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文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇铁电
  • 1篇湿法刻蚀
  • 1篇铁电薄膜
  • 1篇铁电材料
  • 1篇微电子
  • 1篇微电子机械
  • 1篇微电子机械系...
  • 1篇雾化
  • 1篇刻蚀
  • 1篇PZT
  • 1篇PZT薄膜
  • 1篇PZT铁电薄...
  • 1篇MEMS

机构

  • 2篇中国科学技术...

作者

  • 2篇金浙萍
  • 1篇褚家如
  • 1篇吴亚雷
  • 1篇许晓慧
  • 1篇吴建华

传媒

  • 1篇微细加工技术

年份

  • 2篇2006
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
MEMS中PZT铁电材料的雾化湿法刻蚀技术研究
锆钛酸铅(PZT)薄膜具有优异的压电性能,是微电子机械系统(MEMS)领域中一种重要的传感和驱动材料,在制备微传感器和微驱动器器件中具有广泛的应用。微图形化是PZT薄膜应用的关键技术之一,微图形的转化精度将直接影响到器件...
金浙萍
关键词:MEMS微电子机械系统
文献传递
PZT铁电薄膜的雾化湿法刻蚀技术研究被引量:2
2006年
PZT薄膜的微图形化是制备基于PZT薄膜微传感器和微驱动器的关键技术之一。通过引入雾化技术,改进了传统的PZT薄膜湿法刻蚀方法,进一步减小了薄膜微图形的侧蚀比,提高了图形的转化精度。选用体积比为1∶2∶4∶4的BHF/HCl/NH4Cl/H2O溶液作为刻蚀液,对溶胶-凝胶法制备的1μm厚PZT薄膜作雾化湿法刻蚀,刻蚀速率为28 nm/s,侧蚀比为0.5∶1。对所得样品表面区域进行EDS分析表明,所得PZT薄膜图形表面无残留物,该工艺可用于MEMS领域中PZT薄膜的微图形化。
金浙萍许晓慧吴建华吴亚雷褚家如
关键词:PZT薄膜湿法刻蚀雾化
共1页<1>
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