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孙元成

作品数:46 被引量:33H指数:4
供职机构:中国建筑材料科学研究总院更多>>
发文基金:国家科技支撑计划国际科技合作与交流专项项目国家自然科学基金更多>>
相关领域:化学工程理学一般工业技术自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 26篇专利
  • 12篇期刊文章
  • 8篇会议论文

领域

  • 17篇化学工程
  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 22篇石英玻璃
  • 8篇光学
  • 7篇抛光
  • 6篇离子
  • 6篇刻蚀
  • 6篇光学均匀性
  • 5篇光学玻璃
  • 5篇亚表面
  • 4篇电感耦合
  • 4篇电感耦合等离...
  • 4篇振动
  • 4篇化学气相
  • 4篇化学气相沉积
  • 4篇合成石英玻璃
  • 4篇PCVD
  • 4篇超纯
  • 3篇双折射
  • 3篇气相沉积
  • 3篇温度
  • 3篇炉体

机构

  • 46篇中国建筑材料...
  • 2篇中建材衢州金...
  • 1篇哈尔滨工业大...
  • 1篇清华大学
  • 1篇武汉理工大学
  • 1篇国防科技大学

作者

  • 46篇孙元成
  • 41篇宋学富
  • 34篇杜秀蓉
  • 33篇张晓强
  • 28篇王慧
  • 7篇邵竹锋
  • 4篇王玉芬
  • 4篇王宏杰
  • 3篇王蕾
  • 3篇钟利强
  • 2篇顾真安
  • 2篇单明广
  • 2篇毕雪梅
  • 2篇钟志
  • 2篇隋梅
  • 2篇王佳佳
  • 2篇符博
  • 1篇祖成奎
  • 1篇钟海
  • 1篇朱永昌

传媒

  • 4篇硅酸盐通报
  • 3篇武汉理工大学...
  • 2篇中国建材科技
  • 1篇硅酸盐学报
  • 1篇光谱学与光谱...
  • 1篇材料导报(纳...
  • 1篇2009年全...
  • 1篇《硅酸盐学报...
  • 1篇第十八届全国...
  • 1篇2017年全...

年份

  • 1篇2023
  • 1篇2022
  • 1篇2019
  • 6篇2018
  • 8篇2017
  • 6篇2016
  • 6篇2015
  • 6篇2014
  • 1篇2013
  • 3篇2010
  • 4篇2009
  • 2篇2008
  • 1篇2007
46 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
微细玻璃颗粒在PCVD玻璃生成炉运动行为初探
1.研究背景等离子体化学气相沉积技术(PCVD)是生产石英玻璃的重要工艺,通过四氯化硅在高温等离子体作用下在玻璃生成转盘上得到的石英玻璃具有尺寸大、性能好、纯度高等优势。但是在生产过程中,玻璃微细颗粒除了沉积在沉积基底上...
宋学富孙元成于溯源
熔制石英玻璃的沉积炉
本发明是关于一种熔制石英玻璃的沉积炉,沉积炉外壁为保温材料,内壁为耐火材料,中间夹层为电热装置或循环水冷却装置;沉积炉为分段保温式沉积炉,从上至下分为四个部分:炉体顶段,为弧形顶盖部分,夹层为电热装置;中段分为2-5个保...
孙元成宋学富杜秀蓉张晓强王慧
文献传递
超纯石英玻璃制备工艺研究被引量:8
2010年
采用高频等离子体化学气相沉积(PCVD)方法合成超纯石英玻璃,通过对化学反应、质量输送、穿越边界层、微粒沉积和玻璃熔融及气体解吸5个阶段的化学、物理机理的分析,提出了PCVD过程模型,计算各阶段所需时间,确定气体解吸阶段所需时间最长,为PCVD过程中的控制反应。控制先驱体四氯化硅流量,在沉积温度1 860℃、沉积速率97.5 g/h条件下成功制备出无宏观气泡的超纯石英玻璃,190 nm处光谱透过率达到84%,羟基含量≤5 ppm,可达到全光谱通过的要求。
王玉芬宋学富孙元成徐驰王蕾
关键词:石英玻璃PCVD沉积速率
CVD合成石英玻璃的结构均匀性研究被引量:10
2010年
高纯石英玻璃在光学、光通信及惯性导航中的应用要求其具备高的结构均匀性。CVD(化学气相沉积法)合成高纯石英玻璃的工艺条件决定了它具备的结构状态。对使用卧式和立式两种工艺合成高纯石英玻璃的结构均匀性进行了研究,通过应力测试和假想温度测试,测得卧式工艺制得玻璃在平行于沉积面方向具有环状不均匀结构,并导致结构应力的环状分布,在垂直于沉积面方向结构均匀;立式工艺制得玻璃在垂直于沉积面方向存在层状结构分布,每层厚度为0.16 cm,在平行于沉积面方向结构均匀性好,直径8 cm范围内无结构应力。
隋梅孙元成宋学富王宏杰
关键词:石英玻璃化学气相沉积
光学玻璃光学均匀性的测量装置及测量方法
本发明是关于光学玻璃光学均匀性的测量装置及测量方法,属于光学玻璃检测领域,所述光学玻璃由应力导致折射率不同,所述测量装置,包括:光源组件,用于提供偏振光;干涉色形成组件,用于使发生双折射的所述偏振光形成干涉色;相位补偿器...
孙元成宋学富张晓强王慧杜秀蓉刘铸熠
文献传递
一种石英玻璃假想温度处理用快开电炉
本实用新型公开了一种石英玻璃假想温度处理用快开电炉,包括:炉体,炉体内部为一端开口的圆柱形炉膛;保温层,设置在所述炉膛内;加热层,设置在所述保温层内;快开门系统,所述快开门系统包括,炉门,所述炉门与炉体铰接,围绕铰接轴转...
王慧杜秀蓉宋学富孙元成张晓强张昕
文献传递
一种平凸柱面镜的加工方法
本发明公开了一种平凸柱面镜的加工方法,包括以下步骤:将玻璃毛坯料粗磨成圆柱,再对其柱面依次进行精磨和抛光,使抛光后的圆柱半径在平凸柱面镜的半径要求范围内;将抛光后的圆柱与平面模具浇铸成盘,沿圆柱轴向方向将圆柱多余柱面磨削...
张晓强宋学富孙元成杜秀蓉王慧钟利强焦洋斌
文献传递
Ⅳ类石英玻璃光学均匀性影响因素研究
2023年
Ⅳ类石英玻璃是一种重要的特种玻璃材料,在光学探测、惯性导航等领域内具有重要作用。光学均匀性是表征光学玻璃结构均匀性的一种重要方法,Ⅳ类石英玻璃的光学均匀性与硅氧网络结构分布一致性密切相关。本文通过四步法光学均匀性测试、紫外-可见-近红外光谱、红外反射光谱等方法,研究了羟基、金属杂质及氧缺陷的径向分布特点和硅氧键键角的径向变化,采用相关性分析研究了各影响因素对样品光学均匀性的影响。结果表明:表示玻璃光学均匀性的波前畸变t_(0)Δn沿玻璃半径先降低后升高;羟基的径向分布整体上与t_(0)Δn的径向变化相反,200 nm处透过率径向变化、硅氧键键角径向变化与t_(0)Δn的径向变化相近;羟基对Ⅳ类石英玻璃光学均匀性的影响较小,金属杂质、氧缺陷及硅氧键键角的径向变化是影响Ⅳ类石英玻璃光学均匀性的主要因素。
袁晶宋学富孙元成杜秀蓉张晓强钟利强
关键词:光学均匀性羟基氧缺陷
石英玻璃抛光质量对腐蚀形貌的影响
抛光后的石英玻璃表面光滑、平整,经过HF酸腐蚀后表面形貌变得凹凸不平。为了解释该现象,从Weyl的亚表面理论着手,借助研磨、抛光破坏层模型和微裂纹扩展模型,详细阐述了微裂纹的存在、变化机理。研磨、抛光后亚表面的微裂纹被认...
邵竹锋王慧孙元成
关键词:石英玻璃腐蚀形貌
文献传递
石英玻璃抛光质量对腐蚀形貌的影响被引量:4
2009年
抛光后的石英玻璃表面光滑、平整,经过HF酸腐蚀后表面形貌变得凹凸不平。为了解释该现象,从Weyl的亚表面理论着手,借助研磨、抛光破坏层模型和微裂纹扩展模型,详细阐述了微裂纹的存在、扩张机理。研磨、抛光后亚表面的微裂纹被认为是造成腐蚀形貌变坏的主要原因。通过不同时间抛光后的腐蚀形貌对比试验证实了该理论和模型。
邵竹锋王慧孙元成
关键词:石英玻璃抛光
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