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李勇
李勇
作品数:
5
被引量:19
H指数:2
供职机构:
中国电子科技集团第二十四研究所
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相关领域:
电子电信
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合作作者
张俊安
中国电子科技集团第二十四研究所
邓江
中国电子科技集团第二十四研究所
何峥嵘
中国电子科技集团第二十四研究所
刘伦才
中国电子科技集团第二十四研究所
罗璞
中国电子科技集团第二十四研究所
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作者
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李勇
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王国强
2篇
罗璞
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张俊安
2篇
刘伦才
2篇
何峥嵘
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邓江
1篇
赵伟
1篇
张加斌
1篇
高煜寒
1篇
黄兴发
传媒
3篇
微电子学
年份
1篇
2009
1篇
2008
2篇
2007
1篇
1994
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一种单片高增益低噪声放大器
本发明公开了一种单片高增益低噪声放大器,它包括:第一级放大电路、第二级放大电路、一个电阻反馈网络、一个输入匹配网络、一个输出匹配网络。本发明的低噪声放大器工作在10MHz~550MHz频带内,无须外部输入输出匹配,电路简...
王国强
刘伦才
李勇
何峥嵘
罗璞
邓江
文献传递
一种LVDT信号调理电路的研究
被引量:14
2007年
介绍了一种LVDT信号调理电路的工作原理及其线路设计。该电路是单片式线性位移差分变压器(LVDT)信号调理电路,与LVDT配合,能够高精确性和高再现性地将LVDT的机械位移转换成单极性或双极性的直流电压。该电路内部设计有一个驱动LVDT的低失真正弦波振荡器,电路外围线路简单,使用方便。
李勇
张俊安
关键词:
信号调理电路
正弦波振荡器
一种带双极性基准的双R-2R电阻网络结构
被引量:3
2007年
介绍了一种带双极性基准(±10 V)的双R-2R电阻网络结构。该结构充分利用双极性基准的优势,减少了双极性输出所需运算放大器的数量,提高了D/A转换器的精度;同时又降低了电路对工艺绝对精度的要求。经过理论推算和电路模拟仿真,在相同工艺精度条件下,采用该结构的12位D/A转换器,其精度优于其他两种采用常规双极性输出结构的D/A转换器。
张俊安
李勇
张加斌
高煜寒
黄兴发
关键词:
D/A转换器
深槽隔离技术中硅的反应离子刻蚀
被引量:2
1994年
本文叙述了在反应离子刻蚀(ReactiveIonEtching)系统中采用无碳含氟原子刻蚀气体(SF_6,NF_3)对硅的深槽刻蚀;分析了真空压力、射频功率、气体组合及其流量和电极温度对刻蚀速率、刻蚀剖面的影响;并根据实验结果,绘出了刻蚀速率与以上物理变量的函数关系曲线;得到刻蚀速率0.5~0.7μm/min,糟宽≤5.0μm,深度大于6.0μm,横向腐蚀小于1.5μm的各向异性刻蚀剖面。本研究技术将应用于超高速ECL分频器电路,双极高可靠抗辐射加固稳压器件和BiCMOS模拟电路的实际制作中。
赵伟
李勇
关键词:
反应离子刻蚀
硅
一种单片高增益低噪声放大器
本发明公开了一种单片高增益低噪声放大器,它包括:第一级放大电路、第二级放大电路、一个电阻反馈网络、一个输入匹配网络、一个输出匹配网络。本发明的低噪声放大器工作在10MHz~550MHz频带内,无须外部输入输出匹配,电路简...
王国强
刘伦才
李勇
何峥嵘
罗璞
邓江
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