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陈宝清

作品数:52 被引量:41H指数:3
供职机构:大连理工大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金高等学校科技创新工程重大项目更多>>
相关领域:金属学及工艺化学工程一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 22篇期刊文章
  • 19篇会议论文
  • 11篇专利

领域

  • 28篇金属学及工艺
  • 13篇化学工程
  • 5篇一般工业技术
  • 2篇电子电信
  • 1篇环境科学与工...
  • 1篇理学

主题

  • 34篇离子镀
  • 22篇电镀
  • 21篇真空
  • 21篇真空离子
  • 18篇真空离子镀
  • 12篇合金
  • 8篇硬铬
  • 8篇厚膜
  • 7篇溅射
  • 7篇磁控溅射离子...
  • 6篇能级
  • 6篇磁控
  • 6篇磁控溅射
  • 5篇电镀硬铬
  • 5篇镀膜
  • 5篇镀硬铬
  • 5篇离子束
  • 4篇电镀工艺
  • 4篇电镀技术
  • 4篇污染

机构

  • 50篇大连理工大学
  • 3篇东海大学
  • 2篇大连工学院
  • 1篇大连海洋大学
  • 1篇大连海事大学
  • 1篇东北师范大学
  • 1篇电子部
  • 1篇北京师范大学...
  • 1篇大连海运学院

作者

  • 52篇陈宝清
  • 21篇董闯
  • 7篇王斐杰
  • 5篇吕传花
  • 4篇黄龙
  • 4篇王玉魁
  • 4篇陈大民
  • 3篇王家祥
  • 3篇黄燕清
  • 3篇牟宗信
  • 3篇谷伟
  • 3篇胡小刚
  • 2篇朱英臣
  • 2篇丁晓非
  • 2篇黑祖昆
  • 2篇高路斯
  • 2篇万立骏
  • 2篇王英敏
  • 2篇王清
  • 2篇羌建兵

传媒

  • 10篇真空
  • 3篇电镀与精饰
  • 2篇电镀与环保
  • 2篇大连理工大学...
  • 1篇材料保护
  • 1篇热加工工艺
  • 1篇材料科学进展
  • 1篇表面工程资讯
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇2005年东...
  • 1篇2005年山...
  • 1篇2007年表...
  • 1篇第九届海峡两...
  • 1篇海峡两岸表面...
  • 1篇中国东北地区...
  • 1篇第二届环渤海...
  • 1篇第四次全国电...
  • 1篇第五次全国电...
  • 1篇中国电工技术...
  • 1篇中国真空学会...

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2015
  • 2篇2014
  • 5篇2013
  • 4篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 3篇2007
  • 3篇2006
  • 6篇2005
  • 1篇2004
  • 2篇2002
  • 1篇2000
  • 1篇1999
  • 1篇1998
  • 2篇1993
  • 4篇1992
  • 2篇1991
  • 4篇1990
  • 1篇1989
52 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
高能级磁控溅射离子镀技术
高能级磁控溅射离子镀技术是在具有一个工件负高压电源的磁控溅射离子镀装置中实现的。该离子镀工艺使镀膜有一个靶材(膜材)元素和基材元素共存的过渡层;镀膜中能出现靶材元素和基材元素组成的化合物相和固溶体相;多辉光高能级磁控溅射...
陈宝清朱英臣王玉魁王斐杰
文献传递
弧源-多离子束材料表面改性技术
弧源-多离子束材料表面改性技术是在具有离子束注入源、离子束溅射源、弧源及工件负高压电源等装置中实现的。处理工件表面改性层有较宽过渡层,附着性好,沉积速率高;在工件表面可形成单层或多层氮化物、碳化物、氮-碳化物等改性层;一...
陈宝清
文献传递
真空离子精饰镀膜技术研究被引量:3
2002年
黄铜基材装饰件表面采用高能级溅射离子镀 ,镀不锈钢代替电镀钯 -镍合金 ,采用等离子体型阴极弧源 -磁控溅射镀技术在不锈钢镀膜表面上镀制 Ti N/ Au透明陶瓷保护膜 Si O2 、Ti O2 。并对各膜层的硬度、耐蚀性、耐磨性及相结构进行分析。
陈宝清董闯吕传花
真空离子镀鉻合金厚膜替代电镀硬铬工艺研究
《真空离子镀替代电镀技术》课题1981年在国家计委立项,82-83年间得到国家计委资助40万元。先后召开《七次鉴定会》和申请《五项专利》。获国家发明二等奖。現在已完成《真空离子镀替代电镀技术》课题的技术开发、工艺研究、镀...
陈宝清董闯陈大民
文献传递
真空离子镀鉻合金厚膜替代电镀硬铬工艺研究
离子镀功能厚镀膜主要用在提高工件耐磨性和耐蚀性,膜层厚度40微米以上。离子镀鉻合金厚镀膜代替电镀硬铬工艺研发,已取得满意成果。
陈宝清董闯陈大民
透明陶瓷保护膜——永不磨损陶瓷保护金表
等离子体型反应离子镀膜技术在经离子掺金试验件镀制SiO<,2>、SiO<,2>——TiO<,2>透明陶瓷膜,并对该膜进行电子探针成分定量分析,薄膜X光衍射分析、透明陶瓷保护膜硬度测试、...
陈宝清董闯吕传花陈大民
关键词:磁控溅射离子镀
Cu基体离子镀Al膜的相结构及晶体学位向关系
1990年
本文用X射线衍射仪和透射电子显微镜研究了 Cu基体离子镀 Al膜的相结构及 晶体学位向关系。 X射线衍射分析结果表明了 Cu-Al过渡层中各合金相的存在并发 现负偏压和极间距是影响合金相形成的主要因素。两者的变化将影响表面温度的升高。 每一个Cu-Al合金相图中存在的中间相在Cu基离子镀A1膜的过渡层中的存在都 对应一个温度区间.在极间距一定的情况下,该温度区间对应着负偏压的区间。极间距 加大,该负偏压区间升高。用透射电镜观察了一定工艺参数下的 Cu基离子镀 Al膜, 发现了与X射线分析结果相对应的一系列合金相的存在.它们是,AL_4Cu_9(Complex Cubic),AlCu_3(Orthorhombic),CuA1_2(Primitive Tetragnal), AlCu (Primitive Monoclinie)及AlCu_4(Cubic).观察了合金相的形态并确定了合 金相与基体 Cu及股 Al 间的晶体学位向关系。
王家祥陈宝清王斐杰王绍庭郭可訒黄燕清
关键词:镀膜相结构晶体学
钢铁、钛合金低温脉冲离子氮碳共渗及阴极电弧离子镀M/MN交替镀厚膜工艺
一种钢铁、钛合金低温脉冲离子氮碳共渗及阴极电弧离子镀M/MN交替镀厚膜工艺,属于材料表面技术领域。其特征是:工件3经冷轧或冷拔成型进行消除应力退火;制备工件表面耐磨层的硬度呈缓和过渡分布的氮碳共渗层+M/MN交替复合厚膜...
董闯陈宝清陈大民张庆祥谷伟张吉祥胡小刚
多离子束沉积Ti-N膜横截面组织的电镜研究
1992年
多离子束混合材料表面改性技术有比离子镀和离子注入方法优越之处。本文研究了高速钢(W18Cr4V)表面多离子束混合沉积 Ti-N 膜的横截面组织,结果表明,从基体至镀膜顶端共有5个层次的组织。在基体表面有一层约20nm 厚的 Ti-Fe 非晶合金层,非晶层外是层状 Ti_2N 组织,极细纤维状Ti_2N 组织,极细纤维状、略有粗化的纤维状以及细柱状的 Ti_2N 和 TiN 组织,最外层是细柱状的 TiN 组织。高速钢基体表面晶粒明显细化,且有约100nm 左右深度的 Ti-N-Fe 及其它基体元素的混合区。探讨了膜层形成机理及对性能影响。
万立骏黑祖昆高路斯陈宝清
关键词:氮化钛镀膜镀膜
钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀铬工艺
一种钢铁、锌基合金真空离子镀铬工艺代替现行电镀铬工艺,属于材料表面技术领域。其特征是:离子镀铬工艺代替现行电镀装饰铬工艺和离子镀超硬铬代替电镀硬铬。工件与真空室之间,施加有脉冲负变偏压,电压为100-2000V,膜层与工...
董闯陈宝清牟宗信王清羌建兵王英敏
共6页<123456>
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