2025年3月24日
星期一
|
欢迎来到叙永县图书馆•公共文化服务平台
登录
|
注册
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
樊永祥
作品数:
9
被引量:0
H指数:0
供职机构:
西安电子科技大学
更多>>
发文基金:
国家自然科学基金
更多>>
相关领域:
电子电信
文化科学
更多>>
合作作者
许晟瑞
西安电子科技大学
郝跃
西安电子科技大学
姜腾
西安电子科技大学
张进成
西安电子科技大学
赵颖
西安电子科技大学
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
8篇
专利
1篇
期刊文章
领域
2篇
电子电信
1篇
文化科学
主题
6篇
砂纸
6篇
条纹
6篇
ALN薄膜
6篇
衬底
4篇
图形衬底
4篇
技术工艺
4篇
SIC
2篇
氢气
2篇
纳米
2篇
纳米线
2篇
光刻
2篇
非极性
2篇
氨气
2篇
SIC衬底
2篇
铟
2篇
GAN
1篇
氮化
1篇
生长速率
1篇
实验教学
1篇
教学
机构
9篇
西安电子科技...
作者
9篇
许晟瑞
9篇
樊永祥
8篇
张进成
8篇
姜腾
8篇
郝跃
6篇
赵颖
4篇
林志宇
2篇
李培咸
2篇
杨林安
2篇
周小伟
2篇
张春福
传媒
1篇
高教学刊
年份
1篇
2020
3篇
2019
4篇
2017
1篇
2014
共
9
条 记 录,以下是 1-9
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
基于c面SiC图形衬底的极性c面AlN薄膜及其制备方法
本发明公开了一种基于c面SiC图形衬底的极性c面AlN薄膜,主要解决现有技术工艺复杂,制作周期长和费用高的问题。其自下而上包括:100‑500um厚的c面SiC衬底层、10‑150nm厚的GaN成核层、1000‑6000...
周小伟
赵颖
杜金娟
许晟瑞
张进成
樊永祥
姜腾
郝跃
文献传递
基于m面GaN上的极性InN纳米线材料及其制作方法
本发明公开了一种基于m面GaN上的极性InN纳米线材料及其制作方法,主要解决常规极性InN纳米线生长中工艺成本高、效率低、方向一致性差的问题。其生长步骤是:(1)在m面GaN衬底上蒸发一层1‑15nm金属Ti;(2)将有...
许晟瑞
姜腾
郝跃
杨林安
张进成
林志宇
樊永祥
张春福
文献传递
基于m面SiC衬底的半极性AlN薄膜及其制备方法
本发明公开了一种基于m面SiC图形衬底的半极性AlN薄膜,主要解决现有技术工艺复杂,制作周期长和费用高的问题。其自下而上包括:100‑500μm厚的m面SiC衬底层、20‑120nm厚的GaN成核层、1500‑5000n...
许晟瑞
赵颖
彭若诗
樊永祥
张进成
李培咸
姜腾
郝跃
基于r面SiC图形衬底的非极性a面AlN薄膜及其制备方法
本发明公开了一种基于r面SiC衬底的非极性a面AlN薄膜,主要解决现有非极性a面AlN薄膜制备工艺复杂,制作周期长和费用高的问题。其自下而上包括:200‑500μm厚的r面SiC衬底层、50‑150nm厚的GaN成核层、...
许晟瑞
赵颖
彭若诗
张进成
林志宇
樊永祥
姜腾
郝跃
基于m面GaN上的极性InN纳米线材料及其制作方法
本发明公开了一种基于m面GaN上的极性InN纳米线材料及其制作方法,主要解决常规极性InN纳米线生长中工艺成本高、效率低、方向一致性差的问题。其生长步骤是:(1)在m面GaN衬底上蒸发一层1-15nm金属Ti;(2)将有...
许晟瑞
姜腾
郝跃
杨林安
张进成
林志宇
樊永祥
张春福
文献传递
先进科研测试技术在实验教学中的应用研究
2020年
面对行业需求和学科前沿的快速发展,以增强学生创新能力培养和建立科学研究信心为目的,在本科“微电子科学与工程”专业实验教学平台上,结合西电在宽禁带半导体材料GaN领域的科研优势,通过在实验教学中引入先进的科研测试技术,讨论科学研究促进教学改革的思路。以荧光光谱分析技术在半导体材料参数的测试应用为案例,探讨先进科研测试手段在实验教学中应用的模式、方法和问题等。
樊永祥
许晟瑞
康海燕
关键词:
测试技术
实验教学
半导体材料
基于r面SiC图形衬底的非极性a面AlN薄膜及其制备方法
本发明公开了一种基于r面SiC衬底的非极性a面AlN薄膜,主要解决现有非极性a面AlN薄膜制备工艺复杂,制作周期长和费用高的问题。其自下而上包括:200‑500μm厚的r面SiC衬底层、50‑150nm厚的GaN成核层、...
许晟瑞
赵颖
彭若诗
张进成
林志宇
樊永祥
姜腾
郝跃
文献传递
基于m面SiC衬底的半极性AlN薄膜及其制备方法
本发明公开了一种基于m面SiC图形衬底的半极性AlN薄膜,主要解决现有技术工艺复杂,制作周期长和费用高的问题。其自下而上包括:100‑500μm厚的m面SiC衬底层、20‑120nm厚的GaN成核层、1500‑5000n...
许晟瑞
赵颖
彭若诗
樊永祥
张进成
李培咸
姜腾
郝跃
文献传递
基于c面SiC图形衬底的极性c面AlN薄膜及其制备方法
本发明公开了一种基于c面SiC图形衬底的极性c面AlN薄膜,主要解决现有技术工艺复杂,制作周期长和费用高的问题。其自下而上包括:100‑500μm厚的c面SiC衬底层、10‑150nm厚的GaN成核层、1000‑6000...
周小伟
赵颖
杜金娟
许晟瑞
张进成
樊永祥
姜腾
郝跃
文献传递
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张