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杨映虎

作品数：10 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院宁波材料技术与工程研究所宁波材料技术与工程研究所更多>>
相关领域：化学工程理学自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 10篇中文专利

领域

  • 2篇化学工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 5篇冷却剂
  • 4篇腔体
  • 4篇衬底
  • 3篇电感线圈
  • 3篇电感耦合
  • 3篇电感耦合等离...
  • 3篇压力控制
  • 3篇离子
  • 3篇控制阀
  • 3篇供气
  • 3篇供气系统
  • 2篇等离子体
  • 2篇电源
  • 2篇电源系统
  • 2篇压力控制阀
  • 2篇射频
  • 2篇碳化硅
  • 2篇喷枪
  • 2篇硅薄膜
  • 2篇抽真空

机构

  • 10篇中国科学院宁...

作者

  • 10篇高平奇
  • 10篇叶继春
  • 10篇韩灿
  • 10篇邬苏东
  • 10篇杨映虎
  • 5篇张胜

年份

  • 3篇2017
  • 1篇2016
  • 3篇2015
  • 3篇2014
共 10 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
等离子体薄膜沉积装置
本实用新型提供了一种等离子体薄膜沉积装置，该装置包括腔体、供气系统、等离子体喷枪系统、抽真空系统、射频电源系统和压力控制系统，所述腔体中设置有样品台；所述等离子体喷枪系统与所述供气系统连通；所述抽真空系统与所述腔体连通；...
叶继春邬苏东高平奇杨映虎韩灿
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硅薄膜的制备方法
本发明公开了一种硅薄膜的制备方法，使用中压等离子体设备制备硅薄膜，包括以下步骤：将衬底清洗后放入沉积腔室的样品台上；将所述沉积腔室抽真空；在等离子体喷枪的腔体中通入第一气体，所述第一气体在所述等离子体喷枪的腔体中生成等离...
邬苏东叶继春高平奇杨映虎韩灿
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等离子体薄膜沉积装置及沉积方法
本发明提供了一种等离子体薄膜沉积装置及沉积方法，该装置包括腔体、供气系统、等离子体喷枪系统、抽真空系统、射频电源系统和压力控制系统，所述腔体中设置有样品台；所述等离子体喷枪系统与所述供气系统连通；所述抽真空系统与所述腔体...
叶继春邬苏东高平奇杨映虎韩灿
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电感耦合等离子体喷枪及等离子体设备
本发明公开了一种电感耦合等离子体喷枪及等离子体设备，其中，电感耦合等离子体喷枪包括放电室、气体导入装置、冷却装置和电感线圈；放电室由第一空心管材围设而成，第一空心管材为氮化硅管或碳化硅管；气体导入装置与放电室连通；冷却装...
邬苏东叶继春高平奇杨映虎韩灿张胜
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衬底温度的控制方法、装置及薄膜沉积设备
本发明公开了一种衬底温度的控制方法、装置及薄膜沉积设备。其中，所述衬底置于中空的样品台上，所述样品台的中空区域通有流通的冷却剂，通过以下方式实现对衬底温度的控制：测量流入样品台的冷却剂的温度，得到流入温度；测量流出样品台...
叶继春韩灿邬苏东高平奇杨映虎张胜
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电感耦合等离子体喷枪及等离子体设备
本发明公开了一种电感耦合等离子体喷枪及等离子体设备，其中，电感耦合等离子体喷枪包括放电室、气体导入装置、冷却装置和电感线圈；放电室由第一空心管材围设而成，第一空心管材为氮化硅管或碳化硅管；气体导入装置与放电室连通；冷却装...
邬苏东叶继春高平奇杨映虎韩灿张胜
衬底温度的控制方法、装置及薄膜沉积设备
本发明公开了一种衬底温度的控制方法、装置及薄膜沉积设备。其中，所述衬底置于中空的样品台上，所述样品台的中空区域通有流通的冷却剂，通过以下方式实现对衬底温度的控制：测量流入样品台的冷却剂的温度，得到流入温度；测量流出样品台...
叶继春韩灿邬苏东高平奇杨映虎张胜
等离子体薄膜沉积装置及沉积方法
本发明提供了一种等离子体薄膜沉积装置及沉积方法，该装置包括腔体、供气系统、等离子体喷枪系统、抽真空系统、射频电源系统和压力控制系统，所述腔体中设置有样品台；所述等离子体喷枪系统与所述供气系统连通；所述抽真空系统与所述腔体...
叶继春邬苏东高平奇杨映虎韩灿
电感耦合等离子体喷枪及等离子体设备
本实用新型公开了一种电感耦合等离子体喷枪及等离子体设备，其中，电感耦合等离子体喷枪包括放电室、气体导入装置、冷却装置和电感线圈；放电室由第一空心管材围设而成，第一空心管材为氮化硅管或碳化硅管；气体导入装置与放电室连通；冷...
邬苏东叶继春高平奇杨映虎韩灿张胜
硅薄膜的制备方法
本发明公开了一种硅薄膜的制备方法，使用中压等离子体设备制备硅薄膜，包括以下步骤：将衬底清洗后放入沉积腔室的样品台上；将所述沉积腔室抽真空；在等离子体喷枪的腔体中通入第一气体，所述第一气体在所述等离子体喷枪的腔体中生成等离...
邬苏东叶继春高平奇杨映虎韩灿
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