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朱琳

作品数：1 被引量：5H指数：1
供职机构：南京大学现代工程与应用科学学院固体微结构物理国家重点实验室更多>>
发文基金：国家教育部博士点基金国家自然科学基金国家科技重大专项更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇原子层沉积
  • 1篇前驱体
  • 1篇金属
  • 1篇金属薄膜
  • 1篇金属材料
  • 1篇ALD
  • 1篇成核

机构

  • 1篇南京大学

作者

  • 1篇李爱东
  • 1篇朱琳

传媒

  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2015
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
原子层沉积技术制备金属材料的进展与挑战被引量：5
2015年
原子层沉积(ALD)技术是一种三维共形沉积金属薄膜或金属纳米结构的有效手段。简要介绍了ALD技术的基本原理和特点,着重阐述和比较了ALD生长贵金属、过渡金属和活泼金属的不同工艺条件、化学过程和反应生长机理,如贵金属的燃烧反应与成核孕育期、过渡金属铜互连的前驱体与表面平整性以及活泼金属的能量辅助沉积,探讨了前驱体、成核等对金属沉积和质量的重要影响,说明了原位监控手段在生长中的作用。最后简述了ALD沉积金属面临的瓶颈,由于一些重要金属前驱体的匮乏,新的反应路径和生长机理亟待发现,并展望了其未来发展和应用前景。
朱琳李爱东
关键词：金属薄膜前驱体成核
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