杨俊
- 作品数：5 被引量：15H指数：2
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程更多>>
- 熔石英再沉积层结构的纳米级表征和杂质分析被引量：3
- 2014年
- 利用原子力显微镜观察熔石英不同蚀刻时间的表面形貌,结合二次离子质谱分析,研究了熔石英的再沉积层结构和杂质分布。结果表明,熔石英表面深度10nm的再沉积层内存在大量微裂纹和杂质,经蚀刻展开形成nm级划痕和坑点,其分布随着深度增加呈指数衰减。根据nm级划痕密度、宽深比随蚀刻深度变化的规律,估算出再沉积层厚度,估算结果与二次离子质谱测得的杂质嵌入深度基本一致。杂质元素嵌入深度与抛光微裂纹分布特征的关联性表明,杂质很有可能藏匿在抛光微裂纹中。
- 杨俊易葵魏朝阳胡国行崔辉邵建达
- 关键词：熔石英蚀刻二次离子质谱
- 全内反射原位照明装置及其控制方法
- 一种全内反射原位照明装置及其控制方法，全内反射原位照明装置，包括激光光源、偏振态转换单元、第一反射镜、第二反射镜、直角导光棱镜和计算机，本发明通过计算机的控制所述的一维电机平移台和一维电机转动台的组合来精确控制第二反射镜...
- 崔辉刘世杰赵元安易葵吴建波杨俊刘杰
- 文献传递
- 全内反射原位照明装置及其控制方法
- 一种全内反射原位照明装置及其控制方法，全内反射原位照明装置，包括激光光源、偏振态转换单元、第一反射镜、第二反射镜、直角导光棱镜和计算机，本发明通过计算机的控制所述的一维电机平移台和一维电机转动台的组合来精确控制第二反射镜...
- 崔辉刘世杰赵元安易葵吴建波杨俊刘杰
- 文献传递
- 全内反射显微技术探测亚表面缺陷新方法研究被引量：12
- 2014年
- 亚表面缺陷的检测和去除对于提高光学元件的激光损伤阈值至关重要。结合全内反射显微技术和数字图像处理技术获得光学元件亚表面缺陷信息的新方法,利用显微镜系统的有限焦深,对亚表面缺陷沿深度方向扫描,可以获得不同离焦量下的散射图像,通过数字图像处理技术,建立缺陷散射图像清晰度评价值与离焦量的关系,通过清晰度曲线得到亚表面缺陷的深度位置及深度尺寸。模拟全内反射显微平台的成像过程,讨论微调焦过程中全内反射显微成像的特点。缺陷深度位置及深度尺寸的测量精度主要由载物台精密调焦机构的精度以及显微镜的焦深决定,一般可达微米量级。利用飞秒激光加工技术制备尺寸和位置已知的微结构,使用该方法准确获得了微结构信息,验证了该方法的有效性。
- 崔辉刘世杰赵元安杨俊刘杰刘文文
- 关键词：清晰度评价
- 熔石英再沉积层结构的蚀刻表征
- 利用原子力显微镜观察熔石英酸洗形貌，结合二次离子质谱分析，研究了熔石英的再沉积层结构和抛光杂质分布。酸洗结果表面，熔石英亚表面存在两类划痕，分别为微米级划痕和纳米级划痕。微米级划痕随着酸洗的进行不断展宽变深，纳米级划痕不...
- 杨俊易葵杨明红胡国行崔辉邵建达
- 关键词：抛光蚀刻二次离子质谱
