点监测原理,锁相放大技术在PIE和RIE工艺过程监测中的应用。给出了整机电子学框图和该机用于实际生产线所监测的结果。
宋克非米宝永
关键词:离子刻蚀锁相技术干涉法光刻胶线宽
光谱范围从 365 至 12000nm 的高精度光电自动折射仪被引量:11
1998年
介绍了由作者研制的光谱范围从365至12000nm的高精度光电自动折射仪的测量原理、主要误差源和仪器组成。用该仪器对包括红外材料锗在内的多种样品进行了测量,在小于2600nm和大于2600nm的波长范围内分别获得了优于±3×10-6和±5×10-5的折射率测量精度。
米宝永
关键词:折射仪折射率自动测量垂直入射光电式
从噪声中提取弱光信号的采样跟踪滤波器被引量:1
1998年
作者用采样滤波器制成了用于弱光信号检测的高Q值自跟踪采样滤波器。介绍了它的数学基础和实验结果,以及工程中一些值得注意的实际问题。
米宝永
关键词:自跟踪采样滤波器噪声微光
紫外航天遥感仪器的背景扣除与增益校正
针对星载紫外遥感仪器的长期稳定性和高测量灵敏度的要求,讨论了一种背景扣除技术——数字同步累加解调技术,实现了对太阳紫外光谱测量系统的背景噪声的实时扣除.采用了真空光电管和高精度稳流源实时校正光电倍增管及其放大器的增益,介...
宋克非米宝永
关键词:紫外遥感星载仪器
文献传递
等离子与反应离子刻蚀终点的在线监测——光学反射法被引量:1
1997年
叙述了用光学反射法在线监测LSI等离子及反应离子刻蚀过程和终点的监测原理与具体实施。所设计的仪器获得了优于80的动态监测精度及小于0.3cm2的最小监测面积。比较了用光学反射法和等离子发射光谱法得到的监测结果,指出了影响光学反射法监测精度的因素,提出了切实可行的解决办法。
米宝永
关键词:集成电路在线监测
计算机控制的高精度光电折射仪被引量:9
2005年
介绍了在该仪器上测量折射率值小于1.76和大于1.76的两种测量方法,给出了以计算机为核心的宽光谱高精度折射率全自动测量仪的基本组成、主要误差源和测控软件的一级数控流图,用该仪器对包括红外材料锗在内的多种样品进行了测量并给出了部分测量结果,结果表明:在365.0nm至2600nm和2600nm至10600nm的波长范围内分别获得了优于±3×1-0 6和±2×1-0 4的测量精度。
宋克非米宝永
关键词:折射仪误差源自动测量
SVI数字式光电V棱镜仪
国内近几年已研制成了基於自准直法和垂直照射偏向再封闭测量法的宽光谱光电自动折射仪。它的精度高,在可见光范围内,准确度达±3×10量级,光谱范围宽,从365.0到12000nm,可在微机控制下工作和作数据处理。然而,它们的...
米宝永胡作华南玉女董亚光
文献传递
大规模集成电路刻蚀过程和终点的在线监测──等离子发射光谱法被引量:4
1996年
文章叙述了大规模集成电路(LSI)等离子和反应离子刻蚀原理及在线监测刻蚀过程的基本方法。详述了用等离子发射光谱法进行LSI离子刻蚀过程监测的具体实施和实验结果,得到了80A的动态监测精度和0.3cm2的最小可监测面积。最后文章还讨论了影响监测精度的因素。
米宝永
关键词:等离子体在线监测刻蚀集成电路
锁相放大技术在光电折射仪中的应用
1989年
随着现代科学技术的发展,在诸如天文学、高分辨光谱学、遥感、生物医学及半导体工业等若干领域中,无一不和高精度光学设备息息相关,而这些仪器的设计在很大程度上都依赖于光学材料本身的一个重要参数——折射率值的精确程度。为此,我们研制了一台微机化的光电折射仪。其光谱范围从200nm到12000nm,折射率测量精度在波长小于3000nm时优于±3×10^(-3),而在波长大于3000nm到12000nm时优于±5×15^(-5)。
米宝永
关键词:锁相放大
共2页<12>
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