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常继

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：上海交通大学更多>>
发文基金：上海-AM基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇射线衍射
  • 2篇溅射
  • 2篇X射线衍射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇织构
  • 1篇内应力
  • 1篇化物
  • 1篇硅化物

机构

  • 2篇上海交通大学

作者

  • 2篇常继
  • 1篇姜传海
  • 1篇吴建生
  • 1篇程凡雄

传媒

  • 1篇理化检验（物...

年份

  • 2篇2005
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
制备参数对磁控溅射CoSi_2薄膜织构的影响
2005年
采用射频磁控溅射法溅射CoSi2合金靶材制备CoSi2薄膜,研究了制备参数对薄膜织构的影响。结果表明,CoSi2薄膜中存在(111)或(220)织构。织构的形成受溅射参数的影响。溅射功率越大,溅射气压越低,(111)织构越强烈。当基底温度增加时,织构经历了先增强后减弱的过程。
常继姜传海程凡雄吴建生
关键词：织构X射线衍射磁控溅射
溅射CoSi<,2>薄膜及其组织结构
本文设计并制备出CoSi2合金靶材，溅射相应的薄膜体系。分析测试表明，薄膜中元素分布均匀，与靶材成分基本吻合。研究了非晶薄膜晶化与相变过程，发现薄膜晶化后首先析出CoSi相，部分Si原子固溶在CoSi中，随着加热温度的升...
常继
关键词：硅化物X射线衍射内应力磁控溅射
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