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郑玉宏
作品数:
5
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供职机构:
中国科学院半导体研究所
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
电子电信
理学
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合作作者
邓加军
中国科学院半导体研究所
赵建华
中国科学院半导体研究所
毕京锋
中国科学院半导体研究所
王玮竹
中国科学院半导体研究所
夏建白
中国科学院半导体研究所
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作者
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郑玉宏
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邓加军
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李树深
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Fe/GaAs异质结构的分子束外延生长及磁性研究
<正>集成电子电荷和自旋自由度进行信息处理和存储能够开发出高速低功耗的新型半导体器件,在半导体中产生和注入自旋极化载流子是实现这一目标的首要问题。然而目前与现有半导体器件兼容的Ⅲ-Ⅴ稀磁性半导体材料的居里温度远低于室温,...
鲁军
邓加军
郑玉宏
王玮竹
赵建华
关键词:
分子束外延生长
文献传递
Cr掺杂InAs自组织量子点的分子束外延生长及磁性质研究
利用低温分子束外延技术制备了Cr掺杂的InAs铁磁性自组织量子点.高分辨电子显微镜分析表明InAs:Cr量子点保持了较好的闪锌矿结构.超导量子干涉仪磁性测量证明了InAs:Cr自组织量子点的铁磁转变温度高于400 K.
郑玉宏
赵建华
毕京锋
王玮竹
邓加军
夏建白
关键词:
稀磁半导体
分子束外延
INAS
自组织量子点
文献传递
过渡族金属掺杂稀磁半导体平均场理论研究和分子束外延生长
本文将成功解释了(Ga,Mn)As等稀磁半导体材料中磁性来源的平均场理论推广到Fe2+掺杂和Co2+掺杂的稀磁半导体中,预言了它们相对于Mn2+掺杂的稀磁半导体会有更高的居里温度。通过优化生长参数,利用低温分子束外延(M...
郑玉宏
闪锌矿结构CrAs薄膜在不同过渡层InGaAs和 GaAs上的分子束外延生长、结构及磁性
2007年
利用低温分子束外延技术分别在InGaAs和GaAs缓冲层上进行了CrAs薄膜的生长.截面高分辨透射电子显微镜图像表明,两种过渡层上生长的CrAs薄膜都保持着闪锌矿结构.利用超导量子干涉仪测量得到的残余磁矩和温度的关系曲线证明了两种过渡层上生长的CrAs薄膜的居里温度均高于400K.闪锌矿结构CrAs薄膜在不同缓冲层上的成功生长将可能拓宽这类具有室温铁磁性新型半金属薄膜在未来半导体自旋电子学领域的应用.
毕京锋
赵建华
邓加军
郑玉宏
王玮竹
李树深
关键词:
半金属
室温铁磁性
分子束外延
Cr掺杂InAs自组织量子点的分子束外延生长及磁性质
2007年
利用低温分子束外延技术制备了Cr掺杂的InAs铁磁性自组织量子点.高分辨电子显微镜分析表明InAs:Cr量子点保持了较好的闪锌矿结构.超导量子干涉仪磁性测量表明InAs:Cr自组织量子点的铁磁转变温度超过400K.
郑玉宏
赵建华
毕京锋
王玮竹
邓加军
夏建白
关键词:
稀磁半导体
铁磁性
分子束外延
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