黄文
- 作品数：204 被引量：143H指数：5
- 供职机构：中国工程物理研究院更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项国家自然科学基金国防基础科研计划更多>>
- 相关领域：机械工程金属学及工艺自动化与计算机技术理学更多>>
- 基于流体动力学的小口径磁流变抛光过程机制分析方法
- 2022年
- 磁流变抛光技术是在光学发展中为满足光学元件加工精度的要求,而衍生出的一种新型精密抛光技术。通过对磁流变抛光技术原理的研究提出其核心技术的关键因素。根据核心技术的影响因素设置问题和工艺参数,结合流体动力学的研究方法和理论,分析磁流变液密度、流速对磁流变抛光技术工艺加工的质量和效率的影响,并使用有限元分析软件对抛光过程进行仿真。对磁流变抛光过程抛光区域进行局部模拟仿真分析,并开展交叉参数进行验证。将不同密度的磁流变液分别设置为相同状态下的空气和水,并对初始速度进行对照实验验证。发现了磁流变液的速度、压强和磁流变液的密度这几个工艺参数之间的相互作用机制与内在联系。
- 杨航周俊张云飞黄文何建国
- 关键词：磁流变抛光流体动力学工艺参数
- 一种磁流变抛光液在线匀化装置
- 本发明提供了一种磁流变抛光液在线匀化装置。本发明的装置中的磁流变抛光液储存于储液罐内，传送泵体浸入储液罐体的抛光液中，正桨叶通过螺钉连接并安装固定于传送泵体底部、反桨叶通过螺钉连接并安装固定于传送泵中部，匀化驱动器驱动匀...
- 陈华黄文罗清何建国刘坤郑永成鱼胜利陈东生唐小会张连新
- 文献传递
- 面向中频误差的变距螺旋矩阵轨迹优化方法被引量：1
- 2022年
- 磁流变抛光能够高效去除光学元件表面的低频误差,但同时也引入了中频误差,而中频误差的存在对光学系统的性能造成了严重影响,必须对其进行有效控制。对常用的光栅轨迹和螺旋轨迹进行了研究,发现规则的抛光轨迹导致卷积过程与实际去除过程不一致,会引入对称的迭代误差,而迭代误差是中频误差恶化的重要因素。基于对光栅轨迹和螺旋轨迹的研究,提出了一种变距螺旋矩阵轨迹优化方法,以降低光学元件中频误差。该轨迹通过打乱螺旋矩阵轨迹的螺距保留了光栅轨迹和螺旋轨迹简单易行的优点,同时也改变了轨迹线间的随机性。通过对加工前后的面形进行功率谱分析,验证了该轨迹能够有效降低其表面的中频误差,较光栅线和螺旋线中频收敛效率综合提高了26.59%。
- 杨航陈英黄文韩明张星兴贾阳李彬蒋蓉
- 关键词：磁流变抛光功率谱密度
- 一种基于复合切削的超精密加工方法及超精密加工装置
- 本发明公开了一种基于复合切削的超精密加工方法，包括以下步骤：开启冷却液，利用硬质合金刀具对工件进行精密车削，把工件表面切平；开启超声波椭圆振动装置，进行超声波椭圆振动切削；同时利用低温微量润滑装置对金刚石刀具的刀尖喷射冷...
- 杜东兴毛强孔金星汤金钢黄文李星占
- 文献传递
- 用于薄壁异形曲面的磁致固态流变效应抛光装置
- 本实用新型公开了用于薄壁异形曲面的磁致固态流变效应抛光装置，包括抛光轮、能够带动所述抛光轮转动的公转轴，还包括能够带动所述抛光轮转动的自转轴，所述自转轴与公转轴的轴线相互垂直，所述抛光轮内部中空，抛光轮外表面包覆磁流变弹...
- 黄文张云飞李凯隆张建飞陈立郑永成周涛田东樊炜陈玉川
- 文献传递
- 双柔性磨头磁流变抛光装置
- 本发明公开了一种双柔性磨头磁流变抛光装置，所述装置中床身的竖直龙门和X轴均固定在水平底座上，工作台固定在X轴的滑块上，Y轴固定在竖直龙门的横梁上，第一Z轴、第二Z轴并排设置Y轴上。大柔性磨头安装在第一Z轴上，小柔性磨头安...
- 何建国许乔黄文王洋吉方王亚军陈东生唐小会王健郑永成魏齐龙罗清刘坤吴祉群肖虹张云飞王新宽
- 基于FIB刻蚀的刀具刃口轮廓提取方法
- 本发明公开了基于FIB刻蚀的刀具刃口轮廓提取方法，先在扫描电镜腔内使用FIB模式对刀具后刀面上的圆弧面进行刻蚀获取参考点，然后在超景深显微镜下，基于参考点提取刀具刃口轮廓。本发明通过FIB刻蚀参考点，确保不同切削距离下提...
- 孔金星陈宇杜东兴黄文陈一汤金钢马绍兴
- 文献传递
- 磁流变抛光去除函数空间滤波效能评价方法
- 2022年
- 为了克服磁流变抛光过程中去除函数空间滤波性能处于黑箱的状态,提出了基于频谱分析的去除函数滤波效能评价方法。首先,针对磁流变抛光工艺控制过程,建立了磁流变抛光面形控制方程;进一步,建立了去除函数滤波效能评价方法。利用去除函数的空间频谱实现了对去除函数的定量评价;最后,分析了球形去除函数与随机去除函数的频谱特征。基于连续相位板的加工过程对所提出的方法进行了验证计算。抛光结果显示本方法的去除效能评价在低频段与高频段与PV与rms等传统指标的评价一致,在其他频段的评价显示出优越性,填补了在中频段等非常规频段评价的空白。
- 杨航郑南燕黄文贾阳
- 关键词：磁流变抛光去除函数频谱分析
- 一种基于曲率和浸入深度的磁流变抛光去除函数演绎方法
- 本发明公开了一种磁流变抛光去除函数演绎方法，包括步骤：在给定的工艺参数条件下，在不同曲率的球面镜上分别采集不同浸深的抛光斑，获取实验去除函数；利用基于Bezier样条的磁流变抛光去除函数参数化模型及粒子群优化算法计算各去...
- 樊炜张林黄文张云飞刘军周涛李凯隆郑永成陈立田东张建飞
- 文献传递
- 一种AB双工具摆五轴磁流变抛光机床结构参数标定方法
- 本发明公开一种AB双工具摆五轴磁流变抛光机床结构参数标定方法，建立实际坐标系与理想坐标系之间的坐标变换关系，以及建立测点在实际坐标系中位置坐标的测量模型，通过坐标变换关系将测点从实际坐标系转换到理想坐标系。通过本发明提出...
- 周涛郑永成李凯隆张建飞陈立张云飞黄文樊炜田东
- 文献传递
