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高玉祥

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：北京农业智能装备技术研究中心更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文专利

主题

  • 4篇栽培
  • 4篇基质
  • 4篇基质栽培
  • 2篇滴灌
  • 2篇滴灌管
  • 2篇多孔
  • 2篇多孔陶瓷
  • 2篇营养液
  • 2篇栽培植物
  • 2篇植物
  • 2篇陶瓷
  • 2篇控制系统
  • 2篇供液
  • 2篇负水头
  • 2篇感器
  • 2篇传感
  • 2篇传感器
  • 2篇传感器检测
  • 1篇水头

机构

  • 4篇北京农业智能...

作者

  • 4篇张建丰
  • 4篇张芳
  • 4篇薛绪掌
  • 4篇余礼根
  • 4篇高玉祥
  • 4篇王利春
  • 4篇郭文忠
  • 2篇陈菲

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2015
  • 2篇2014
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
一种基于负水头的基质栽培营养液供给控制系统
本发明提供了一种基于负水头的基质栽培营养液供给控制系统，本发明中，在基于负水头方式的供液系统中增加了用于对多孔陶瓷盘周围基质进行淋洗的滴灌管，本领域技术人员可以理解，通过使用本发明提供的供液系统，用户能够实现对基质的淋洗...
薛绪掌张芳张建丰王利春高玉祥陈菲余礼根郭文忠
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一种基质栽培营养液供液控制方法及系统
本发明提供了一种基质栽培营养液供液控制方法及系统，预先设置供液时间间隔，预先设置供液阈值，包括：S1：按照所述供液时间间隔对基质进行供液；S2：通过传感器检测基质中水的参数；S3：判断所述水的参数是否达到所述供液阈值，如...
薛绪掌张芳张建丰高玉祥余礼根王利春郭文忠
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一种基质栽培营养液供液控制方法及系统
本发明提供了一种基质栽培营养液供液控制方法及系统，预先设置供液时间间隔，预先设置供液阈值，包括：S1：按照所述供液时间间隔对基质进行供液；S2：通过传感器检测基质中水的参数；S3：判断所述水的参数是否达到所述供液阈值，如...
薛绪掌张芳张建丰高玉祥余礼根王利春郭文忠
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一种基于负水头的基质栽培营养液供给控制系统
本发明提供了一种基于负水头的基质栽培营养液供给控制系统，本发明中，在基于负水头方式的供液系统中增加了用于对多孔陶瓷盘周围基质进行淋洗的滴灌管，本领域技术人员可以理解，通过使用本发明提供的供液系统，用户能够实现对基质的淋洗...
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