童和平
- 作品数：11 被引量：22H指数：3
- 供职机构：广东理工职业学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金广东省自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺文化科学机械工程电气工程更多>>
- 曲面薄壁石墨电极的加工被引量：3
- 2015年
- 以散热风扇型腔模用曲面薄壁电极为加工实例,详细分析了模具制造过程中,曲面薄壁电极的结构特点、电极材料的选用,并在生产实践中多次探索,最终通过正确选择刀具、选用合理的切削参数、工艺措施和工艺路线,有效地解决了曲面薄壁石墨电极的数控加工技术难题。
- 张洲谢波童和平
- 关键词：薄壁电极石墨电极铣削加工
- 一种电磁式集群磁流变电磁铁的结构设计及优化被引量：2
- 2012年
- 合理的磁路结构及均匀的磁场强度是影响磁流变抛光效果的关键因素,基于电磁铁的特性并结合实验室提出的集群磁流变技术,设计了一种电磁式集群磁流变电磁铁。详细分析了集群磁流变电磁铁的结构设计,通过Ansoft有限元仿真对磁指长度、集群点阵的结构、集群点阵的间隙和集群点阵的深度进行仿真及优化。优化结果显示:磁指长度l=26mm,磁场区域可以实现由线域到面域;集群点阵为方形下凹,磁极表面磁场强度较大;集群点阵间隙为1mm、深度为2mm时,磁极表面可以获得比较均匀的面域磁场。
- 童和平阎秋生潘继生
- 关键词：集群有限元仿真电磁铁磁极
- 用于集群磁流变抛光的分布式电磁铁结构设计及优化
- 集群磁流变效应抛光是基于磁流变液在磁场作用下成为Bingham粘弹性体的磁流变效应，将磨料混入磁流变液作为抛光工作液，以多点阵列集群磁流变效应柔性研磨刷构成抛光盘进行抛光加工，既克服了传统游离磨料抛光方法不均匀、不稳定，...
- 童和平
- 高职院校关于3D打印实训设备的改良研究
- 2018年
- 目前高职院校普遍采用熔融沉积成型技术进行3D打印,该打印机操作简便,但存在工件易翘曲变形和打印平台不易清洁的两大主要问题。本文对现有打印设备进行改良,有效地解决了这些问题。改良方法简单,实用性强,大大提高了实训效率。
- 张洲童和平谢波
- 关键词：熔融沉积3D打印翘曲变形
- 基于工作页驱动下《金工实训》课程的教学探索被引量：4
- 2014年
- 工作页是以工作流程为导向，将学习与工作项目紧密结合，使教学内容更贴近企业的生产实际。在《金工实训》课程教学中运用工作页模式教学，利用这种特性来引导学生学习，针对实训项目的知识目标、技能目标、流程规范及评价考核等提出系列问题，学生依靠自我分析和团队协助完成整个实训项目。实施以工作页为载体的项目驱动教学．在实践教学中取得了较好的效果。
- 童和平白洁余建
- 关键词：工作页金工实训教学课程
- 单晶SiC抛光用磁流变液稳定性研究及应用被引量：1
- 2018年
- 磁流变液是一种新型的流变特性可控的智能液体,具有较强剪切效应而广泛应用于航空航天等领域。通过改性羰基铁粉和原始羰基铁粉性能的试验对比,得出改性羰基铁粉可以改变抗沉降、团聚稳定性等性能,提高磁流变液的稳定性,进而改善单晶SiC基片的抛光质量。
- 童和平张香红张洲谢波
- 关键词：磁流变液稳定性羰基铁粉
- 基于《悉尼协议》的高职机械制造与自动化专业课程体系构建
- 2018年
- 通过借鉴《悉尼协议》国际先进办学理念,以机械制造与自动化专业为例,积极开发与国际先进标准对接的课程体系.探讨基于《悉尼协议》的课程体系构建的背景、原则与过程,并尝试提出实现该课程体系所采取的保障措施,以达到提高教育教学质量,实现学生综合素质和可持续发展能力的培养目标.同时也为其他高职院校相关专业课程体系的建设提供借鉴.
- 陈国华童和平周婷
- 关键词：机械制造与自动化课程体系构建
- 一种集群式指状电磁铁的结构设计及研究
- 2015年
- 合理的磁路结构及均匀的磁场强度对磁流变抛光效果起着至关重要的作用,基于电磁铁的特性并结合集群磁流变技术,设计了一种集群式指状电磁铁。详细分析了集群式指状电磁铁的结构设计,通过Ansoft有限元仿真对集群式指状电磁铁的结构进行仿真及优化。优化结果显示:当凹槽间隙为1 mm、凹槽深度为2 mm且凹槽进行圆弧处理时,两磁极磁指区域表面可以获得比较均匀的面域磁场。经试验证明,磁极头磁指处磁感应强度的测试曲线与仿真曲线趋势吻合度达87.5%,符合集群效应,磁场强度满足集群磁流变抛光的要求。
- 童和平谢波张香红张洲
- 关键词：集群式有限元
- 基于集群磁流变单晶碳化硅基片抛光加工的工艺研究
- 2014年
- 基于集群磁流变效应超光滑平面抛光理论及试验装置对单晶碳化硅基片进行了平面抛光试验,结果表明,金刚石磨料对单晶SiC基片具有较高的材料去除率;加工间隙在1.5mm左右具有较好的加工效果,随着加工时间的延长表面粗糙度越来越小,且30min内表面粗糙度变化率达到89%以上。通过优化工艺参数对单晶SiC进行集群磁流变平面抛光,发现经过30min加工,表面粗糙度Ra从42.1nm下降到4.2nm,表明集群磁流变效应平面抛光用于加工单晶SiC基片可行且效果显著。
- 童和平
- 关键词：抛光加工
- 单晶SiC基片的集群磁流变平面抛光加工被引量：11
- 2013年
- 基于集群磁流变效应超光滑平面抛光理论及研制的试验装置,对单晶SiC基片进行了平面抛光试验研究。研究结果表明,金刚石磨料对单晶SiC基片具有较好的抛光效果;加工间隙在1.4mm以内抛光效果较好,30min抛光能使表面粗糙度值减小87%以上;随着加工时间的延长,表面粗糙度越来越小,加工30min时粗糙度减小率达到86.54%,继续延长加工时间,加工表面粗糙度趋向稳定。通过优化工艺参数对直径为50.8mm(2英寸)6H单晶SiC进行了集群磁流变平面抛光,并用原子力显微镜观察了试件加工前后的三维形貌和表面粗糙度,发现经过30min加工,表面粗糙度Ra从72.89nm减小至1.9nm,说明集群磁流变效应超光滑平面抛光用于抛光单晶SiC基片可行有效且效果显著。
- 潘继生阎秋生徐西鹏童和平祝江停白振伟
- 关键词：表面粗糙度
