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蒙丽娟

作品数:3 被引量:5H指数:2
供职机构:北京工业大学材料科学与工程学院更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 2篇一般工业技术

主题

  • 3篇气相沉积
  • 3篇化学气相
  • 3篇化学气相沉积
  • 3篇
  • 2篇残余应力
  • 1篇性能研究
  • 1篇开裂
  • 1篇开裂原因分析
  • 1篇CVD
  • 1篇CVD法
  • 1篇沉积层

机构

  • 3篇北京工业大学

作者

  • 3篇蒙丽娟
  • 2篇魏建忠
  • 2篇马捷
  • 1篇王从曾
  • 1篇张永志

传媒

  • 2篇中国表面工程

年份

  • 3篇2011
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
CVD法外壁沉积钨管工艺组织性能研究
钨是典型的难熔稀有金属,具有高熔点、高硬度、高弹性模量,具有良好的的导热性、导电性和比较稳定的化学性能,高温强度高、膨胀系数低和耐磨、耐腐蚀等特性。在冶金、电子、宇航、核电、兵器、电光源以及化学工业等领域有着广泛的应用。...
蒙丽娟
关键词:化学气相沉积
化学气相沉积钨管开裂原因分析被引量:2
2011年
采用切环测量法及X射线应力分析方法对化学气相沉积制备的开裂钨管进行测量与分析。结果表明,在钨管内表面较大残余拉应力作用下,裂纹萌生于钨管内表面两个邻近柱状晶的晶界,沿柱状晶的晶界向钨管外壁扩展;钨管外表面存在较大的残余压应力对裂纹的继续扩展起阻碍作用。
马捷蒙丽娟魏建忠王从曾
关键词:化学气相沉积开裂残余应力
CVD钨沉积层组织控制被引量:3
2011年
以WF6和H2为反应气体,采用间断供应反应气体方法改变CVD钨沉积层显微组织形貌。研究了间断沉积工艺参数对沉积层显微组织及性能的影响,讨论了间断沉积层的表面应力状态及断口裂纹扩展情况。结果表明:采用间断化学气相沉积法钨层的显微组织随周期沉积时间的缩短,柱状晶晶粒长度尺寸变小,形态逐渐接近等轴晶;沉积层表面形貌呈圆球状,沉积层生长界面不再趋向于单一方向;钨层保持了连续CVD钨的高纯度、高密度特性。且采用间断供应反应气体沉积方法显著降低了钨制品表面的残余应力,使裂纹扩展方向发生改变,有效阻碍了裂纹的深入扩展。
马捷张永志魏建忠蒙丽娟
关键词:化学气相沉积残余应力
共1页<1>
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