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王丽鹤

作品数:18 被引量:0H指数:0
供职机构:沈阳芯源微电子设备有限公司更多>>

文献类型

  • 18篇中文专利

主题

  • 6篇顶针
  • 6篇密封
  • 6篇晶圆
  • 4篇均布
  • 4篇废液
  • 3篇显影
  • 3篇显影液
  • 2篇电路
  • 2篇电路制造
  • 2篇调整装置
  • 2篇动力装置
  • 2篇药液
  • 2篇湿法
  • 2篇湿法处理
  • 2篇受热
  • 2篇排废
  • 2篇排气槽
  • 2篇排液
  • 2篇气源
  • 2篇自动调整装置

机构

  • 18篇沈阳芯源微电...

作者

  • 18篇王丽鹤
  • 2篇卢继奎

年份

  • 6篇2018
  • 2篇2017
  • 7篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2014
18 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种热盘工艺密闭腔自动调整装置
本发明涉及晶圆在热盘内工艺时需形成密闭腔的装置,具体地说是一种热盘工艺密闭腔自动调整装置。包括驱动机构、盘盖升降机构、盘盖、密封环、下密封体、盘体及底板,其中驱动机构和下密封体安装在底板上,所述盘体设置于下密封体内,所述...
王丽鹤
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一种微环境控制系统
本发明涉及晶圆加工领域,具体地说是一种在晶圆生产时使设备内部气流流向平稳的微环境控制系统,包括风机、整流板、风扇和风压传感器,其中风机设置于晶圆输送单元的上方,晶圆输送单元的底面上设有整流板,整流板上均布有通风孔,整流板...
王丽鹤
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一种防止晶圆滑动的升降盘体装置
本发明涉及进入热盘工艺时晶圆下降方式的装置,具体地说是一种防止晶圆滑动的升降盘体装置,包括固定盖、升降盘体、顶针机构及下固定板,固定盖及顶针机构分别安装在下固定板上,升降盘体位于固定盖与顶针机构之间,包括加热盘体、外密封...
王丽鹤
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一种用真空实现不同浓度液体的分离回收装置
本发明涉及晶片显影完显影液排出用的设备,具体地说是一种用真空实现不同浓度液体的分离回收装置。包括气源、通断装置I、真空发生装置、通断装置II、废液盒I、通断装置III及废液盒II,其中真空发生装置的进气口和吸出口通过管路...
王丽鹤卢继奎
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一种显影液恒温保持管路系统
本发明属于半导体匀胶显影领域,具体地说是一种显影液恒温保持管路系统,保温水循环系统的出口通过进水管进入显影单元、连接至集液块,与显影液源相连的显影液管进入显影单元,依次连接集液块、水液分离式药液阀及分液块,集液块与水液分...
王丽鹤
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一种工艺单元排废积液检测装置
本发明涉及一种工艺单元排废积液检测装置,下罩及隔板分别安装在工艺单元的工作台上,第一隔板位于下罩的内侧,内罩的一端挂在第一隔板上,另一端与下罩抵接,上罩位于内罩的外侧、并插设于下罩上,且与内罩之间形成导流内腔;下罩上连接...
王丽鹤
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一种提升晶圆受热均匀性的装置
本发明涉及进入热盘工艺时对晶圆加热的设备,具体地说是一种提升晶圆受热均匀性的装置,包括升降机构、加热机构及基础,升降机构包括上密封盖、顶针及安装在基础上的动力装置,上密封盖与顶针分别位于加热机构的上下两侧,并分别与动力装...
王丽鹤
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一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴
本发明涉及集成电路制造单片湿法处理设备,具体地说是一种低冲击力均布流量的湿法处理工艺喷嘴,包括药液盒盖板、线型喷嘴型板、药液分配孔板、喷嘴主架、隔离板及温控盒压板,药液分配孔板及隔离板分别安装在喷嘴主架的两侧,隔离板与喷...
胡延兵王丽鹤
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一种热盘工艺腔气流均布装置
本发明涉及晶圆在热盘工艺时气流分布装置,具体地说是一种热盘工艺腔气流均布装置,加热盘体安装在下密封盘体内,加热盘体与下密封盘体内壁之间容置有均流管,均流管与安装在下密封盘体上的排气管相连通,且均流管上沿周向均布有多个气孔...
王丽鹤
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一种热盘工艺密闭腔自动调整装置
本发明涉及晶圆在热盘内工艺时需形成密闭腔的装置,具体地说是一种热盘工艺密闭腔自动调整装置。包括驱动机构、盘盖升降机构、盘盖、密封环、下密封体、盘体及底板,其中驱动机构和下密封体安装在底板上,所述盘体设置于下密封体内,所述...
王丽鹤
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共2页<12>
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