靳京城
- 作品数：55 被引量：28H指数：4
- 供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信一般工业技术医药卫生更多>>
- 深紫外氧化物薄膜的光学特性被引量：6
- 2011年
- 降低薄膜的吸收对于氧化物薄膜在深紫外波段的应用具有重要意义,为此采用离子束溅射方法分别制备了用于深紫外波段的Al2O3和SiO2薄膜,利用光度法和椭圆偏振法相结合,计算得到其在190～800nm范围内折射率n和消光系数k的色散曲线。在此基础上,以这两种氧化物材料作为高低折射率材料进行组合,设计并制备了λ/4规整膜系的193nm多层高反射膜。实验结果表明,退火前薄膜的光学损耗相对较大,其中散射损耗较小,吸收损耗是光学损耗的主要部分。退火后光学损耗明显减小,散射损耗随着表面粗糙度增加而略微增加,表明光学损耗的减小是由吸收损耗下降所引起的。通过工艺优化,改善了氧化物薄膜在深紫外波段的损耗状况,使其在深紫外波段具有较好的光学特性,退火后高反射膜的反射率在193nm处达96%以上。
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- 关键词：深紫外离子束溅射氧化物损耗
- ArF激光光学薄膜元件综合偏振测量装置及测量方法
- 本发明涉及一种ArF激光光学薄膜元件综合偏振测量装置，该装置的ArF准分子激光器、ArF准分子激光扩束准直装置、可变光阑、起偏器、分束器、样品台沿主光轴顺序放置；参比光偏振探测装置位于分束器的反射光路上，样品台位于分束器...
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- 文献传递
- 一种极紫外光学元件表面污染清洗装置及方法
- 本发明涉及极紫外光刻技术领域，具体公开一种极紫外光学元件表面清洗装置及清洗方法。本发明的极紫外光学元件表面清洗装置包括清洗腔体；设置于清洗腔体外两侧的进气口和出气口；设置于清洗腔体内的样品支撑调节台、紫外光发生装置、CO...
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- 文献传递
- 一种CaF<Sub>2</Sub>光学基底深紫外激光辐射诱导表面变化检测方法
- 本发明公开了一种CaF<Sub>2</Sub>光学基底深紫外激光辐射诱导表面变化检测方法。本发明的方法包括步骤：S1，采用微区Raman光谱仪，选择Raman光谱测试模式，设定Raman光谱的测试参数，对CaF<Sub>...
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- 文献传递
- 193nm氟化物薄膜的激光诱导损伤被引量：4
- 2013年
- 在ArF准分子激光系统的应用中,光学薄膜元件激光诱导损伤的因素很多,因此在特定模式下分析薄膜损伤机理具有重要意义。采用热蒸发方法分别制备了LaF3和MgF2单层薄膜,以及LaF3/MgF2的半反射薄膜和高反射薄膜,对沉积的薄膜进行了ArF准分子193nm激光的损伤阈值测量,并采用Nomarski显微镜观察了薄膜的表面缺陷和损伤形貌。实验结果表明,在薄膜的制备过程中,单层LaF3薄膜沉积后表面比较光滑,而MgF2薄膜则有少量的缺陷产生,缺陷随着薄膜层数的增加而逐渐增多。从薄膜的显微观测推断,在此工艺条件下制备的高反射薄膜损伤主要是由于大量缺陷引起。
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- 关键词：激光损伤热蒸发氟化物
- 一种制备多层膜元件过程中非灵敏层误差控制方法及装置
- 本发明实施例公开了一种制备多层膜元件过程中非灵敏层误差控制方法及装置，利用晶控法制备薄层灵敏度高的优点，控制制备非灵敏层前端部分，使剩余光控沉积厚度部分落在最佳灵敏位置监控，减少光控信号不灵敏带来的监控误差，利用光控法制...
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- ArF准分子激光对氟化物高反射薄膜的诱导损伤被引量：3
- 2014年
- 为了研究特定模式下氟化物高反射薄膜的损伤机理,采用相衬微分干涉显微镜、原子力显微镜和台阶仪对不同工艺条件下制备薄膜的损伤区域逐步进行对比分析,在薄膜沉积温度增加后,随着薄膜体内聚集密度的增加,薄膜激光损伤阈值有所提升;对于规整膜系,体内驻波电场强度分布对薄膜损伤也有较大影响。结果表明,根据薄膜损伤形貌和损伤深度综合推断,制备的高反射薄膜损伤是由薄膜体内的聚集密度和电场强度分布所共同引起。该实验结果为下一步继续研究高性能激光反射薄膜打下了基础。
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- 关键词：激光损伤氟化物
- 一种极紫外光学元件表面污染清洗装置及方法
- 本发明涉及极紫外光刻技术领域，具体公开一种极紫外光学元件表面清洗装置及清洗方法。本发明的极紫外光学元件表面污染清洗装置包括清洗腔体；设置于清洗腔体外两侧的进气口和出气口；设置于清洗腔体内的样品支撑调节台、紫外光发生装置、...
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- 文献传递
- 一种深紫外光学薄膜处理装置
- 一种深紫外光学薄膜处理装置涉及深紫外光学技术应用领域，该装置包括：控制模块和处理腔。控制模块对处理腔的工作状态进行设定和控制，处理腔对深紫外光学薄膜进行处理；控制模块包括：变压器、电容、数字电路板、第一开关、第二开关和第...
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- 热蒸发紫外LaF_3薄膜光学性能和结构表征被引量：3
- 2012年
- 在不同的沉积温度下,用热蒸发方法在熔融石英(JGS1)上制备了LaF3单层薄膜。分别采用分光光度计测量了薄膜样品的透射率和反射率光谱,反演得出薄膜的折射率和消光系数;采用原子力显微镜(AFM)观察了样品的表面形貌,并通过表面粗糙度计算得出总积分散射损耗;采用X射线衍射仪(XRD)测试了薄膜的晶体结构,由衍射谱图拟合得到衍射峰的半峰全宽,进而计算出薄膜晶粒的平均尺寸。实验结果表明,随着沉积温度的升高,LaF3薄膜的结晶状况明显变好,晶粒尺寸逐渐变大,膜层变得更加致密,薄膜的光学常数和折射率不均匀性均呈线性变化。沉积温度的增加对薄膜表面粗糙度的影响不明显,散射损耗在光学损耗中所占比例较小,所以光学损耗的变化主要由吸收损耗引起。
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- 关键词：沉积温度热蒸发LAF3
