白亮
- 作品数:6 被引量:19H指数:3
- 供职机构:同济大学理学院精密光学工程技术研究所更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划上海市科学技术委员会资助项目更多>>
- 相关领域:理学电子电信一般工业技术机械工程更多>>
- 不同本底真空度下SiC/Mg极紫外多层膜的制备和测试被引量:8
- 2009年
- 为研究不同本底真空度对SiC/Mg极紫外多层膜光学性能的影响,利用直流磁控溅射方法在不同本底真空度条件下制备了峰值反射波长在30.4nm的SiC/Mg周期膜。X射线掠入射反射测试结果表明,不同本底真空度条件下制备的SiC/Mg周期多层膜膜层质量有明显差异。用同步辐射测试了SiC/Mg多层膜在工作波长处的反射率,结果表明,本底真空度为6.0×10-5Pa时,SiC/Mg周期膜反射率为43%,而本底真空度在5.0×10-4Pa时,SiC/Mg多层膜反射率仅为30%。同步辐射反射曲线拟合结果表明,反射率随着本底真空度降低是由多层膜Mg膜层中的Mg氧化物含量增多造成的。
- 朱京涛黄秋实白亮蒋晖徐敬王晓强周洪军霍同林王占山陈玲燕
- 关键词:多层膜反射率磁控溅射
- 高反射率Mo/B_4C多层膜设计及制备被引量:6
- 2008年
- 运用遗传算法优化设计了Mo/B4C多层膜结构。入射光入射角度取10°时,设计的理想多层膜膜对数为150,周期为3.59 nm,Gamma值(Mo膜厚与周期的比值)为0.41,峰值反射率为33.29%。采用恒功率模式直流磁控溅射方法制作Mo/B4C多层膜。通过在Mo/B4C多层膜与基底之间增加15 nm厚的Cr粘附层,提高多层膜与基底的粘附力。另外,还采用调整多层膜Gamma值的方法减小其内应力,调整后多层膜结构周期为3.59 nm,Mo膜厚1.97 nm,B4C膜厚1.62 nm,峰值反射率26.34%。制备了膜对数为150的Mo/B4C膜并测量了其反射率,在波长7.03 nm处,Mo/B4C多层膜的近正入射反射率为21.0%。最后对测量结果进行了拟合,拟合得到Mo/B4C多层膜的周期为3.60 nm,Gamma值0.60,界面粗糙度为0.30 nm。
- 张慧晶张众朱京涛白亮陈锐黄秋实刘丽琴谭默言王风丽王占山陈玲燕
- 关键词:软X射线直流磁控溅射应力反射率
- 30.4 nm波长处Mg基多层膜反射镜被引量:4
- 2009年
- 太阳光谱中重要的He-Ⅱ谱线(波长30.4 nm)的观测对于研究太阳活动和日地空间环境具有重要意义,实现空间极紫外太阳观测需要采用多层膜作为反射元件。研究了工作在30.4 nm的Mg基多层膜。以反射率最高为评价函数设计了多层膜,采用直流磁控溅射技术制备了SiC/Mg,B_4C/Mg和C/Mg多层膜,用X射线衍射仪测量了多层膜的结构。研究表明虽然B_4C/Mg多层膜理论反射率最高,但实际制备结果显示,SiC/Mg多层膜的成膜质量最好,反射率最高。同步辐射反射率测量表明:在入射角10°时实测的SiC/Mg多层膜反射率为44.6%。
- 白亮朱京涛徐敬黄秋实吴文娟王晓强王占山陈玲燕
- 关键词:薄膜光学多层膜磁控溅射极紫外反射率
- 磁控溅射方法制备碳膜稳定性的研究
- 内应力与附着性是影响C膜稳定性的重要因素。本文分析了磁控溅射方法制备C膜中内应力产生的主要原因,研究了应力大小与沉积时工艺条件--气压、靶距之间的关系,提出了控制C膜中内应力的方法,并通过添加Ti中间层增强了C膜的附着性...
- 刘丽琴王占山朱京涛张众王风丽徐迭张慧晶白亮徐垚
- 关键词:磁控溅射内应力附着性
- 文献传递
- 用傅里叶变换方法实现的纳米多层膜性能表征被引量:1
- 2009年
- 利用傅里叶变换(FFT)分析了纳米多层膜的X射线掠入射反射率测试曲线,模拟了各种制备和测试条件对多层膜结构参数测试结果的影响,检验了傅里叶变换方法的适用性和精确度。分析结果表明,相对于传统的反射曲线拟合方法,傅里叶变换方法具有直观和快速的优点,在不引入主观的膜层结构模型的情况下可以较为准确地定出复杂的多层膜结构参数,为多层膜结构表征提供了一种分析方法。
- 蒋晖徐敬朱京涛黄秋实白亮王晓强王占山陈玲燕
- 关键词:纳米多层膜傅里叶变换自相关函数
- 高反射率Mo/B4C多层膜研究
- Mo/B4C多层膜是6.7~8nm波段高反射率反射镜较好的材料组合,用遗传算法优化设计了Mo/B4C多层膜,得到了相应的结构参数,采用直流磁控测射方法实现了Mo/B4C多层膜的制作。运用同步辐射光原完成了Mo/B4C多层...
- 张慧晶王占山陈玲燕张众朱京涛白亮陈锐黄秋实刘丽琴谭默言王风丽
- 关键词:多层膜遗传算法反射率
- 文献传递