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胡伟娜

作品数:4 被引量:0H指数:0
供职机构:国防科学技术大学航天与材料工程学院新型陶瓷纤维及其复合材料国家重点实验室更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇会议论文
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 4篇聚碳硅烷
  • 2篇化学结构
  • 2篇分子
  • 2篇分子量
  • 2篇分子量分布
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇单晶硅片
  • 1篇预氧化
  • 1篇均匀性
  • 1篇光谱
  • 1篇硅片
  • 1篇红外
  • 1篇红外光
  • 1篇红外光谱
  • 1篇PCS

机构

  • 2篇国防科学技术...
  • 2篇国防科技大学

作者

  • 4篇胡伟娜
  • 3篇斯永敏
  • 2篇赫荣安
  • 1篇赫荣安
  • 1篇李效东
  • 1篇楚增勇

传媒

  • 1篇高分子材料科...
  • 1篇2006北京...

年份

  • 1篇2008
  • 1篇2007
  • 2篇2006
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
各级分聚碳硅烷的结构和性能研究
本文制备了不同分子量的窄分布PCS,研究了其结构组成及在先驱体转化法的预氧化和烧结过程中表现出的差异,为PCS制备过程中根据用途控制分子量及其分布提供了参考。比较了沉淀分级和色谱柱分级两种方法。采用色谱柱分级的方法,得到...
胡伟娜
关键词:分子量分子量分布预氧化
聚碳硅烷薄膜的制备与化学均匀性分析
分别采用KBr盐片、单晶硅片作基材,二甲苯、四氢呋喃、环己烷作溶剂,配制不同浓度的溶液,用手工涂刷、离心旋转、浸渍等方法制备聚碳硅烷薄膜。利用红外光谱对制备的PCS薄膜的化学均匀性进行分析,发现用二甲苯溶液, 在Si片上...
胡伟娜斯永敏赫荣安
关键词:聚碳硅烷化学结构均匀性
文献传递
聚碳硅烷薄膜的制备与化学均匀性分析
分别采用KBr盐片、单晶硅片作基材,二甲苯、四氢呋喃、环己烷作溶剂,配制不同浓度的溶液,用手工涂刷、离心旋转、浸渍等方法制备聚碳硅烷薄膜.利用红外光谱对制备的PCS薄膜的化学均匀性进行分析,发现用二甲苯溶液,在Si片上离...
胡伟娜斯永敏赫荣安
关键词:化学结构单晶硅片红外光谱
文献传递
聚碳硅烷的普适标定及Mark-Houwink常数的确定
2008年
通过沉淀分级和凝胶色谱(GPC)分级制备了窄分布的聚碳硅烷(PCS),并用多角度激光光散射(MALLS)和GPC分别测定其绝对分子量和分子量分布。采用试差拟合的方法定制了PCS的标定曲线,并用该标定曲线和普适标定方程,确定了25℃时,PCS在四氢呋喃(THF)中的Mark-Houwink常数(K=6.8×10-4mL/g,α=0.855)。经验证,PCS与聚苯乙烯(PS)在THF中符合普适标定关系。
赫荣安胡伟娜李效东斯永敏楚增勇
关键词:聚碳硅烷分子量分布
共1页<1>
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