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胡刚翔

作品数:5 被引量:23H指数:2
供职机构:浙江工业大学更多>>
发文基金:浙江省自然科学基金浙江省教育厅科研计划更多>>
相关领域:金属学及工艺机械工程电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇抛光
  • 2篇调节器
  • 2篇制热
  • 2篇输送泵
  • 2篇抛光加工
  • 2篇抛光液
  • 2篇温度调节
  • 2篇温度调节器
  • 2篇隔热
  • 2篇隔热层
  • 1篇单晶
  • 1篇单晶硅
  • 1篇硬质
  • 1篇硬质合金
  • 1篇数学
  • 1篇数学模型
  • 1篇抛光机
  • 1篇晶片
  • 1篇镜面
  • 1篇镜面磨削

机构

  • 5篇浙江工业大学
  • 1篇浙江海洋学院

作者

  • 5篇胡刚翔
  • 3篇金杨福
  • 2篇胡晓冬
  • 2篇李伟
  • 1篇胡晓珍
  • 1篇马树林
  • 1篇李伟
  • 1篇李伟

传媒

  • 1篇南京航空航天...
  • 1篇2006年中...

年份

  • 2篇2008
  • 1篇2007
  • 1篇2006
  • 1篇2005
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
双面抛光加工运动过程分析与数学模型的建立被引量:19
2005年
晶片在双面抛光加工过程中具有多向运动、受力复杂、表面材料微细去除的特征,晶片的运动和受力是影响双面抛光加工质量的主要因素。本文通过分析双面抛光加工时晶片的运动规律和受力状态,建立了双面抛光加工时晶片运动的数学模型。研究结果表明,晶片的运动是行星运动和自转运动的合成,当晶片质量和惯性矩较小并可以忽略时,晶片的自转速度与抛光压力、抛光垫和晶片表面间的摩擦状态无关,而与行星轮和晶片端面间的摩擦状态、行星轮系统运动参数和抛光盘转速有关。
金杨福李伟胡刚翔胡晓珍
关键词:晶片数学模型
单晶硅双面抛光加工理论及工艺优化的研究
随着微电子技术和信息技术的飞速发展,对各种光电子元件的加工要求越来越高,如何高效地获得光电子晶片超平滑无损伤表面已成为超精密抛光加工技术的研究方向,目前我国超精密加工研究与应用水平还落后于工业技术发达国家,因此开发具有自...
胡刚翔
关键词:单晶硅抛光机
文献传递
硬质合金镜面磨削过程中超细磨粒切削性能的研究
随着硬质合金等硬脆材料日益广泛的应用,磨削加工在整个机械加工领域已经日趋重要。ELID(ElectrolyticIn—ProcessDressing)磨削利用在线电解的方法修整超细粒度的金刚石砂轮,可以有效地实现硬脆材料...
马树林李伟胡刚翔
关键词:镜面磨削硬质合金
文献传递
抛光液恒温输送装置
一种抛光液恒温输送装置,包括用于存放抛光液的桶体,所述的桶体外设有隔热层,所述的桶体上设有与抛光加工区域连通的抛光液输送泵、回流管,所述的抛光液恒温输送装置还包括温度调节器、温度传感器以及控制器,所述温度调节器安装在桶体...
胡刚翔胡晓冬李伟金杨福
文献传递
抛光液恒温输送装置
一种抛光液恒温输送装置,包括用于存放抛光液的桶体,所述的桶体外设有隔热层,所述的桶体上设有与抛光加工区域连通的抛光液输送泵、回流管,所述的抛光液恒温输送装置还包括温度调节器、温度传感器以及控制器,所述温度调节器安装在桶体...
胡刚翔胡晓冬李伟金杨福
文献传递
共1页<1>
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