黄祖鑫
- 作品数：33 被引量：132H指数：7
- 供职机构：中国工程物理研究院应用电子学研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划中国工程物理研究院基金更多>>
- 相关领域：电子电信理学机械工程核科学技术更多>>
- 高功率激光膜层损伤过程研究
- 光学膜层在强激光的辐照下,其损伤过程和损伤结果是多种多样的.通过系统研究几类常用膜层在不同条件下的激光破坏过程,发现通过控制激光辐照条件,可改变光学膜层的破坏方式和破坏程度,能安全可靠地提高光学元件损伤阈值,提升高功率激...
- 蒋晓东黄祖鑫任寰唐灿
- 关键词：损伤形貌激光预处理光学薄膜
- 文献传递
- 任意球面元件的超高反射率测量方法被引量：1
- 2013年
- 为了实现任意球面元件的超高反射率测量,提出直腔和折叠腔两种光腔结构,以实现0°,10°,15°和30°等不同角度下球面元件的超高反射率测量。详细分析了这两种测量方式,根据光束传输变换公式,推导了任意球面元件在测量中引入的衰荡光腔物理腔长的变化,得到了实验测量中腔长调节指导。并根据光腔衰荡法原理,推导了球面元件在超高反射率测量中的通用数学表达式,对测量公式进行了讨论,分析结果扩展了光腔衰荡法在元件超高反射率测量的使用范围。
- 易亨瑜彭勇黄祖鑫陈兴无
- 关键词：光学测量反射率光腔衰荡
- 波前功率谱密度函数评价方法探讨被引量：11
- 2002年
- 波前功率谱密度 PSD( Power Spectral Density)能定量给出波前畸变的空间频率分布、限定波纹度和粗糙度指标 ,全面反映 ICF驱动器对高功率激光光学元件加工质量的特殊要求。给出了波前功率谱密度 PSD的定义及计算方法 ,并使用大口径相移干涉仪作为波前检测仪器 ,对光学磷酸盐钕玻璃透射波前进行了测试实验 ,获得波前一维 PSD分布 ,证实功率谱密度为高功率激光光学元件波前参数的一种有效表征方式。同时 ,还对 PSD与均方根 RMS之间的关系进行了初步的讨论。
- 任寰卓志云蒋晓东彭净叶琳黄祖鑫唐灿
- 关键词：光元件PSDICF惯性约束聚变
- 一种共轴反转环型连续变密度衰减器装置及其工作方法
- 本发明提供一种共轴反转环型连续变密度衰减器装置及其工作方法，所述装置包括基座、电机、输出齿轮、齿轮盘一、齿轮盘二、衰减片一和衰减片二；衰减片一和衰减片二为圆环形；齿轮盘一和齿轮盘二均具有齿盘和转轴，齿轮盘一还具有贯穿其齿...
- 王锋石岩邹凯黄祖鑫张永红李源杨钧兰尚武云
- 文献传递
- 光学膜层激光预处理过程研究被引量：12
- 2002年
- 光学元件经过激光预处理后 ,其抗激光破坏能力最大提高 2倍以上 ,系统研究激光预处理机理和工艺 ,能安全可靠地提高光学元件损伤阈值 ,提升高功率激光系统的能量密度。研究了几种 sol- gel膜、PVD膜在预处理前后膜层表面的变化 (损伤形貌 )以及损伤阈值的增幅 ,发现预处理过程膜层仍然发生了一定程度的轻微损伤 ,这种损伤和膜层本身缺陷、激光参数密切相关 。
- 蒋晓东黄祖鑫任寰彭净叶琳唐灿
- 关键词：激光预处理损伤形貌光学元件激光装置损伤阈值
- 单层溶胶-凝胶化学膜的损伤机理
- 从单层 ZrO薄膜和单层 SiO薄膜的两种主要损伤形貌出发,分析产生这两种损伤形貌的原因,说明了这两种膜料的单层溶胶—凝胶化学膜损伤机理,即单层 ZrO薄膜的损伤主要由热冲击造成,而单层 SiO薄膜的损伤主要由热吸收造成...
- 黄祖鑫蒋晓东任寰吕海兵张磊何钱军彭勇胡晓阳
- 关键词：溶胶-凝胶损伤形貌热冲击热吸收
- 文献传递
- 一种大跨距收发轴校准装置及校准方法
- 本发明公开了一种大跨距收发轴校准装置及校准方法，涉及光电探测技术领域，对多孔径光电探测系统进行轴系校准，包括远场消色差物镜组、分光棱镜、远场探测器、小孔光阑、聚焦透镜、卤钨灯和角锥线阵，所述远场消色差物镜组、分光棱镜、小...
- 王锋黄祖鑫靳全伟李源张永红王喜洋
- 一种对开式连续变密度衰减器装置及其工作方法
- 本发明提供一种对开式连续变密度衰减器装置及其工作方法，所述装置包括：基础框架、线性导轨一、线性导轨二、衰减镜及镜框一、衰减镜及镜框二、齿条一、齿条二、输入齿轮、输出齿轮和电机；线性导轨一和线性导轨二与基础框架下部分固定连...
- 王锋石岩顾静良张永红黄祖鑫尚武云杨钧兰李源
- 光学膜层的激光预处理过程研究
- 2001年
- 重点研究了激光造成的膜层轻微损伤的微观结构和光学性质,分析了膜层表面质量、激光强度和照射次数对膜层表面变化的影响,以此为依据指导激光预处理方法来提高光学元件损伤阈值.就激光损伤机理而言,不管是雪崩离化机制还是多光子吸收机制,都直接或间接地与光学膜层的微观杂质、缺陷有关,预处理过程就是有效消除使膜层产生严重损坏的因素,即消除杂质和缺陷的过程,所以,预处理过程同时也是一个使膜层产生微损伤的过程.工作研究了几种sol-gel膜、PVD膜在预处理前后膜层表面的变化(损伤形貌),损伤阈值的增幅,发现最大不损伤能流值越高的膜层,其预处理效果更好.预处理过程膜层的安全性(减低预处理对膜层的破坏程度)、膜层的预处理效果与两种因素有关,即膜层的内在质量(与膜层缺陷无关的质量)和预处理的激光能量参数(包括初始能量、能量增量、频率等).本身缺陷或杂质较少(或小),阈值较高的膜层,预处理过程中激光能量可以大跨度增加(3～4次激光辐照),且预处理产生的损伤较小.激光对膜层的清洗作用是预处理过程的主要机制,采用水蒸汽凝结法对比水气在预处理膜层上的凝结和蒸发速度,证明其表面对水的接触角明显降低,既洁净度提高,但这不是大幅度提高损伤阈值的主要因素.对于缺陷和杂质较多的膜层(如多层反射膜),即使严格控制激光预处理条件,预处理过程中会不可避免地产生不同程度的微损伤,大部分微损伤点的位置与原始的缺陷和杂质点相吻合,由于这些缺陷是降低膜层整体损伤阈值的主要原因,所以,预处理效果明显(最高阈值增加达2倍),通过增加预处理过程中的能量分段,可降低微损伤的程度,提高其在工作能流下的稳定性,达到预处理的目的.(OH8)
- 蒋晓东任寰黄祖鑫卓东雷卓志云
- 一种单驱双极位移放大器及用于光轴调整的位移放大装置
- 本发明公开了一种单驱双极位移放大器及用于光轴调整的位移放大装置，所述单驱双极位移放大器包括基座、一级杠杆、二级杠杆和驱动器；其中，所述基座和一级杠杆为L型结构；所述一级杠杆的一端经第一柔性铰与基座的一端相连，所述一级杠杆...
- 石岩马立斌雒仲祥邹凯王锋黄祖鑫张永红尹新启李国会徐宏来杨钧兰龚宇周彦卿欧龙
