李文军
- 作品数：5 被引量：19H指数：2
- 供职机构：太原理工大学化学化工学院更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学自动化与计算机技术电气工程更多>>
- 铁电体薄膜被引量：1
- 2005年
- 介绍了铁电薄膜材料的种类,并且讨论了SrTiO3,BaTiO3的多种用途,提出MOVCD法具有沉积速率高,沉积均匀,适于大规模生产,可成为制备SiTiO3和BaTiO3薄膜的主要技术。为实际应用铁电薄膜材料提供了理论依据。
- 张建明李文军
- 关键词：钛酸钡钛酸锶
- MOCVD法制备TiO<,2>薄膜及其性质的研究
- 该文用低压MOCVD法,以四异丙醇钛为源物质,高纯氮气作为载气,氧气为反应气体,制备出了TiO<,2>薄漠.考察了沉积温度、氧气流量等因素对沉积速率的影响,发现在不同反应条件下TiO<,2>薄膜的生长行为或受动力学控制或...
- 李文军
- 关键词：二氧化钛光催化降解
- 文献传递
- 影响TiO_2薄膜表面形貌的因素被引量：8
- 2001年
- :通过电子显微镜的观察 ,得到了TiO2 表面形貌的分布、大小、形状等 ,并就影响TiO2 薄膜表面形貌的主要因素 ,如温度、基片种类、退火温度等进行了研究。实验得出 :在 3 5 0～ 60 0℃温度制备的薄膜表面粒子分布均匀。
- 武正簧刘成岑李文军
- 关键词：二氧化钛电子显微镜TIO2表面形貌
- 探索MOCVD法制备TiO_2薄膜的最佳反应条件被引量：1
- 2000年
- 用低压金属有机化合物化学气相沉积 (MOCVD法 )，以四异丙纯钛 (TTIP)为源物质，高纯氮气作为载气，氧气为反应气体，制备出了 TiO2薄膜。分析出了沉积温度、氧气流量等因素对沉积速率的影响。发现在不同反应条件下 TiO2薄膜生长行为受动力学控制或受扩散控制，为制备优质 TiO2薄膜提供了依据。
- 武正簧吴争鸣李文军
- 关键词：二氧化钛化学气相沉积反应动力学
- TiO_2薄膜结构的研究被引量：10
- 2001年
- 研究了沉积温度和退火温度对TiO2薄膜结构的影响。当沉积温度在110～250 ℃时， 薄膜结构为无定型，350～500 ℃时为锐钛型，600 ℃以上是金红石；当退火温度在600 ℃ 时，TiO2薄膜为锐钛型；800 ℃以上是金红石。氧气的加入能够影响薄膜的沉积速率，但不 影响薄膜的晶体结构。
- 武正簧吴争鸣李文军
- 关键词：二氧化钛晶体结构MOCVD退火
