王超
- 作品数：109 被引量：97H指数：5
- 供职机构：中国工程物理研究院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家科技重大专项中国工程物理研究院发展基金更多>>
- 相关领域：电子电信金属学及工艺理学机械工程更多>>
- 一种含氮不锈钢、部件制备方法及用途
- 为解决现有技术中存在的现有含氮不锈钢不适用于增材制造的技术问题，本发明实施例提供一种含氮不锈钢、部件制备方法及用途；含氮不锈钢以铁为基体元素，包括如下质量分数的合金元素：C 0.02‑0.09％、Si 0.2‑0.5％、...
- 王国伟沈显峰杨家林王超秦煜李君黄姝珂
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- 一种多通道任意波形发生系统
- 本实用新型公开了一种多通道任意波形发生系统，包括计算机控制模块、精密时序发生组件和任意波形发生器，所述精密时序发生组件包括依次连接的外参考时钟、时钟及多频率信号编码模块和数据流光扇出模块，所述数据流光扇出模块与任意波形发...
- 党钊王超左方明汪凌芳陈骥唐菱李克洪魏晓峰朱启华胡东霞许党朋齐珍陈德怀
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- 抛光磨粒及其制备方法、磁流变抛光液
- 本发明公开了抛光磨粒及其制备方法、磁流变抛光液，所述抛光磨粒为通过在磨粒本体表面接枝带有亲水性基团的有机聚合物形成的核‑壳结构。本发明通过在磨粒表面接枝亲水性高分子链：一方面促进磨粒在抛光液态环境中的分散，弱化因团聚导致...
- 潘金龙叶敏恒李晓媛李启凯叶作彦王超
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- 纳米金刚石磨粒团聚对熔石英摩擦磨损性能的影响被引量：1
- 2023年
- 为了研究磁流变抛光液中磨粒团聚对光学玻璃元件的磨损性能,利用环境可控的直线往复式摩擦磨损试验机,以不锈钢球为对磨副,以熔石英为基底,系统地研究了磁流变抛光液中纳米金刚石磨粒团聚程度对熔石英摩擦磨损性能的影响,并利用光学显微镜、白光干涉仪等设备分析熔石英的磨损机制,最后将摩擦学实验结果与实际磁流变抛光结果进行对比。实验结果表明:纳米金刚石磨粒团聚程度越大,熔石英表面的材料去除率越大,磨损区域亚表面损伤情况越严重。当载荷为0.5 N时,熔石英在团聚磨粒作用下的磨损主要以黏着磨损为主,伴随着轻微的磨粒磨损,同时熔石英的亚表面无明显损伤;当载荷从0.5 N增加到4 N时,熔石英的磨损形式以磨粒磨损为主,熔石英的表面和亚表面出现大量损伤。采用相同磨粒团聚程度的抛光液进行熔石英磨损与磁流变抛光实验发现,熔石英在磁流变抛光过程中的材料去除率与磨损实验的材料去除率变化趋势保持一致,表明借助摩擦磨损实验在一定程度上可以预测实际磁流变抛光中的材料去除率。
- 程磊何洪途叶敏恒王超余家欣
- 关键词：磁流变抛光纳米金刚石熔石英
- 电化学抛光用柔性电极及内腔结构电化学抛光方法
- 本发明公开了电化学抛光用柔性电极及内腔结构电化学抛光方法，属于金属增材制造抛光处理技术领域。本发明解决的技术问题是现有技术还没有适宜的办法对内腔‑管道一体化结构的内腔表面进行抛光处理。本发明电化学抛光用柔性电极包括绝缘层...
- 叶作彦叶敏恒王利利潘金龙李晓媛王超沈显峰
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- kJ脉冲激光器控制系统设计被引量：2
- 2014年
- 对大型高功率激光器控制系统的工作环境和应用特点进行了研究和分析。结合kJ脉冲激光器控制系统设计实例,介绍了一套优化的高可靠性控制系统模型。以以太网和EtherCAT总线为基本框架,设计了开放异构的分布式计算机控制系统,软件是基于CORBA中间件C/S调用模式的三层结构体系。能适应kJ脉冲激光器控制对象分布分散、电磁环境恶劣的特点,对整个激光器控制对象进行有序控制,满足装置正常打靶运行要求。
- 汪凌芳张晓璐唐菱党钊王超陈骥张学东
- 关键词：脉冲激光器控制系统分布式控制CORBA中间件
- 神光-Ⅲ主机装置高速时序控制研究被引量：1
- 2014年
- 神光-Ⅲ主机装置多束光脉冲之间的同步时序控制是通过三台任意波形发生器来实现的。提出由同步系统提供外时钟、外触发信号来实现三台任意波形发生器同步工作,并通过闭环监控手段来解决任意波形发生器开关机、重新加载时间波形后的相位跳变问题。实验验证证明采用该技术方案能够实现三台任意波形发生器的同步工作,保证了神光-Ⅲ主机装置高速时序的低抖动控制。
- 张晓璐王建军许党朋汪凌芳王超唐菱陈骥党钊
- 关键词：时钟频率任意波形发生器
- 一种激光脉冲能量稳定装置及其能量稳定方法
- 本发明公开了一种激光脉冲能量稳定装置及其能量稳定方法，属于激光技术领域，该装置分为主光路和取样光路，主光路设有普克尔盒电光开关，取样光路设有光电导开关，首先探测激光脉冲的能量起伏，然后通过光电导开关迅速泄放施加在普克尔盒...
- 谢旭东唐军陈骥朱启华党钊唐菱高松胡东霞郑万国王正辉王超陈远斌汪凌芳陈林王方刘勇刘建国卢振华
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- 高精度镍微柱阵列模具的制造
- 2021年
- 使用基于SU-8胶的微电铸工艺制造了一款微柱宽度为200μm,高度为300μm,柱间隙最小为200μm的镍微柱阵列模具。针对制造过程中SU-8光刻胶去胶难的问题,提出了一种预置溶胀间隙的方法。该方法可以使完整的胶膜分割成许多独立单元,独立的胶膜单元在去胶时溶胀破裂,脱离金属微结构。去胶释放后微柱结构表面光洁、无残余光刻胶,微柱阵列的宽度尺寸误差低至1.35%。研究表明:预置溶胀间隙的方法具有易操作、成本低等优点,可以应用于微小结构的去胶。
- 杜立群王胜羿肖海涛于洋董雅坤叶作彦王超
- 关键词：结合力溶胀
- 光学元件的表面划痕及其对入射激光的调制作用被引量：6
- 2006年
- 对光学元件表面划痕进行了细致的观察,并将它们分为单划痕、双划痕和多划痕三类,采用时域有限差分方法,以加工过程中常见的直径为二分之一波长的半圆形划痕为基本研究对象,数值模拟了位于光学元件前后表面的多条划痕附近的空间光强分布,总结了在不同划痕条数下光强最大值随着划痕间距变化的曲线图。结果表明:位于光学元件后表面的划痕比位于前表面时更加容易引起光学损伤;在多条划痕情况下,空间光强最大值随着划痕间距的增大呈周期性变化,并随着划痕间距的不断增大而趋于一稳定数值。
- 杨浩冯国英韩敬华王超苏娟许乔朱启华
- 关键词：时域有限差分激光损伤阈值光强分布
