吴国建
- 作品数：4 被引量：364H指数：3
- 供职机构：西安理工大学材料学院更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术电气工程更多>>
- 镁合金微弧氧化陶瓷层生长过程及微观结构的研究被引量：165
- 2002年
- 利用扫描电镜 (SEM)、X射线衍射 (XRD)等分析手段 ,研究了MB8镁合金微弧氧化陶瓷膜层的生长规律 ,分析了微弧氧化条件下氧化镁膜层致密性和相结构与处理时间的关系。结果表明 ,在微弧氧化初期膜层致密 ,几乎观察不到疏松层 ;随着处理时间的延长及膜层的增厚 ,其外侧开始出现疏松层 ,最终可达到膜层总厚度的 90 %左右。膜层相结构主要由MgO、MgSiO3、MgAl2 O4和无定形相组成。随着膜层厚度的增加 ,膜层中MgO、MgAl2 O4的含量不断地增加 ,MgSiO3 的含量基本不变 。
- 蒋百灵吴国建张淑芬雷廷权
- 关键词：陶瓷层镁合金微弧氧化相结构
- 镁合金微弧氧化陶瓷层耐蚀性的研究被引量：82
- 2002年
- 利用盐雾腐蚀试验和SEM等分析手段 ,研究了镁合金微弧氧化陶瓷层的腐蚀过程及 4种电解液体系对陶瓷层耐蚀性的影响 ,分析了镁合金微弧氧化陶瓷层与铬化处理膜层耐蚀性的差异和封孔处理的作用机理 .结果表明 :在复合系电解液中处理的镁合金样品耐蚀性最好 ,所有微弧氧化处理的样品其耐蚀性均远优于铬化处理样品 ,用石蜡封孔可明显提高样品的耐蚀性 .
- 蒋百灵张淑芬吴国建
- 关键词：陶瓷层镁合金微弧氧化盐雾试验耐蚀性
- 镁合金微弧氧化陶瓷层显微缺陷与相组成及其耐蚀性被引量：182
- 2002年
- 利用SEM ,XRD及盐雾腐蚀等试验手段 ,研究了MB8镁合金微弧氧化陶瓷层生长过程中显微缺陷与相组成的变化规律及其对耐蚀性的影响。结果表明 :微弧氧化初期 ,陶瓷层致密 ,几乎观察不到显微缺陷 ,随着处理时间的延长及陶瓷层的增厚 ,其外侧开始出现孔洞类缺陷 ,直至 90 %厚度范围布满相互交错的不规则孔洞 ;陶瓷层主要由MgO ,MgSiO3 ,MgAl2 O4 和非晶相组成 ,随着厚度的增加 ,陶瓷层中MgO的比例不断增加 ,而非晶相含量逐渐减少 ;短时间微弧氧化处理有利于制取以非晶相为主的致密无缺陷的耐蚀陶瓷层。
- 蒋百灵张淑芬吴国建雷廷权
- 关键词：镁合金微弧氧化陶瓷层耐蚀性非晶相
- 镁合金微弧氧化膜层制备技术及其耐蚀性研究
- 本文采用对比实验和正交实验的方法系统地研究了硅酸盐、磷酸盐、六偏磷酸盐和碳酸盐体系的镁合金微弧氧化处理液配方组成及微弧氧化处理工艺对微弧氧化陶瓷层性能的影响。借助于SEM、XRD和EPA等方法，观察了镁合金微弧氧化陶瓷层...
- 吴国建
- 关键词：镁合金微弧氧化膜层硅酸盐磷酸盐
- 文献传递
