2025年3月26日
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张安邦
作品数:
10
被引量:1
H指数:1
供职机构:
电子科技大学
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相关领域:
电子电信
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合作作者
周琦
电子科技大学
张波
电子科技大学
施媛媛
电子科技大学
陈万军
电子科技大学
王泽恒
电子科技大学
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机构
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电子科技大学
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张安邦
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张波
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周琦
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陈万军
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施媛媛
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王泽恒
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刘丽
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胡凯
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李建
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陈博文
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年份
1篇
2021
2篇
2019
1篇
2018
2篇
2017
1篇
2016
3篇
2015
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10
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一种横向恒流二极管
本发明属于半导体技术领域,涉及一种横向恒流二极管(CRD)。本发明克服了传统的硅基CRD器件恒定电流与击穿电压强烈的矛盾关系,利用GaN材料高耐压的优良特性,在该型AlGaN/GaN CRDs器件在实现较大恒定电流的同时...
陈万军
张安邦
信亚杰
施宜军
胡官昊
刘杰
周琦
张波
文献传递
硅基AlGaN/GaN功率二极管研究
化合物半导体材料GaN具有禁带宽度大、临界击穿电场强度高、化学性质稳定等特点,是制备下一代功率半导体器件的理想材料之一。由于AlGaN/GaN异质界面处非掺杂形成的二维电子气(Two-dimensional Electr...
张安邦
关键词:
功率二极管
氮化镓
刻蚀工艺
文献传递
一种具有栅控结构的GaN异质结功率二极管
本发明属于半导体技术领域,具体的说涉及一种具有栅控结构的GaN异质结功率二极管。本发明的二极管的阳极由两部分构成,一部分肖特基金属淀积在全刻蚀形成的凹槽中,形成肖特基金属-二维电子气(2DEG)接触;另一部分肖特基金属淀...
周琦
李建
王泽恒
施媛媛
张安邦
刘丽
张波
文献传递
一种GaN基隧穿FinFET器件及其制造方法
本发明提供一种GaN基隧穿FinFET器件及其制造方法,器件包括:衬底、叠层、栅绝缘介质层以及栅金属层,叠层包括GaN层、XN层、源极金属层,XN层上方设有漏极金属层,制造方法步骤为:原始材料为具有XN/GaN外延层的晶...
周琦
张安邦
陈博文
靳旸
施媛媛
王泽恒
李建
张波
文献传递
硅基氮化镓横向栅控混合阳极功率二极管
GaN/GaN异质结器件因其高的临界击穿电场、高电子迁移率和良好的温度特性在下一代大功率和高频应用中展现出了巨大的潜力,二极管是电力电子应用中不可或缺的器件,制造一个具有开启电压(VT低、反向漏电小(IR<1μA/mm)...
陈博文
周琦
张安邦
施媛媛
靳旸
陈万军
张波
关键词:
功率模块
单片集成
一种Nano‑Fin栅结构的混合阳极二极管
本发明属于半导体技术领域,涉及一种Nano‑Fin栅结构的混合阳极二极管。本发明中栅极为Nano‑Fin状的结构,通过等间距或不等间距的方式刻蚀势垒层为插指状,实现栅槽下方和栅槽之间异质结内二维电子气浓度可调制的一种新技...
周琦
胡凯
张安邦
朱厉阳
张波
立体多槽栅增强型HEMT器件及其制备方法
本发明提供一种立体多槽栅增强型HEMT器件及其制造方法,包括衬底、衬底上方的异质结、栅极、源极和漏极,栅极设有多个U型槽构成的立体多槽栅结构,该立体多槽栅结构通过刻蚀异质结形成,在漏极至源极方向相邻U型槽之间的距离依次减...
周琦
张安邦
施媛媛
刘丽
王泽恒
陈万军
张波
文献传递
立体多槽栅增强型HEMT器件及其制备方法
本发明提供一种立体多槽栅增强型HEMT器件及其制造方法,包括衬底、衬底上方的异质结、栅极、源极和漏极,栅极设有多个U型槽构成的立体多槽栅结构,该立体多槽栅结构通过刻蚀异质结形成,在漏极至源极方向相邻U型槽之间的距离依次减...
周琦
张安邦
施媛媛
刘丽
王泽恒
陈万军
张波
文献传递
一种Nano-Fin栅结构的混合阳极二极管
本发明属于半导体技术领域,涉及一种Nano‑Fin栅结构的混合阳极二极管。本发明中栅极为Nano‑Fin状的结构,通过等间距或不等间距的方式刻蚀势垒层为插指状,实现栅槽下方和栅槽之间异质结内二维电子气浓度可调制的一种新技...
周琦
胡凯
张安邦
朱厉阳
张波
文献传递
一种新型的GaN异质结场效应晶体管
本发明公开了一种新型的GaN异质结场效应晶体管。本发明通过在场效应晶体管的GaN沟道层局部区域引入P型GaN埋层,该P型GaN埋层可以提升该区域异质结能带从而降低局部沟道2‑DEG浓度同时在GaN沟道层沿着电流方向引入了...
周琦
魏东
张安邦
朱若璞
董长旭
石瑜
黄芃
王方洲
陈万军
张波
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