王巍
- 作品数：8 被引量：7H指数：2
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- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 高密度等离子刻蚀机中的等离子体诊断技术被引量：2
- 2005年
- 等离子体诊断技术对于高密度等离子刻蚀过程的监控显得非常重要。讨论了几种主要的等离子体诊断技术:l a n g m u i r 探针,发射光谱法(O E S),激光诱导荧光法(L I F),光谱椭偏法,质谱法,并就其技术特点及在实际运用时面临的问题进行了详细的讨论。
- 王巍叶甜春李兵陈大鹏刘明
- 关键词：质谱法
- 高密度等离子体刻蚀系统中诊断模型的初步分析
- 高密度等离子体刻蚀已经广泛运用于深亚微米的微电子制造工艺中,并成为制约着产能及器件性能的关键步骤,因而有必要对等离子体刻蚀过程进行原位的实时监控。而利用传统的线性回归方法已经无法对包含有数目众多的变量的谱图数据进行实时分...
- 王巍陈大鹏刘明叶甜春李兵
- 关键词：等离子体刻蚀等离子体诊断神经网络法
- 文献传递
- 等离子体刻蚀过程的APC技术研究进展
- 2005年
- 先进过程控制(APC)是一个多层次的控制系统,其包含了实时的设备及工艺控制和非实时的RtR控制。APC引入等离子体刻蚀过程控制可极大提高刻蚀机的使用效率。针对等离子体刻蚀过程,本文分别从实时控制和RtR控制两个不同层次展开了论述,概述了RtR控制器中所使用的线性回归模型和神经网络模型。最后,讨论了APC技术的发展趋势。
- 王巍叶甜春刘明陈大鹏
- 关键词：等离子体刻蚀先进过程控制实时控制
- 高密度等离子体刻蚀机中的终点检测技术被引量：4
- 2005年
- 高密度等离子体刻蚀是当今超大规模集成电路制造过程中的关键步骤。目前已经开发出许多终点检测技术。文章讨论了终点检测技术的原理,综述了目前主流刻蚀机使用的两种终点检测技术—OES和IEP—的最新进展,讨论了终点检测技术在深亚微米等离子体刻蚀工艺中的应用,以及所面临的挑战。
- 王巍叶甜春陈大鹏刘明李兵
- 关键词：等离子体刻蚀工艺OES
- APC技术在刻蚀工艺过程控制中的研究进展被引量：1
- 2007年
- APC是一个多层次的控制系统,其包含了实时的设备及工艺控制和非实时的RtR控制。APC引入等离子体刻蚀过程控制可极大提高等离子刻蚀机的使用效率和产品成品率,适应当前深亚微米半导体工艺技术发展的需求。针对等离子体刻蚀机及其刻蚀工艺过程控制的需求,本文分别从实时控制和RtR控制两个不同层次展开了论述,讨论了APC技术的发展趋势。
- 王巍吴志刚
- 关键词：等离子体刻蚀APC
- 一种基于基本结构的CMOS CAM单元的优化设计
- 2004年
- 本文对采用0.18μm CMOS工艺设计的CAM存储单元的结构、工作原理和性能进行了分析和优化,并给出HSPICE仿真的结果,从仿真波形可以看出优化的合理可行。此CAM已成功地应用于CPU的存储器中。
- 牛旭花叶青王巍黄令仪叶甜春
- 关键词：CAMCPUCMOS工艺仿真波形基本结构
- 等离子体刻蚀工艺控制模型分析
- 2006年
- 讨论了主因素分析法以及神经网络法在等离予体刻蚀工艺中的应用。结果表明主元素分析法可以实现对数据的压缩,而神经网络算法则显示出比传统的统计过程控制算法更好的准确性。
- 王巍叶甜春吴志刚田益祥
- 关键词：等离子体刻蚀神经网络法
- 高密度等离子体刻蚀系统中诊断模型的初步分析
- 高密度等离子体刻蚀已经广泛运用于深亚微米的微电子制造工艺中,并成为制约着产能及器件性能的关键步骤,因而有必要对等离子体刻蚀过程进行原位的实时监控.而利用传统的线性回归方法已经无法对包含有数目众多的变量的谱图数据进行实时分...
- 王巍陈大鹏刘明叶甜春李兵
- 关键词：等离子体刻蚀等离子体诊断神经网络法
- 文献传递
