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何骏

作品数:4 被引量:1H指数:1
供职机构:中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇光刻
  • 2篇掩模
  • 2篇轴承盖
  • 2篇紫外光刻
  • 2篇光刻胶
  • 1篇掩模板
  • 1篇遗传算法
  • 1篇英文
  • 1篇支座
  • 1篇谱密度
  • 1篇微结构
  • 1篇限位
  • 1篇接近式光刻
  • 1篇精确控制
  • 1篇激光
  • 1篇激光预处理
  • 1篇功率谱
  • 1篇功率谱密度
  • 1篇光学
  • 1篇光学邻近效应

机构

  • 4篇中国科学院上...
  • 2篇中国科学院大...

作者

  • 4篇郭猛
  • 4篇何骏
  • 3篇刘世杰
  • 3篇王斌
  • 2篇柯立公
  • 2篇易葵
  • 1篇李大伟
  • 1篇王虎
  • 1篇柴英杰
  • 1篇吴建波

传媒

  • 1篇中国激光
  • 1篇强激光与粒子...

年份

  • 1篇2016
  • 3篇2015
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
紫外光刻二维平台
一种紫外光刻二维平台,该平台包括底板、立板、L形托板、深沟轴承、锁母、轴承盖、第一旋转台、传动支座、传感器、限位板、限位杆、第二旋转台、气嘴连接杆、平板、基板和限位块,利用本发明紫外光刻二维平台,将气嘴连接杆连接真空泵将...
刘世杰何骏易葵柯立公杨留江王斌王岳亮郭猛
文献传递
紫外光刻二维平台
一种紫外光刻二维平台,该平台包括底板、立板、L形托板、深沟轴承、锁母、轴承盖、第一旋转台、传动支座、传感器、限位板、限位杆、第二旋转台、气嘴连接杆、平板、基板和限位块,利用本发明紫外光刻二维平台,将气嘴连接杆连接真空泵将...
刘世杰何骏易葵柯立公杨留江王斌王岳亮郭猛
文献传递
厚胶接近式光刻中掩模优化研究(英文)
2015年
随着光刻胶厚度的不断增大,制作的光刻图形畸变愈发严重,这极大的影响了微结构器件的性能与应用。针对高深宽比柱状微结构在光刻胶厚度方向上畸变的特点,提出了双面曝光和亮衬线、灰阶掩模相结合的办法,利用遗传算法对失真影响最大的区域进行搜索,光刻胶内部各层的衍射光场分布作为评价函数,对光刻过程引起的畸变进行优化。仿真结果显示,优化后光刻胶各层面型质量得到极大的改善,特征尺寸和边墙角等参数与理论值吻合得更好。优化算法具有很好的灵活性,因此在用于更厚光刻胶、更复杂掩模图形的优化上,具有重要的指导意义。
何骏刘世杰王斌郭猛王岳亮
关键词:光刻光学邻近效应遗传算法
等离子体烧蚀引起光束调制的功率谱密度计算被引量:1
2015年
采用电子束蒸发制备了1064 nm高反膜样品,并通过激光预处理系统对样品表面的部分区域进行了光栅式扫描,形成等离子体烧蚀区域。搭建了光束质量测试系统,记录在样品表面有无等离子体烧蚀两种情况下的反射光束的空间强度分布。采用经典周期图法,分别计算了各自的强度分布的功率谱密度。结果表明,等离子体烧蚀导致的传输光束峰值强度对应于功率谱密度曲线中心峰值强度,而周期性起伏则体现在相应频率下的峰值。因此功率谱密度曲线可以作为表征光学元件对传输光束调制的手段。
郭猛李大伟吴建波王虎何骏王岳亮柴英杰符燕燕
关键词:表面光学激光预处理功率谱密度
共1页<1>
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