沈瑶琼
- 作品数：16 被引量：9H指数：2
- 供职机构：上海市计量测试技术研究院更多>>
- 发文基金：上海市博士后基金更多>>
- 相关领域：机械工程电子电信一般工业技术理学更多>>
- 法定计量检定机构的人力资源管理系统
- 2018年
- 0 引言上海市计量测试技术研究院是经上海市质量技术监督局授权批准设立的法定计量检定机构。机构下设电子与电气所、机械与制造所、热工与能源所、化学与电离辐射所、在线与通用所、强制检定中心、基础性能检测中心、材料质量检测中心共八个技术部门,是多门类发展、行业优势突出、计量特色鲜明的法定计量检定机构。早在2010年前,上海市计量测试技术研究院就应用了人事管理信息系统,对人员基本信息进行管理,从一定程度上满足了人员信息浏览查询和简单的统计分析工作。
- 李智玮沈瑶琼肖飞孙薇斌程涛金永贺
- 关键词：法定计量检定机构人力资源管理系统人事管理信息系统电离辐射
- 一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置及测量方法
- 本发明为一种基于激光椭偏系统的薄膜厚度测量装置及测量方法，属于纳米薄膜厚度的光学测量领域。本发明装置依次为激光光源、滤光轮、光隔离器、反射镜组、起偏调制模块、样品台、检测调制模块和信号采集处理模块；所述激光光源发出激光光...
- 雷李华曹程明沈瑶琼管钰晴邹文哲傅云霞
- MEMS三维微触觉测头的低频振动测试系统被引量：6
- 2009年
- 针对一种MEMS三维微触觉测头,构建了基于Suss Microtec三维微定位器和PI压电陶瓷的动态测试装置,对测头的动态性能进行了表征.分别测试了测头在轴向和横向负载下对不同幅度低频振动信号的响应情况,研究了测量过程的短时重复性能.结果表明,压电陶瓷位移-电压曲线的非线性误差在轴向测量模式下小于0.102%,横向测量模式下小于0.507%.
- 李源傅星谢初南沈瑶琼安兆亮栗大超胡小唐
- 关键词：振动测试微机电系统
- 相位测量轮廓术多频外差相位展开的相位跳变误差消除方法
- 本发明公开了一种相位测量轮廓术多频外差相位展开的相位跳变误差消除方法，基于多频外差原理，通过后一像素点相位幅值减去当前像素点相位幅值计算展开相位的梯度，找出展开相位中可能存在误差的可疑点，根据误差的幅值判断误差来源并确定...
- 邹文哲郭创为管钰晴张玉杰雷李华傅云霞沈瑶琼曹程明
- 基于曲面拟合的光学偏折系统显示屏标定方法
- 2024年
- 针对透射式光学偏折系统中最关键的标定环节,提出使用曲面拟合方式拟合显示屏幕面形分布。建立基于透射式光学偏折术的波前检测仿真模型,分析两种不同的显示屏面形拟合方法对波前测量的影响。仿真结果显示:平面屏幕模型波前像差均方根误差(RMS)值为0.8375μm,而曲面屏幕模型仿真波前像差RMS值仅为0.0596μm。采用透射式光学偏折系统对球面透镜进行波前测量,曲面屏幕模型中波前像差RMS值为0.1371μm,平面屏幕模型中波前像差RMS值为1.4326μm。实验结果表明:使用曲面拟合效果明显优于平面拟合效果,证明了曲面拟合屏幕模型的可行性。
- 郭创为管钰晴沈瑶琼徐瑞书朱言瑧刘丽琴张玉杰雷李华雷李华
- 关键词：光学计量曲面拟合
- 一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置
- 本实用新型为一种基于光栅干涉式测量的纳米位移台校准装置，包括准直光源、置于所述准直光源光路上的光电探测模块、与所述光电探测模块位置对应的待校准的纳米位移台、置于所述待校准的纳米位移台上的光栅、与所述光电探测模块电路连接的...
- 刘丽琴雷李华沈瑶琼管钰晴邹文哲郭创为张玉杰傅云霞徐瑞书
- 一种背对式两光栅相互平行的调节装置
- 本实用新型为一种背对式两光栅相互平行的调节装置，用于实现两光栅栅面平行和两光栅栅线平行的调节，包括第一光栅A、第二光栅B、红光光源、接收屏、光栅安装板、小孔光阑、准直光源、分别设于光栅四个角的螺纹结构和用于光栅与光栅安装...
- 雷李华梁利杰张玉杰管钰晴沈瑶琼刘丽琴邹文哲郭创为傅云霞
- 接触式干涉仪的调整和修理
- 2012年
- 0引言
接触式干涉仪是以光波干涉原理为基础，采用微差比较法测量长度的高准确度仪器。主要用于检定尺寸小于150mm的2等和2等以下的量块，也可对其他高准确度零件进行测量或作高准确度定位。在一般计量部门．接触式干涉仪较多地使用于检定和校准3、4等量块。
- 沈瑶琼
- 关键词：接触式干涉仪高准确度比较法
- Si/SiO_(2)多层膜线宽关键参数精细化表征技术研究被引量：1
- 2024年
- 线边缘粗糙度(LER)和线宽粗糙度(LWR)是衡量线宽标准样片质量的重要指标。文中基于自溯源光栅标准物质的自溯源、高精密尺寸结构特性,提出了一种直接溯源型精确校准SEM放大倍率的方法,以实现SEM对线宽标准样片关键参数的测量与表征。利用校准后的SEM,对利用Si/SiO_(2)多层膜沉积技术制备的线宽名义值为500、200、100 nm样片进行关键参数的测量,采用幅值量化参数的均方根粗糙度RMS描述线边缘粗糙度与线宽粗糙度,并通过图像处理技术确定线边缘位置,对线宽边缘特性进行了精确表征。实验结果表明,名义值为500、200、100 nm对的线宽样片,其实测值分别为459.5、191.0、99.5 nm,σLER分别为2.70、2.35、2.30 nm,σLWR分别为3.90、3.30、2.80 nm,说明了多层膜线宽标准样片线边缘较为平整、线宽变化小、具有良好的均匀性与一致性。基于自溯源标准物质校准SEM的方法缩短了溯源链,提高了SEM的测量精度,实现了线宽及其边缘特性的精确表征,为高精度纳米尺度测量和微电子制造领域提供了计量支持。
- 褚小要沈瑶琼刘丽琴邹文哲管钰晴郭创为张玉杰梁利杰孔明雷李华
- 关键词：线边缘粗糙度
- 一种用于检定两光栅平行性的装置
- 本实用新型为一种用于检定两光栅平行性的装置，包括同光轴布置的第一光栅、第二光栅、激光器、小孔光阑、半透半反棱镜、五角棱镜和观察屏，所述装置包括调节栅面平行和调节栅线平行两部分，利用第一光栅和第二光栅的镜面反射，通过调节第...
- 雷李华张玉杰沈瑶琼刘丽琴管钰晴梁利杰邹文哲郭创为傅云霞
