祝沛
- 作品数：6 被引量：4H指数：1
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 相关领域：理学文化科学一般工业技术电子电信更多>>
- 凸透镜焦距的测量装置和测量方法
- 一种凸透镜焦距的测量装置和测量方法，该装置由1053nm光纤点光源、激光测距仪、精密移动导轨、待测凸透镜、剪切干涉板、毛玻璃屏和CCD组成。利用CCD观察经透镜准直后输出光束在剪切干涉板形成的条纹图样，调节光纤点光源在精...
- 朱海东郭爱林祝沛胡恒春唐仕旺马晓君谢兴龙
- 真空蒸镀光学元件面形变化机制研究
- 在惯性约束聚变(ICF)装置中，为了提高激光驱动系统的输出光束质量，需要对光学元件的面形进行严格控制。为了提高光学元件性能，元件表面需要镀制激光薄膜。然而镀膜后元件面形会发生改变。目前针对薄膜应力造成的形变的研究工作较多...
- 祝沛
- 关键词：真空蒸镀光学元件基底应力光学加工
- 凸透镜焦距的测量装置和测量方法
- 一种凸透镜焦距的测量装置和测量方法，该装置由1053nm光纤点光源、激光测距仪、精密移动导轨、待测凸透镜、剪切干涉板、毛玻璃屏和CCD组成。利用CCD观察经透镜准直后输出光束在剪切干涉板形成的条纹图样，调节光纤点光源在精...
- 朱海东郭爱林祝沛胡恒春唐仕旺马晓君谢兴龙
- 文献传递
- 镀膜元件面形变化的时间效应和湿度效应被引量：1
- 2009年
- 对镀制强激光薄膜的光学元件在外界环境中时,表面面形发生的变化进行了研究。理论分析了表面面形的变化机制,明确水致应力具有物理和化学两种形成机制,是改变镀膜元件面形的主要因素;实验研究了镀制激光高反膜的K9材料元件存放过程中面形变化趋势,发现这种趋势变化具有时间效应和湿度效应。
- 祝沛沈卫星陈卫华张伟
- 关键词：面形
- 真空蒸镀过程基底应力对元件面形的影响被引量：3
- 2009年
- 在真空蒸发镀膜过程中,元件面形的改变主要决定于基底应力(包括自重应力与残余应力)在镀膜前后的分布状态。通过建模定性分析发现,基底的自重应力在薄膜沉积前后施加并撤除的状态变化,会导致薄膜与基底界而产生相互制约的应力。由此引起的基底形变幅度微小,基本可忽略不计;因此,基底的残余应力是导致真空蒸镀过程中基底而形变差的主要因素。在抛光前对基底进行精密退火处理,可以有效地消除由基底残余应力引起的无规则形变。
- 祝沛朱健强
- 关键词：光学加工应力分析自重应力残余应力
- 水致应力对激光薄膜光学元件面形的影响
- 激光薄膜通常选用SiO和HfO薄膜层叠构成,真空电子束蒸发镀制的激光薄膜具有柱状生长微结构,柱状晶粒之间存在大量的气孔和空洞,镀膜元件存放于外界环境中时,微孔会通过毛细凝结作用吸附空气中的水蒸气,从而诱发水致应力(wat...
- 祝沛沈卫星陈卫华
- 文献传递
