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一种铁基、铜过渡层和表面氮化物涂层的新型复合电极材料及制备方法: 本发明公开了一种铁基、铜过渡层和表面氮化物涂层的新型复合电极材料及制备方法，它是利用电镀、电刷镀或化学镀和溅射镀技术，在铁基材料表面首先涂覆一定厚度的纯铜作为过渡层，再利用溅射镀技术沉积氮化物，以形成一种铁基、铜过渡层和...; 高原马志康吴炜钦王成磊蔡航伟徐晋勇张焱韦文竹陆小会张光耀; 文献传递

工业纯铁电极材料表面渗钼的工艺被引量：5: 2014年; 利用双辉等离子渗金属技术，在工业纯铁电极材料表面进行正交渗钼试验，用极差分析方法研究了极间距、温度、时间、源极电压和气压对合金渗层厚度的影响，并对渗钼的工艺参数进行优化。采用光学显微镜、X射线衍射仪（XRD）、显微硬度仪、扫描电镜（SEM）和能谱仪观察合金渗层的金相组织及厚度，测定合金渗层的物相组成和渗层硬度，检测合金渗层的形貌、元素分布。结果表明：渗钼工艺优化参数为源极电压800～850 V，保温温度1 020 ℃，保温时间4 h，工作气压35 Pa，极间距20 mm，可获得满足试验要求的80 μm的合金渗层；合金渗层组织为柱状晶，Mo元素在合金渗层中呈梯度分布，合金渗层的物相为Fe（Mo）固溶体和Mo相，合金渗层的硬度呈下降趋势，渗钼后试样的表面硬度为248.5 HV0.05。; 吴炜钦高原张焱王成磊; 关键词：等离子电极材料

4Cr13不锈钢游标卡尺上多弧离子镀沉积TiN薄膜的研究: 近几年来,全球电子数显量具的需求增长非常迅速,根据世界几大量具公司的投入计划和数显量具的发展趋势可知:全球量具的总产量将在2013年达到l150万套左右,量具的市场需求缺口仍然很大,量具行业的发展前景十分良好。而中国作为...; 张焱; 关键词：多弧离子镀 TIN薄膜结合力; 文献传递

一种表面渗钼+沉积氮化钛的新型电极材料及其制备方法: 本发明公开一种表面渗钼+沉积氮化钛的新型电极材料及其制备方法，利用等离子表面合金化和多弧离子镀复合处理技术，首先在铁基材料表面渗入合金元素钼，形成呈冶金结合的含钼渗层，然后利用溅射镀进行沉积氮化钛，以形成一种表面渗钼+沉...; 高原吴炜钦王成磊张焱韦文竹陆小会张光耀; 文献传递

一种在4Cr13不锈钢游标卡尺表面沉积氮化钛薄膜的工艺: 本发明公开了一种在4Cr13不锈钢游标卡尺表面沉积氮化钛薄膜的工艺，它是对4Cr13不锈钢游标卡尺表面进行物理和化学清洗；其次利用电弧离子镀或离子溅射镀或射频溅射镀技术，在4Cr...; 高原陆小会董中新王成磊张焱吴炜钦韦文竹张光耀; 文献传递

4Cr13不锈钢表面镀TiN薄膜组织结构及性能的研究被引量：3: 2014年; 采用多弧离子镀技术在4Cr13不锈钢上沉积TiN薄膜,在其他参数不变的条件下,研究不同弧电流下薄膜的组织、结构及性能。利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、显微硬度计、划痕仪和往复式摩擦磨损仪分别对薄膜进行表面形貌观察,物相分析,以及表面硬度、结合力、耐磨性检测。实验结果表明:弧电流对薄膜的表面形貌有明显的影响,随着弧电流的增大,薄膜表面的液滴数目和尺寸逐步增大;薄膜的相结构主要由TiN相组成,在(111)面有较强的择优取向,且随着弧电流的增大,衍射峰强度略有增加;随着弧电流的增大,薄膜的硬度先增大后减小,硬度值最大为2897HV;随着弧电流的增大,薄膜的结合力先增大后减小,当弧电流为105A时,薄膜的结合力最大,为75N;随着弧电流的增大,薄膜的摩擦系数先减小后增大,当弧电流为105A时,薄膜的耐磨性最好。; 张焱高原吴炜钦王成磊庞泽鹏程敏楠; 关键词：TIN薄膜不锈钢结合力耐磨性

一种铁基、铜过渡层和表面氮化物涂层的新型复合电极材料及制备方法: 本发明公开了一种铁基、铜过渡层和表面氮化物涂层的新型复合电极材料及制备方法，它是利用电镀、电刷镀或化学镀和溅射镀技术，在铁基材料表面首先涂覆一定厚度的纯铜作为过渡层，再利用溅射镀技术沉积氮化物，以形成一种铁基、铜过渡层和...; 高原马志康吴炜钦王成磊蔡航伟徐晋勇张焱韦文竹陆小会张光耀

HPAA对Q235钢在碱性溶液中的缓蚀性能研究被引量：1: 2015年; 目的运用响应面分析法考察缓蚀剂2-羟基膦乙酸（HPAA）的缓蚀效果。方法通过单因素灵敏度分析法考察p H值、HPAA的质量浓度、温度对Q235腐蚀的影响,确定取值范围。基于响应面优化分析法（RSM）,根据单因素实验结果,采用中心组合设计原则（CCD）对质量浓度、温度、p H值进行优化实验设计。以HPAA的缓蚀率为响应值,采用RSM对响应数值进行方程回归,对得到的二次关联模型进行优化,并将优化的参数条件应用于复配缓蚀剂进行SEM和EIS分析。结果质量浓度、温度、p H值的优化取值范围分别为20～26 mg/L,45～55℃和8～10。RSM优化后,质量浓度为23 mg/L,温度为50℃,p H值为9.0时,HPAA的缓蚀率最优为68.68%。实验获得的缓蚀率为68.78%,与预测值偏差为0.15%。将优化的参数应用于缓蚀剂的复配,发现HPAA：Na2MOO4：Na2B4O7质量浓度的比为0.5：0.3：0.5时,复配的缓蚀剂用量最少且缓蚀率最高可达到93.75%。此复配缓蚀剂在SEM图中光亮无腐蚀,并且在EIS谱中表现出纯电容性,阻抗最大、缓蚀率最高。结论响应面法和SEM,EIS结合运用在HPAA的缓蚀性能研究是可行、准确、可靠的。; 毛礼娜殷超凡陈启明宋沂泽高原董中新张焱彭凯王成磊; 关键词：HPAA 缓蚀剂复配缓蚀剂腐蚀率缓蚀率

一种抗高温氧化奥氏体不锈钢及其制备方法: 本发明公开了一种抗高温氧化奥氏体不锈钢及其制备方法，它是利用等离子表面合金化技术，在奥氏体不锈钢表面渗入合金元素锆，形成呈冶金结合的含锆的高合金层，然后进行渗碳与低温预氧化处理，获得结合力好、热稳定性强、致密的碳化锆和二...; 高原蔡航伟王成磊徐晋勇马志康张焱吴炜钦韦文竹陆小会张光耀; 文献传递

磁控溅射功率对引线支架表面沉积W组织及性能的影响被引量：1: 2014年; 目的研究在镀铜的铁基引线支架上沉积钨薄膜的工艺及其性能。方法利用真空磁控溅射技术沉积制备钨薄膜层,并用SEM,EDS,XRD等技术对沉积层的组织和性能进行分析。结果在一定的工作气压、温度和沉积时间下,钨沉积层厚度随着溅射功率的增大非线性增加,沉积层均匀性好,组织较致密,与基体结合力较强,沉积层钨原子沿(110)晶面择优生长。沉积层的电阻率小于1.5×10-6Ω·m,电阻温度系数小于0.0052/℃,抗氧化性较好。结论在引线支架表面沉积金属钨可获得组织均匀致密的薄膜,其结合力、导电性、抗氧化性能良好。; 张光耀高原张焱王成磊韦文竹陆小会; 关键词：磁控溅射钨导电性结合力

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张焱