温圣林
- 作品数：61 被引量：109H指数：7
- 供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家科技重大专项更多>>
- 相关领域：机械工程理学电子电信核科学技术更多>>
- 用于光束匀滑的连续相位板近场均匀性被引量：9
- 2011年
- 为降低高功率激光系统中连续相位板(CPP)后续元件的强激光损伤风险,综合考虑入射光强调制、干涉及衍射作用等多种影响因素,建立了CPP近场计算分析模型,模拟和分析了这些因素对CPP后的近场均匀性的影响。理论分析结果表明:CPP后的光束近场均匀性主要受入射光调制、CPP表面剩余反射率和衍射传输距离的影响;当入射光束质量较差时,CPP后的近场均匀性主要由入射光束质量决定,CPP剩余反射率和衍射传输距离对近场均匀性影响相对较小;但当光束质量比较理想时,干涉和衍射作用会破坏CPP的近场均匀性,衍射传输距离影响尤为突出。
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- 关键词：近场光束质量惯性约束聚变
- 厚胶光刻中曝光光强对光化学反应速率的影响被引量：2
- 2006年
- 针对用于厚层光刻的重氮萘醌类正性光刻胶,利用动力学模型,分析了光化学反应速率的影响因素;给出了光化学反应速率明显受光强变化的影响以致互易律失效的原因。对厚度24μm的光刻胶AZP4620在相同曝光量而光强分别为3.2mW/cm2和0.63mW/cm2的条件下进行了数值模拟和实验。当曝光光强为3.2mW/cm2时仅需300s,即可显影完全,而当曝光光强为0.63mW/cm2时需要的时间长达2400s,才显影完全,且面形轮廓差异较大。因此,在厚胶光刻中,当曝光光强较大时应适当减小曝光量,反之,应适当增加曝光量。
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- 关键词：厚胶光刻光化学反应光强动力学模型
- 复合光学透镜、激光装置及长焦深涡旋光束的产生方法
- 本申请实施例提供一种复合光学透镜、激光装置及长焦深涡旋光束的产生方法，属于激光装置技术领域。复合光学透镜具有用于同一光束穿过的第一透镜面和第二透镜面，第一透镜面为螺旋相位面，第二透镜面为锥镜面，螺旋相位面沿远离第二透镜面...
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- 文献传递
- 山丘区果树高效集雨精量灌溉技术规程
- 本文件规定了山丘区果树高效集雨精量灌溉系统建设的相关术语和定义，雨水高效集蓄系统建设、输配水系统建设、精量灌溉系统建设的方法和技术要求等。本文件适用于四川省行政范围内山丘区果树高效集雨精量灌溉系统建设。
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- 连续型螺旋相位板设计方法
- 本发明公开了一种连续型螺旋相位板设计方法，涉及应用光学领域。步骤为：1)确定激光器波长和对应的光场分布；2)确定成像距离和目标图像；3)确定螺旋相位板整体尺寸和拓扑荷数；4)根据连续抛光工艺提取去除函数形态特征；5)根据...
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- 文献传递
- 最小空间周期对连续相位板加工和性能的影响被引量：7
- 2015年
- 最小空间周期是连续位相板(CPP)设计和加工过程中的重要特征参数。根据惯性约束聚变大型激光驱动装置的需求,建立不同空间周期的CPP设计与分析方法,研究了不同最小空间周期对磁流变加工和焦斑性能的影响。结果表明,磁流变加工的去除函数尺寸直接与CPP的最小空间周期成线性关系,而加工去除量与最小空间周期的平方根成线性关系,最小周期越大,加工越容易,但加工量越大;焦斑整形性能受最小空间周期的影响小,能量集中度差异小于0.2%,但焦斑顶部均匀性随着最小空间周期变小而变好,5 mm最小周期CPP的焦斑顶部不均匀比15 mm的CPP小3.5%。因此,设计时应尽量减小最小空间周期,但选取的最小空间周期不能大于加工设备的约束条件。
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- 关键词：光学器件焦斑惯性约束聚变
- 连续位相板加工方法及装置
- 本发明提供了一种连续位相板加工方法及装置，涉及位相板加工技术领域。所述连续位相板加工方法包括：获取不同宽度的磁流变抛光斑；基于所述磁流变抛光斑的不同宽度，对连续位相板的表面周期结构进行分割提取，生成多幅具有不同周期结构的...
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- 一种基于特征频谱带阻滤波的寄生条纹消除方法及装置
- 本发明公开了一种基于特征频谱带阻滤波的寄生条纹消除方法及装置，该方法包括：获取含有寄生条纹的干涉仪采斑测量面形数据矩阵f(x,y)；计算寄生条纹的相关参数和所述面形数据矩阵f(x,y)频谱放大倍数N；根据所述相关参数和放...
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- 文献传递
- 大口径连续相位板波前检测被引量：8
- 2010年
- 在高功率激光系统中,大口径连续相位板(CPP)元件是用来进行光束整形的关键衍射光学器件,由于其毫米量级的空间周期、大相位梯度的波前特征,大口径干涉仪无法满足检测需求。提出采用小口径高分辨率干涉仪结合子孔径拼接实现相位板元件透射/反射波前的检测,采用了误差均化的拼接方法,设计了针对圆形孔径的数据融合新算法,研制了子孔径拼接检测装置,实现了一块330 mm×330 mm的连续相位板元件透射波前的检测。实验结果表明,针对其毫米量级的周期,最大可检测到的波前梯度接近3μm/cm,检测重复性精度优于6 nm[均方根(RMS)],波前数据模拟焦斑计算结果与高功率激光系统中的远场焦斑特性检测结果获得了较好的一致性。
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- 关键词：子孔径拼接
- 连续位相板磁流变加工中高精度边缘延拓技术被引量：1
- 2019年
- 为了提高磁流变加工连续位相板边缘加工质量,实现元件全口径抛光,必须对元件原始误差面形进行边缘延拓,针对现有边缘延拓算法的不足,提出了采用改进的二维Gerchberg带宽受限延拓算法实现连续位相板元件面形频域匹配的边缘延拓。该方法首先采用复调制频谱放大技术Zoom FFT对元件原始误差面形进行频谱分析,计算其高低截止频率;然后采用改进后的二维Gerchberg带宽受限延拓算法进行迭代计算,在原始面形外围延拓出与原始面形同频的高精度延拓结构面形。采用尺寸为100 mm×100 mm具有复杂频谱结构的连续位相板元件进行边缘延拓和磁流变加工实验,实验结果表明:采用改进的Gerchberg边缘延拓技术延拓的面形边缘更加规整,边缘效应影响半径由5 mm减小到2 mm,面形残余误差RMS从19.3 nm减小到了9.7 nm。这说明该边缘延拓技术可以明显提高连续位相板面形的边缘加工质量和整体收敛精度。
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