杨武保
- 作品数：21 被引量：130H指数：6
- 供职机构：中国石油大学（北京）机械与储运工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学金属学及工艺一般工业技术化学工程更多>>
- MPCVD纳米金刚石膜的微观结构及显微力学特性分析被引量：5
- 2000年
- 利用微波等离子体化学气相沉积技术在光学玻璃衬底上制备了金刚石膜，利用原子力显微镜技术及显微力学探针研究了膜层的表面形貌及显微力学特性。结果表明，金刚石膜的晶粒尺寸小于100 nm，表面粗糙度小于10 nm，具有极高的显微硬度及弹性模量，能够满足光学材料表面的抗冲击、耐磨等要求。
- 杨武保吕反修唐伟忠刘玉龙朱克
- 关键词：金刚石膜表面形貌MPCVD
- 非平衡磁控溅射法掺Au氮化钛薄膜的制备及光学特性分析
- 利用非平衡磁控溅射技术制备了掺Au氮化钛薄膜。实验观察及紫外-可见反射光谱分析发现, 所得薄膜明显偏暗;且在本文工艺范围内,随着Au掺杂量的增加,薄膜色彩变暗;随着工作气体 N2流量的降低,薄膜亮度增大。SEM分析表明,...
- 杨武保马双会赵震张守忠杜建
- 关键词：非平衡磁控溅射光学性能
- 文献传递
- 非平衡磁控溅射法类金刚石薄膜的制备及分析被引量：13
- 2005年
- 利用非平衡磁控溅射物理气相沉积技术制备了光滑、致密、均匀的类金刚石薄膜.分析沉积工艺参数对所得类金刚石薄膜的电学特性的影响以及溅射粒子的大小、能量、碰撞及沉积过程中的相变机理后认为溅射粒子越小、与环境气体分子的碰撞次数越多、与衬底相互作用时具有适当动量等,能够有效提高薄膜中sp3杂化碳原子的含量.利用拉曼光谱、纳米力学探针、红外光谱、扫描电镜等分析了所得类金刚石膜的结构、力学及光学性能、表面形貌等特征.结果表明,类金刚石膜中sp3杂化碳原子的含量较高,显微硬度大于11GPa,薄膜光学透过率达到89·4%,折射系数为1·952,沉积速率为0·724μm/h,表面光滑、致密、均匀,不存在明显的晶粒特征.
- 杨武保范松华张谷令马培宁张守忠杜健
- 关键词：非平衡磁控溅射类金刚石膜类金刚石薄膜磁控溅射法表面光滑
- 金刚石自支撑膜的力学性能研究
- 化学气相沉积金刚石膜研究已经进入大规模工业化应用阶段,工具、热沉、光学和某些电子学应用（如探测器和传感器）已经形成了一定的市场,而金刚石膜平板显示和真空微电子器件、声表面波器件、微机电系统、电化学等应用研究也已经显示了极...
- 吕反修蒋政唐伟忠刘敬明宋建华杨武保佟玉梅
- 关键词：化学气相沉积力学性能
- 文献传递
- AlN薄膜的离子反应镀工艺优化及分析被引量：2
- 2007年
- 利用高纯氮气和铝,采用离子反应镀的方法,在石英玻璃衬底上成功制得AlN薄膜。正交设计优化结果表明:AlN薄膜最大沉积速率达到0.81μm/min,其相应的工艺参数为:蒸发电压225V,轰击电压70V,轰击时N2气压为1.5999Pa。X-射线衍射、原子力显微镜、近红外光谱、拉曼光谱对薄膜进行了分析,证明了AlN薄膜的存在。
- 刘思用林立杨武保孙惠峰
- 关键词：氮化铝
- 脉冲高能量密度等离子体法类金刚石膜的制备及分析被引量：17
- 2003年
- 利用脉冲高能量密度等离子体法在光学玻璃衬底上、在室温下成功的制备了光滑、致密、均匀的纳米类金刚石膜 .工艺研究表明 :放电电压和放电距离以及工作气体种类对纳米类金刚石膜的沉积起着关键作用 .利用拉曼光谱、扫描电镜以及电子能量损失谱分析薄膜的形态结构表明 :薄膜具有典型的类金刚石特征 ;纳米类金刚石膜的晶粒尺寸小于 2 0nm甚至为非晶态 ;类金刚石膜中含有一定量的氮原子 ,随着沉积能量的升高 ,氮的含量增大 .纳米类金刚石膜的薄膜电阻超过 10 9Ω cm2 .对放电溅射过程进行了理论分析 ,结果与工艺研究的结论吻合 .
- 杨武保范松华刘赤子张谷令王久丽杨思泽
- 关键词：类金刚石膜拉曼光谱扫描电镜
- MPCVD方法制备军用光学元件纳米金刚石膜被引量：7
- 2004年
- 介绍了用MPCVD方法制备纳米金刚石膜的工艺。用MPCVD方法实验研究了在光学玻璃上镀纳米金刚石膜:膜层厚度为0 4551μm,粒度小于200nm,表面粗糙度小于29 5nm,最大透过率为80%;平均显微硬度为34 9GPa,平均体弹性模量为238 9GPa,均接近天然金刚石的力学性能。与衬底材料表面应力-2 78GPa相比,具有较好的抗压和耐磨效果。
- 王小兵吝君瑜王古常孙斌程勇吕反修杨武保
- 关键词：MPCVD
- 等离子体辅助甲烷聚合物制备及分析
- 2008年
- 在氢气和甲烷环境下,利用辉光等离子体放电制备了聚合物。该聚合物的外观特征为白色、略发黄、柔软、丝状,易碎为粉末状。聚合物中含有–CH3,–CH2,C–O,–C=C–,–OH等官能团且不存在单质形态的碳。有机溶剂溶解分析发现,常温下该聚合物在各种有机溶剂中的溶解性极小、小于0.1mg.ml-1,几乎不溶于甲苯中,在不同有机溶剂中的溶解度大小依次为,S丙酮>S三氯甲烷>S乙醇>S环己醇>S甲苯。低温等离子体的离化率越高、中性气体被极化时的极化半径越大、环境温度越低以及介电常数越小,聚合物的生成能力越强。
- 杨武保蔡泽勇赵震其鲁
- 关键词：红外光谱
- 磁控溅射镀膜技术最新进展及发展趋势预测被引量：43
- 2005年
- 磁控溅射技术已经成为沉积耐磨、耐蚀、装饰、光学及其他各种功能薄膜的重要手段。探讨了磁控溅射技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的进步,说明利用新型的磁控溅射技术能够实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备、提高反应溅射沉积薄膜的质量等,并进一步取代电镀等传统表面处理技术。最后呼吁石化行业应大力发展和应用磁控溅射技术。
- 杨武保
- 关键词：镀膜技术磁控溅射技术石化行业耐蚀高纯电镀
- 高能等离子体辅助CVD法新型纳米碳膜的制备及分析被引量：6
- 2006年
- 利用自制高能等离子体辅助化学气相沉积设备在1Cr18Ni9Ti衬底上,在离子能量2keV、工作压力2Pa、工作气氛为CH4/H2=10%的工艺条件下得到了一种硬度高、导电性能良好、可能具有碳链结构的新型碳膜.工艺研究结果表明,衬底材料对制备该新型纳米碳膜具有关键作用,离子能量、工作压力及气氛等工艺因素也具有重要作用.原子力显微镜分析结果表明,该薄膜晶粒尺寸小于100nm,薄膜光滑、致密、均匀.拉曼光谱分析显示,该薄膜的拉曼光谱特征为中心峰在1580cm-1附近、显著宽化的单一峰.欧姆计测量表明该薄膜的薄膜电阻为1·6×104Ω/cm2.利用纳米力学探针测得该纳米碳膜的显微硬度为21·38GPa,体弹性模量为420·65GPa.
- 杨武保范松华戈敏张谷令沈曾民杨思泽
- 关键词：CVD法衬底材料
